JPH07193115A

JPH07193115A - 真空処理装置

Info

Publication number: JPH07193115A
Application number: JP6282563A
Authority: JP
Inventors: Yasumasa Ishihara; 保正石原; Tatsuya Nakagome; 達也中込; Takashi Tozawa; 孝戸澤; Koji Suzuki; 鈴木　　孝治
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority date: 1993-10-22
Filing date: 1994-10-21
Publication date: 1995-07-28
Anticipated expiration: 2016-11-05
Also published as: JP3225170B2

Abstract

(57)【要約】【目的】メンテナンス時などにおける組立作業や分解
作業を行う場合に作業性に優れている真空処理装置を提
供すること。処理ガス供給管と外管よりなる二重配管を
狭いスペースで固定すること。【構成】搬送手段２１を備えた搬送室２にカセット室
３Ａ、３Ｂ及び真空処理室４Ａ〜４Ｃを気密に接続し、
搬送室２及びカセット室３Ａ、３Ｂを支持フレーム２０
上に載せると共に真空処理室４Ａ〜４Ｃを夫々独立した
支持フレーム４０Ａ〜４０Ｃ上に載せ、これら支持フレ
ームを、底面部をなす共通の基台７上に設置しこの基台
７内に電気配線及びガス配管を引き回す。また拡径部の
前後に、通気路を備えたリング状部が形成され、径方向
に分割可能な固定部材を用い、その中心部に処理ガス供
給管を通し、リング状部に外管をなす樹脂チューブを嵌
合し、固定部材を例えば支持フレームに固定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング及びスパッ
タリングなど種々の装置があり、また装置のタイプとし
ても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導体
製造装置は、半導体の高集積化、高スループット化に対
応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式の
真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の搬
送室に接続し、共通の入出力ポートから各真空処理室に
搬送する装置も知られている。

【０００３】図１２はこのような装置を示す図であり、
進退自在及び回転自在な搬送アーム１１を備えた搬送室
１２に複数の真空処理室１３及びカセット室１４を、搬
送アーム１１の回転中心に対して放射状に接続して真空
処理装置が構成され、半導体ウエハ（以下ウエハとい
う）を例えば２５枚収納したウエハカセット１０をカセ
ット室１４内に搬入し、この中を減圧した後搬送アーム
１１によりウエハカセット１０内のウエハを順次真空処
理室１３内に搬送し、例えば各真空処理室１３内で並行
してウエハの処理を行うようにしている。

【０００４】このような装置をクリーンルーム内に設置
するにあたっては、装置全体を載置できる大きさの支持
フレームをクリーンルーム内の床面に配置し、この支持
フレーム上に搬送室１２や真空処理室１３を載置すると
共に、支持フレームの内部空間にコントロールボック
ス、マッチングボックス及び真空ポンプなどを配設して
装置を組み立てている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の装
置では、搬送室１２や真空処理室１３に対して共通の支
持フレームを用いているため、メンテナンス時に分解、
組立てを行う場合、例えば搬送室１２の組立が行われて
いる間は真空処理室の組立作業ができないなどの不具合
があるし、また支持フレームの中に入って作業する場
合、電気配線やガス配管が床面に引き回わされているの
で、これらを引掛けないように注意を払いながら作業し
なければならず、作業性が悪いという問題もあった。

【０００６】また真空処理室へ処理ガスを供給するため
のガス配管については、クリーンルーム内へのガスの漏
洩を防止するため、例えば蛇腹状の薄い樹脂チューブの
中に処理ガス供給管を挿通すると共に樹脂チューブの中
を排気するようにしている。ところでこのような二重配
管を支持フレームの配管固定部に固定するためには、樹
脂チューブの中が排気されるので、気密な板金ボックス
の前後両端に樹脂チューブを接続し、このボックス内を
処理ガス供給管を貫通させるように構成しているが、板
金ボックスを用いるとかなり大型化してしまう。一方支
持フレーム内はコントローラあるいは排気管や電気配線
などで混み合っているため、こうした大型構造体は設置
場所に制限がある上、狭いスペースが一層狭くなり、メ
ンテナンスの作業性も悪くなるという問題がある。

【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、メンテナンス時などにおけ
る組立作業や分解作業を行う場合に作業性が優れた真空
処理装置を提供することにある。

【０００８】本発明の他の目的は、処理ガス供給管を可
撓性の材質よりなる外管で覆った二重配管構造とする場
合、この二重配管を狭いスペースで固定することのでき
る真空処理装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、真空
雰囲気とされる搬送室に、複数の真空処理室と真空雰囲
気とされる容器載置室とを気密に接続し、搬送室内の搬
送手段により、容器載置室内の容器及び真空処理室間で
被処理体の搬送を行う真空処理装置において、各真空処
理室毎に独立して設けられ、真空処理室を夫々支持する
ための第１の支持フレームと、これら第１の支持フレー
ムとは独立して設けられ、前記搬送室を支持するための
第２の支持フレームと、これら第１及び第２の支持フレ
ームが載置される共通の底面部をなす基台と、を有し、
前記真空処理室、搬送室または容器載置室で使用される
電気配線及びガス配管を前記基台の中に引き回わしたこ
とを特徴とする。

【００１０】請求項２の発明は、真空処理室内に処理ガ
ス供給管を通じて処理ガスを供給し、被処理体を真空処
理する装置であって、処理ガスの漏洩防止のために可撓
性の材質よりなる外管の中に処理ガス供給管を通して二
重配管とし、外管の内部空間を排気するように構成した
真空処理装置において、拡径部の前後にリング状部が形
成されると共に径方向に分割可能な固定部材を、処理ガ
ス供給管の外周面に嵌合して設け、前記外管を長さ方向
に分割してその分割端の一方及び他方を拡径部の前後の
リング状部の外周面に夫々外嵌させて接続し、分割され
た外管の一方から前記固定部材を介して他方に亘って通
気できるように、前記リング状部に管路に沿った通気路
を形成すると共に、前記拡径部を配管固定部に固定する
ように構成したことを特徴とする。

【００１１】

【作用】請求項１の発明では、各真空処理室毎に支持フ
レームが独立して設けられ、搬送室についても独立した
支持フレームを用いているため、例えばメンテナンス後
に装置を組み立てる場合、各真空処理室及び搬送を並行
して組み立てその後これらを共通の基台上に載せて結合
すればよい。しかも電気配線やガス配管が基台の中に引
き回わされているので支持フレームの中に入って取り付
けあるいは取り外し作業を行う場合も作業が行いやす
い。また請求項２の発明では処理ガス供給用の二重配管
の固定部材を小型にでき、また固定部材が径方向に分解
できるのでその装着も簡単であり、メンテナンス作業が
容易になる。

【００１２】

【実施例】図１は本発明の実施例の全体構成を示す概観
斜視図である。図中２は気密構造の直方体形状の搬送室
であり、この搬送室２の周囲には、２５枚のウエハＷを
収納するための容器であるウエハカセット（以下単にカ
セットという）が載置される気密構造の２個のカセット
室３Ａ、３Ｂ及び３個の真空処理室４Ａ〜４Ｃが図２及
び図３にも示すように当該搬送室２に対して夫々ゲート
バルブＧを介して気密に接続されて設けられている。

【００１３】前記カセット室３Ａ、３Ｂは、例えば一方
（３Ａ）が搬入用、他方（３Ｂ）が搬出用として使用さ
れ、上部には蓋部３１が形成されると共に、内部にはカ
セットＣを昇降する昇降機構３２が設けられている。ま
た図２及び図３に示すようにカセット室３Ａ、３Ｂの底
部には（ただし図３では便宜上横に描いてある）夫々排
気管３３ａ、３３ｂが接続され、これら排気管３３ａ、
３３ｂは、バルブＶ１ａ、Ｖ１ｂを介して共通の真空ポ
ンプ例えばドライポンプ３３ｃに接続されている。

【００１４】前記真空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）は、例
えばマグネットを用いたプラズマエッチングを行うよう
に構成されており、サセプタを兼用する下部電極４１及
び上部電極４２が設けられると共に処理ガス供給管４３
及び排気管４４が接続されている。上部電極４２の上方
にはマグネットユニット４５が真空処理室とは分割され
て設けられており、このマグネットユニット４５は筐体
４５ａの中に処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）内に磁場を形成
するマグネット４６及びこのマグネット４６の磁極と反
対の磁極が互に上下に重なるように形成された磁場漏洩
防止用のマグネット４７並びにこれらを回転させるモー
タ４８を収納して構成されている。

【００１５】前記下部電極４１内には、ウエハＷを冷却
するための冷媒溜５が形成されており、この冷媒溜５に
は冷媒供給管５１と冷媒排出管５２とが接続されてい
る。各真空処理室４Ａ〜４Ｃは同一構成であり、図３に
示すように各真空処理室４Ａ〜４Ｃの冷媒供給管５１及
び冷媒排出管５２は共通の冷媒循環装置５３に接続され
ている。このように共通の冷媒循環装置５３を用いれ
ば、コストダウン及び装置スペースの削減が図れる。

【００１６】また真空処理室４Ａ〜４Ｃの各排気管４４
には図２及び図３に示すように夫々真空排気用の主ポン
プ例えばターボ分子ポンプ６Ａ〜６Ｃが接続されてお
り、これらターボ分子ポンプ６Ａ〜６Ｃの排気側には、
各ターボ分子ポンプ６Ａ〜６Ｃの排気側の圧力を所定の
圧力に調整するための共通の補助ポンプ例えば共通のド
ライポンプ６１が接続されている。ターボ分子ポンプ６
Ａ〜６Ｃの吸気側及び排気側には夫々バルブＶ４ａ、Ｖ
５ａ、Ｖ６ａおよびＶ４ｂ、Ｖ５ｂ、Ｖ６ｂが接続され
ると共に、ターボ分子ポンプ６Ａ〜６Ｃに対して、夫々
バルブＶ４ｃ、Ｖ５ｃ、Ｖ６ｃを備えたバイパス６０
Ａ、６０Ｂ、６０Ｃが並列に接続されている。このよう
に各真空処理室４Ａ〜４Ｃに対して共通のドライポンプ
６１を用いれば、コストダウン及び用力室等のスペース
の削減が図れる。このような真空排気系で真空処理室６
Ａ〜６Ｂを真空排気する場合には、先ずバルブＶ４ａ〜
Ｖ６ａ及びＶ４ｂ〜Ｖ６ｂを閉じかつバルブＶ４ｃ〜Ｖ
６ｃを開き、ドライポンプ６１で例えば真空処理室６Ａ
〜６Ｂ内が１Ｔｏｒｒの真空度になるまで真空引きし、
次いでバルブＶ４ａ〜Ｖ６ａ及びＶ４ｂ〜Ｖ６ｂを開き
かつバルブＶ４ｃ〜Ｖ６ｃを閉じ、ターボ分子ポンプ６
０Ａ〜６０Ｃで真空処理室６Ａ〜６Ｂ内を所定の真空度
まで真空引きする。

【００１７】前記搬送室２内には、カセット室３Ａ、３
Ｂ及び真空処理室４Ａ〜４Ｃ間でウエハを搬送するため
の例えば各々独立して水平に回動可能な３本の搬送アー
ムを備えた多関節アームよりなる搬送手段２１が配設さ
れている。搬送手段２１の駆動部２２は、搬送室２の底
壁の下方側の気密なケース部２３内に設けられており、
このケース部２３内を排気管３５を介して例えばドライ
ポンプ３４ａ及びターボ分子ポンプ３４ｂにより真空排
気することにより軸受け部からのパーティクルの飛散を
防止している。また搬送室２には、排気管３６が接続さ
れ、この排気管３６には前記ドライポンプ３４ａ及びタ
ーボ分子ポンプ３４ｂを含む真空排気系に接続されてい
る。図３中Ｖ２、Ｖ３、Ｖ３ａ、Ｖ３ｂ、Ｖ３ｃはバル
ブである。更に搬送室２内にはウエハの位置合わせ用の
回転ステージ２４やバッファステージ２５が配設されて
いる。前記搬送室２の上面には、搬送室２内を開放また
は気密にシールして閉じる蓋２６が取り付けられてお
り、この蓋２６の内面側には不活性ガス例えばＮ₂ガス
を供給する不活性ガス供給部２７が設けられている。こ
の不活性ガス供給部２７は、例えば焼結金属などの多孔
質材で作られた管状体よりなり、ガス供給路２８に接続
されている。ガス供給路２７は、蓋２６の内側から外面
に貫通すると共に、その外面に沿って縁部まで伸び、そ
の縁部から前記蓋２６の内面に貫通し更に搬送室２の側
壁部を通って外部に引き出され、図示しない不活性ガス
供給源に接続されている。ただしガス供給路２７におい
て、蓋２６及び搬送室２の側壁部を貫通している個所は
これらの中に形成した孔路よりなる。ここで本発明実施
例の組み立て構造に関して図１及び図４を参照しながら
説明すると、前記搬送室２及びカセット室３Ａ、３Ｂ
は、枠材や板材を組み立ててなる共通の第１の支持フレ
ーム２０上に支持されると共に、各真空処理室４Ａ〜４
Ｃは、第１の支持フレーム２０とは独立しかつ互に独立
している第２の支持フレーム４０Ａ〜４０Ｃ上に夫々支
持されている。これら第１及び第２の支持フレーム２
０、４０Ａ〜４０Ｃは装置の底面部をなす箱型の基台７
上に載置されている。

【００１８】前記支持フレーム４０Ａ（４０Ｂ、４０
Ｃ）の上には、マグネットユニット４５、真空処理室４
Ａの上面部とその上方位置との間で昇降させるための後
述する昇降機構８が設置されている。また支持フレーム
４０Ａ（４０Ｂ、４０Ｃ）の下には、真空処理室内にお
ける高周波電力の印加のためのマッチングボックス７１
や各駆動部やバルブなどの制御を行うためのコントロー
ルボックス７２などが収納されている。

【００１９】そして前記基台７の中には、処理ガス供給
管４３、各室の真空排気用の排気管（図４では搬送室２
の排気管３０を代表して示してある。）、電気配線７０
及び電磁弁の作動用エアー管などが引き回わされてい
る。電気配線としては、高周波電源等の電力供給線、各
モータやバルブなどの制御信号線、及び温度、圧力など
の検出信号線などが相当する。なお基台７の上面には、
図４にＳ１、Ｓ２の符号で代表して示すように、ガス配
管や電気配線の引き回しのレイアウトに応じて蓋板が設
けられ、内部の電気配線などのメンテナンスができるよ
う構成されると共に、ガス配管や電気配線を上方に引き
出すための穴（図示せず）が形成されている。

【００２０】次にマグネットユニット４５の前記昇降機
構８に関して述べると、前記昇降機構８は、図５に示す
ように互に対向する一対の支持板８１、８１の各々に、
前方側に伸び出すと共に鉛直面に沿って回動する２本１
組のアーム８２ａ、８２ｂを備えている。

【００２１】この１組のアーム８２ａ、８２ｂの上側の
アーム８２ａは基端部が支持板８１に軸支されると共
に、先端部が筐体４５ａの側面に軸支されている。また
下側のアーム８２ｂは、支持板８１、８１間に軸支され
た回動軸８３の端部に固定されると共に、先端部が管体
４５ａの側面に軸支されており、アーム８２ａ、８２ｂ
が回動したときに筐体４５ａが水平姿勢を保ったまま昇
降するように構成される。

【００２２】前記回動軸８３の中央部には、前方斜め上
に突出する作動部８４が形成されると共に、この作動部
８４の上端部には、上部後方から伸び出した伸縮ロッド
８５の下端が軸支されている。前記伸縮ロッド８５の上
端は、支持板８１に固定された駆動部８６の駆動により
当該伸縮ロッド８５を伸縮動作させるための伝達手段８
７に、組み合わされている。従って伸縮ロッド８５を縮
退させると作動部８４の先端部が引き上げられるので、
回動軸８３が図５中反時計方向に回動し、これによりア
ーム８２ａ、８２ｂが上方側に回動して図６（ａ）に示
すように筐体４５ａが上昇する。なお伸縮ロッド８５を
伸長させれば逆の動作により図６（ｂ）に示すように筐
体４５ａが降下する。

【００２３】このように筐体４５ａを昇降させるように
すれば、筐体４５ａを鉛直方向に直線状に上昇させ更に
水平方向に直線状に引き出す機構に比べて、筐体４５ａ
の上方にガイド機構が不要になる点でスペース上有利で
ある。

【００２４】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず搬送室２及び真空処理室４Ａ〜４Ｃ内を所定の真空度
まで夫々真空排気すると共に、一方のカセット室３Ａ内
に処理前のウエハを収納したカセットＣを載置しかつ他
方のカセット室３Ｂに空のカセットＣを載置し、蓋３１
を閉じてカセット室３Ａ、３Ｂ内を真空排気する。続い
てカセット室３Ａ、３Ｂと搬送室２との間のゲートバル
ブＧを開くことになるが、大気側に開放されていたカセ
ット室３Ａ、３Ｂから搬送室２にパーティクルが入り込
まないようにするために、不活性ガス供給部２７から搬
送室２内に例えばＮ₂ガスを供給して、カセット室３
Ａ、３Ｂよりも搬送室２が陽圧になるように、例えば搬
送室２内の圧力が数百ｍｍＴｏｒｒになるようにし、そ
の後前記ゲートバルブＧを開く。そして搬送手段２１に
よりカセット室３Ａ内のカセットＣから１枚づつウエハ
Ｗを受け取って例えば真空処理室４Ａ内に搬送し、真空
処理室４Ａ内では、サセプタ４１及び上部電極４２間の
高周波電力とマグネット４６の磁場のエネルギーとによ
り処理ガスをプラズマ化し、このプラズマによりウエハ
に対してエッチングが行われる。カセットＣ内のウエハ
Ｗは、上述のような搬送工程により例えば各真空処理室
４Ａ〜４Ｃに分配され、並行して真空処理例えばプラズ
マエッチングが行われる。処理後のウエハＷは搬送手段
２１により他方のカセット室３Ｂ内のカセットに受け渡
される。

【００２５】そしてこの装置について製造時あるいはメ
ンテナンスを行った後に装置の組み立てを行う場合、搬
送室２及びカセット室３Ａ、３Ｂよりなるユニット、及
び各真空処理室４Ａ〜４Ｃのユニット毎に予め組み立て
を行い、組み立てられたユニットを基台７上で組み合わ
せる。例えば真空処理室４Ａのユニットの場合、支持フ
レーム４０Ａに真空処理室４Ａを載置し、関連する機器
類を装着してユニットの組み立てを行い、こうした作業
を他のユニットについても行い、各支持フレーム４０Ａ
〜４０Ｃ及び２０毎に組み立てられたユニットを基台７
に載せて組み合わせる。

【００２６】従って各ユニットの組み立てを並行して行
うことができるので短時間で作業を行うことができる
し、また装置の一部を交換する場合例えば真空処理室４
Ａを交換する場合、当該支持フレーム４０Ａを他のユニ
ットから切り離して交換作業を行うことができるので作
業性が良い。

【００２７】またガス配管や電気配線が基台７の中に引
き回わされているため、真空処理室などの各ユニットを
組み立てた後支持フレーム（２０、４０Ａ〜４０Ｃ）を
基台７の上に容易に運び込んで設置することができる
し、また各支持フレームを基台の外に運び出す作業も容
易であり、更に基台７の上に乗って作業をする場合にも
電気配線などが足に絡まないので作業しやすい。また上
述の真空処理装置をクリーンルーム内に複数台設置する
場合には、図７に示すように各真空処理装置Ｓ１〜Ｓｎ
の真空処理室４全部の排気系のドライポンプ６１を共通
にすることが好ましく、このようにすれば各真空処理装
置毎にドライポンプ６１を設ける場合に比べてドライポ
ンプの能力を大きくしなければならないが、価格は低く
なる上、床面積を小さくできるという利点がある。

【００２８】以上において、搬送室２などの底面の下方
側に真空ポンプ例えばターボ分子ポンプを鉛直方向に向
けて取り付ける場合には、図８に示すように真空ポンプ
６２（例えば上述実施例の真空ポンプ３４に相当する）
の下部にジャッキ機構６３を設けると共に、このジャッ
キ機構６３を、キャスタ６４を備えた移動枠体６５に組
み合わせて取り付けることが好ましい。このように構成
すれば、大重量の真空ポンプ６２をジャッキ機構６３に
より降下させて横に引き出すことができるので、真空ポ
ンプ６２の脱着が容易になり装置のメンテナンス時に便
利である。

【００２９】また真空処理室４Ａ〜４Ｃなどの側壁に図
９に示すように、バタフライバルブＶＡ、ゲートバルブ
ＶＢ及び真空ポンプ６例えばターボ分子ポンプを水平に
向けて取り付ける場合には、同図に示すように例えば支
持フレーム４０Ａ上に水平なガイドレール６６を設ける
と共に、これにガイドされて水平に移動する、車輪６７
を備えた移動台６８上に真空ポンプ６を載置することが
好ましく、この場合には真空ポンプ６を容易に横に引き
出せるので、バタフライバルブＶＡ、ゲートバルブＶＢ
及び真空ポンプ６のいずれのメンテナンス時に便利であ
る。

【００３０】一方処理ガス供給管４３は、実際には処理
ガスの漏洩防止のために、可撓性の材質例えば樹脂チュ
ーブの中に通されて二重配管とされており、この樹脂チ
ューブの中は常時排気されて負圧とされている。図１０
は、このような二重配管を固定する場合の好ましい構成
を示すものであり、ガス流量やガス圧力などを制御する
ユニット部を備えたガスボックス９０と真空処理室４Ａ
（４Ｂ、４Ｃ）との間に、樹脂チューブ９１の中に処理
ガス供給管４３を通してなる二重配管が配設されてい
る。なお樹脂チューブ９１内には負圧により萎まないよ
うリング９１ａが配列されている。二重配管の途中に
は、固定部材９が設けられており、この固定部材９は、
拡径部例えば正方形の肉厚の板状部９２の前後（表裏）
にリング状部９３が夫々形成されると共に径方向に例え
ば半分づつ分割可能に構成されている。

【００３１】前記板状体９２の中央には、図１１に示す
ように処理ガス供給管４３に適合する貫通孔９４が形成
されており、分割された固定部材９（９Ａ、９Ｂ）を処
理ガス供給管４３の両側から挟み込むようにして、処理
ガス供給管４３の外周面に固定部材９を外嵌させ、ボル
ト９４ａ（図１０では図示していない）で固定部材９
Ａ、９Ｂ同士を固定しかつ配管固定部、例えば図４の実
施例の基台７内の底板に固定する。そして樹脂チューブ
９１は長さ方向に２つに分割されており、その分割端の
一方及び他方が夫々リング状部９３の外周面に外嵌され
ると共に、分割端の一方から他方に亘って通気できるよ
うに、一方のリング状部９３から板状部９２を介して他
方のリング状部９３に伸びる通気路９５が同心円状に形
成されている。

【００３２】なおガスボックス９０に接続された排気管
９６によりガスボックス９０内を排気することで、樹脂
チューブ９１内が矢印で示すように排気される。このよ
うにして二重配管を固定すれば、従来のように板金ボッ
クスを用いていた場合に比べ固定部材が小型化できるの
でスペース効率がよいし、また例えば支持フレーム上や
人が通る所に固定部材を設ける場合などには、メンテナ
ンス時における作業の邪魔になりにくい。

【００３３】以上において、真空処理室としてはマグネ
ットを用いたエッチングを行う処理室に限らず、プラズ
マＣＶＤ、熱ＣＶＤ、アッシング、スパッタリングなど
を行う真空処理室であってもよいし、各真空処理室にて
別々の真空処理を行うようにしてもよい。なお被処理体
としてはウエハに限らずＬＣＤ基板などであってもよ
い。

【００３４】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、各真空処理室
及び搬送室毎に支持フレームを独立して設け、また各支
持フレームを載せている基台の中に電気配線及びガス配
管を引き回しているため、メンテナンス時における作業
性が優れている。

【００３５】請求項２の発明によれば、処理ガス供給用
の二重配管の配管固定部を小型にできるのでスペース効
率が良い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の全体構成を示す概観斜視図で
ある。

【図２】本発明の実施例のカセット室、搬送室及び真空
処理室を示す断面図である。

【図３】本発明の実施例のカセット室、搬送室及び真空
処理室を示す平面図である。

【図４】本発明の実施例の真空処理室などの支持フレー
ムの配置を示す分解斜視図である。

【図５】マグネットを収納した筐体の昇降機構を示す斜
視図である。

【図６】マグネットを収納した筐体の昇降機構の作用説
明図である。

【図７】真空処理装置を複数台設置した場合の排気系の
一例を示す説明図である。

【図８】真空ポンプのガイド機構の一例を示す側面図で
ある。

【図９】真空ポンプのガイド機構の他の例を示す側面図
である。

【図１０】二重配管の固定構造を示す斜視図である。

【図１１】二重配管の固定部を示す分解斜視図である。

【図１２】従来の真空処理室を示す平面図である。

【符号の説明】

２搬送室２１搬送手段２０第１の支持フレーム３Ａ、３Ｂカセット室４Ａ〜４Ｃ真空処理室４０Ａ〜４０Ｃ第２の支持フレーム４３処理ガス供給管４５マグネットユニット５３冷媒循環装置６ターボ分子ポンプ６１ドライポンプ７基台８昇降機構９固定部材９１樹脂チューブ９２板状部Ｗ半導体ウエハ

フロントページの続き (72)発明者戸澤孝山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者鈴木孝治山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１東京エレクトロン山梨株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空雰囲気とされる搬送室に、複数の真
空処理室と真空雰囲気とされる容器載置室とを気密に接
続し、搬送室内の搬送手段により、容器載置室内の容器
及び真空処理室間で被処理体の搬送を行う真空処理装置
において、各真空処理室毎に独立して設けられ、真空処理室を夫々
支持するための第１の支持フレームと、これら第１の支持フレームとは独立して設けられ、前記
搬送室を支持するための第２の支持フレームと、これら第１及び第２の支持フレームが載置される共通の
底面部をなす基台と、を有し、前記真空処理室、搬送室または容器載置室で使用される
電気配線及びガス配管を前記基台の中に引き回わしたこ
とを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】真空処理室内に処理ガス供給管を通じて
処理ガスを供給し、被処理体を真空処理する装置であっ
て、処理ガスの漏洩防止のために可撓性の材質よりなる
外管の中に処理ガス供給管を通して二重配管とし、外管
の内部空間を排気するように構成した真空処理装置にお
いて、拡径部の前後にリング状部が形成されると共に径方向に
分割可能な固定部材を、処理ガス供給管の外周面に嵌合
して設け、前記外管を長さ方向に分割してその分割端の
一方及び他方を拡径部の前後のリング状部の外周面に夫
々外嵌させて接続し、分割された外管の一方から前記固
定部材を介して他方に亘って通気できるように、前記リ
ング状部に管路に沿った通気路を形成すると共に、前記
拡径部を配管固定部に固定するように構成したことを特
徴とする真空処理装置。