JP6019542B2 - Iii族窒化物結晶の製造方法およびiii族窒化物結晶製造装置 - Google Patents
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Description
液相成長法により第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造工程と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造工程とを含む、III族窒化物結晶の製造方法であって、
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、
窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、
前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とし、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、III族元素金属またはIII族元素化合物と窒素含有ガスとを反応させて前記第2のIII族窒化物結晶を製造することを特徴とする。
前記本発明の製造方法に用いるIII族窒化物結晶製造装置であり、
液相成長法により前記第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造手段と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により前記第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造手段とを含む。
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(A)は、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程である。
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(B)は、III族元素酸化物と還元性ガスとを反応させて、前記III族元素酸化物の還元物ガスを生成させる還元物ガス生成工程と、前記還元物ガスと窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を生成する結晶生成工程とを有する工程である。
前記種結晶選択工程において、
前記予め準備されたIII族窒化物が、基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶であり、
前記複数のIII族窒化物結晶を、前記種結晶として選択するか、
または、
前記種結晶選択工程において、
前記予め準備されたIII族窒化物が、III族窒化物結晶層であり、前記III族窒化物結晶層上に、複数の貫通孔を有するマスクが配置され、
前記貫通孔から露出した前記III族窒化物結晶層の面を、前記種結晶として選択してもよい。
前記予め準備されたIII族窒化物が、基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶であり、
前記複数のIII族窒化物結晶を、前記種結晶として選択し、かつ、
前記基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶は、前記基板上に形成されたIII族窒化物結晶層の一部を除去して形成されたIII族窒化物結晶であることが好ましい。
前記予め準備されたIII族窒化物が、III族窒化物結晶層であり、前記III族窒化物結晶層上に、複数の貫通孔を有するマスクが配置され、
前記貫通孔から露出した前記III族窒化物結晶層の面を、前記種結晶として選択し、かつ、
前記マスクが、前記III族窒化物結晶層に密着していないことが好ましい。
前記結晶成長工程において、前記III族窒化物結晶の成長により、互いに隣接する前記各ユニットから成長した前記III族窒化物結晶どうしを結合させることが好ましい。
本発明の製造方法は、前述のとおり、
液相成長法により第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造工程と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造工程とを含む、III族窒化物結晶の製造方法であって、
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、
窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、 前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とし、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、III族元素金属またはIII族元素化合物と窒素含有ガスとを反応させて前記第2のIII族窒化物結晶を製造することを特徴とする。
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、前述のとおり、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、
窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、
前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とする。
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程においては、前述のとおり、前記種結晶が、六方晶であり、前記種結晶選択工程において、互いに隣接する前記種結晶から成長した各結晶のm面どうしがほぼ重なり合わないように前記種結晶を配置することが好ましい。これにより、前記複数のIII族窒化物結晶が、それらの境界において、整然と結合(会合)しやすいため、前記第1のIII族窒化物結晶の結晶欠陥をより少なくすることができる。
(1) 隣接する2つの種結晶のそれぞれにおいて、3本のa軸の中から任意の1本を選択する。この選択によるa軸の組み合わせは、3×3=9通り存在する。
(2) 前記(1)で選択した2本のa軸のなす角をとる。
(3) 前記(1)の9通りの組み合わせのうち、前記(2)におけるなす角が最小になるa軸の組み合わせを、前記a軸とし、その組み合わせにおけるa軸どうしのなす角(前記(2))を、a軸どうしのなす角とする。
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程において、前記予め準備されたIII族窒化物(種結晶)は、特に限定されないが、例えば、AlxGayIn1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、x+y≦1)で表されるIII族窒化物である。前記予め準備されたIII族窒化物(種結晶)は、例えば、前記組成で表されるAlGaN、InGaN、InAlGaN、GaN等が挙げられ、GaNが特に好ましい。
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程における第1の液相成長法は、
前記種結晶選択工程において、
前記予め準備されたIII族窒化物が、基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶であり、
前記複数のIII族窒化物結晶を、前記種結晶として選択する。
つぎに、前記第1のIII族窒化物結晶製造工程における第2の液相成長法は、
前記種結晶選択工程において、
前記予め準備されたIII族窒化物が、III族窒化物結晶層であり、前記III族窒化物結晶層上に、複数の貫通孔を有するマスクが配置され、
前記貫通孔から露出した前記III族窒化物結晶層の面を、前記種結晶として選択する。
本発明の製造方法における前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、前述のとおり、予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とする。具体的には、例えば前記「1−1.第1のIII族窒化物結晶製造工程(液相成長法)」から「1−1−5.第2の液相成長法」において説明したとおりである。これら以外は、前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、特に限定されず、例えば、アルカリ金属融液を用いた一般的な液相成長法(LPE)によるIII族窒化物結晶の製造方法と同様に行っても良い。以下、その例について説明する。
本発明の前記第1のIII族窒化物結晶製造工程における前記第1の液相成長法において、前記III族窒化物結晶層および前記マスクから構成されたユニットを複数用いるか、または、本発明の前記第2の液相成長法において、前記基板および前記III族窒化物結晶から構成されたユニットを複数用いても良い。より具体的には、前記種結晶選択工程、前記接触工程および前記結晶成長工程において、前記ユニットを複数、近接させて並列に配置し、前記結晶成長工程において、前記III族窒化物結晶の成長により、互いに隣接する前記各ユニットから成長した前記III族窒化物結晶どうしを結合させれば良い。以下、この製造方法を、本発明の第3の液相成長法という。
前述のとおり、本発明の製造方法における前記第1のIII族窒化物結晶製造工程が、前記不純物元素調整液相成長法により前記第1のIII族窒化物結晶を製造する工程であっても良い。前記不純物元素調整液相成長法は、前述のとおり、少なくともアルカリ金属とIII族元素とを含む融液中において、III族窒化物結晶を製造する方法であって、前記融液中における、前記アルカリ金属およびIII族元素以外の不純物元素の含有量を調整する調整工程と、前記III族元素と窒素とが反応する反応工程と、を含むことを特徴とする、III族窒化物結晶の製造方法である。
本発明の製造方法は、前述のとおり、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程に先立ち、前記第1のIII族窒化物結晶を加熱処理する、第1のIII族窒化物結晶加熱工程を含んでいても良い。この第1のIII族窒化物結晶加熱工程は、行っても行わなくても良いが、前述のとおり、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程においてアルカリ金属の残留(インクルージョン)による不良を防止するために、行うことが好ましい。
つぎに、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(気相成長法)について説明する。
図23に、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(A)に用いる製造装置(気相成長法による前記第2のIII族窒化物結晶の製造装置)の構成の一例を示す。同図において、わかりやすくするために、各構成部材の大きさ、比率等は実際とは異なっている。図示のとおり、本例の製造装置100は、第1の容器101内部に、第2の容器102と基板支持部103とが配置されている。前記第2の容器102は、同図において、前記第1の容器101の左側面に固定されている。前記基板支持部103は、前記第1の容器101の下面に固定されている。前記第2の容器102は、下面にIII族元素金属載置部104を有する。前記第2の容器102は、同図において、左側面に酸化性ガス導入管105を備え、右側面にIII族元素金属酸化生成物ガス導出管106を備える。酸化性ガス導入管105により、第2の容器102内に酸化性ガスを連続的に導入(供給)可能である。前記第1の容器101は、同図において、左側面に窒素含有ガス導入管107aおよび107bを備え、右側面に排気管108を備える。窒素含有ガス導入管107aおよび107bにより、第1の容器101内に窒素含有ガスを連続的に導入(供給)可能である。さらに、前記第1の容器101の外部には、第1の加熱手段109aおよび109b並びに第2の加熱手段200aおよび200bが配置されている。ただし、本発明の製造方法に用いる製造装置は、この例に限定されない。例えば、この例では、前記第1の容器101内部に、前記第2の容器102が1つだけ配置されているが、前記第1の容器101内部に、前記第2の容器102が複数個配置されていてもよい。また、この例では、前記酸化性ガス導入管105は、一つであるが、前記酸化性ガス導入管105は、複数であってもよい。なお、図23の製造装置100は、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(A)に用いる装置として説明しているが、後述するように、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(B)にも用いることができる。
つぎに、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(A)における各工程、反応条件、および使用する原料等について説明する。しかし、本発明はこれに限定されない。なお、以下においては、図23の製造装置を用いて、または、これに代えて図25の製造装置を用いて前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(A)を実施する形態を説明する。
2Ga+H2O → Ga2O+H2 (I)
Ga2O+2NH3→2GaN+2H2O+2H2 (II)
つぎに、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程(B)における製造工程および反応条件等について、例を挙げて説明する。
Ga2O3+2H2→Ga2O+2H2O(III)
Ga2O+2NH3→2GaN+2H2O+2H2(IV)
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程により製造されるIII族窒化物結晶のサイズは、特に限定されないが、長径が15cm(約6インチ)以上であることが好ましく、20cm(約8インチ)以上であることがより好ましく、25cm(約10インチ)以上であることが特に好ましい。また、前記第2のIII族窒化物結晶の高さも特に限定されないが、例えば、1cm以上であっても良く、好ましくは5cm以上、より好ましくは10cm以上である。ただし、本発明の製造方法は、このような大サイズのIII族窒化物結晶の製造に限定されず、例えば、従来と同サイズのIII族窒化物結晶をさらに高品質に製造するために用いることも可能である。また、例えば、前記第2のIII族窒化物結晶の高さ(厚み)は、前述のとおり、特に限定されず、例えば、1600μm未満等であっても良い。
本発明のIII族窒化物結晶は、前記本発明の製造方法により製造されるIII族窒化物結晶、または前記III族窒化物結晶をさらに成長させて製造されるIII族窒化物結晶である。本発明のIII族窒化物結晶は、例えば、大サイズで、かつ、欠陥が少なく高品質である。品質は、特に限定されないが、例えば、転位密度が、前記「1.本発明の製造方法」に記載した数値範囲であることが好ましい。サイズについても特に限定されないが、例えば、前述のとおりである。また、本発明のIII族窒化物結晶の用途も特に限定されないが、例えば、半導体としての性質を有することにより、半導体装置に使用可能である。
本実施例では、以下のとおり、まず、液相成長法によりGaN結晶を製造し(第1のIII族窒化物結晶製造工程)、さらにその上に、気相成長法によりGaN結晶を製造した(第2のIII族窒化物結晶製造工程)。
図19に示す構造のLPE装置を用いてGaN結晶を製造した。この工程は、本発明の前記「第1のIII族窒化物結晶製造工程」に該当する。
温度[℃] 870
圧力[MPa] 3.2
時間[h] 192
Ga:Na 15:85
C[mol%] 0.5
坩堝 Al2O3
図23(図24)に示す装置を用いて、前記液相成長法により製造した第1のGaN結晶(GaN結晶層)上に、気相成長法によりGaN結晶を製造した(ホモエピ)。この工程は、本発明の前記「第2のIII族窒化物結晶製造工程」に該当する。
特開昭52−23600号公報に記載の方法と同様のハロゲン化気相成長法(本実施例において「HVPE法」という。)、前記実施例と同様の方法による液相成長法(本実施例において「Naフラックス法」という。)、および、前記実施例と同様の方法による気相成長法(本実施例において「OVPE法」という。)により、それぞれGaN結晶を製造し、結晶格子の構造および不純物濃度を測定した。結晶格子の構造の測定は、(株)リガク社製SmartLab(商品名)により、不純物濃度の測定は、アメテック(株)製IMS−7f(商品名)により行った。その結果を、下記表1に示す。下記表1に記載のとおり、Naフラックス法で製造した結晶の格子定数(a軸方向)は酸素濃度に依存して変化し、酸素濃度の増加とともに格子定数は大きくなることが確認された。また、OVPE法およびHVPE法の格子定数は、酸素濃度が1×1017cm−3のNaフラックス法結晶よりも大きく、酸素濃度が1×1020cm−3のNaフラックス法結晶よりも小さいことが確認された。また、Naフラックス法で製造した結晶の酸素濃度は、結晶の成長方位とも相関が見られ、c軸方向への成長では酸素濃度が低く、[10−11]方向への成長では酸素濃度が高くなることが確認された。さらに、Naフラックス法で製造したそれぞれの結晶の上に、OVPE法を用いて第2のIII族窒化物結晶を成長させたところ、酸素濃度1×1017cm−3及び1×1020cm−3のNaフラックス結晶ではOVPE法での結晶成長後に大きな反りおよびクラックが発生した。一方、酸素濃度1×1019cm−3のNaフラックス結晶では、反りおよびクラックの発生は見られなかった。
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程に先立ち、前記液相成長法により製造した第1のGaN結晶(GaN結晶層)を加熱処理する「第1のIII族窒化物結晶加熱工程」を行うこと以外は実施例1と同様にしてGaN結晶を製造した。前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程は、前記液相成長法により製造した第1のGaN結晶(GaN結晶層)を、サファイア基板除去後、窒素雰囲気下、常圧(大気圧と同等)において、1100℃で0.25hr(15分)加熱することにより行った。前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程の結果、ごくまれに、前記第1のGaN結晶(GaN結晶層)中の残留物(ナトリウムを含む)が爆発し、穴が開くことがあった。このように穴が開いた前記第1のGaN結晶(GaN結晶層)を除去し、前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程に穴が開かなかった前記第1のGaN結晶(GaN結晶層)のみを、次の、気相成長法によるGaN結晶製造(第2のIII族窒化物結晶製造工程)に供した。その結果、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において製造されたGaN結晶には、一切不良が発生せず、高品質のGaN結晶を得ることができた。
12a 凸部
13 III族窒化物結晶層
13b アルカリ金属を含む残留物
14、14a、14b 切断面
50 基板
51 III族窒化物結晶層
52 マスク
52a 貫通孔
53 III族窒化物結晶
54、54a、54b 切断面
361 原料ガスタンク
362 圧力調整器
363 リーク用バルブ
364 ステンレス容器
365 電気炉
366 坩堝
380 揺動型LPE装置
381 育成炉
382 ヒータ
383 熱電対
384 坩堝固定台
385 坩堝
386 融液
387 種結晶
388 流量調整器
389 管
3800 雰囲気ガス供給方向
3801 回転方向
3802 回転軸
4001 III族窒化物結晶製造装置
4002 液相成長法によるIII族窒化物結晶製造手段
4002a 第1のIII族窒化物結晶加熱手段
4003 気相成長法によるIII族窒化物結晶製造手段
5001 III族窒化物結晶
5001a III族窒化物結晶の結晶成長面
6001 サファイア基板
6002 III族窒化物結晶層
6003 成長方向がc軸に対し傾斜している成長領域
6004 成長方向がほぼc軸となっている成長領域
6005 成長方向がほぼc軸となっている反応工程後半の成長領域
1002 サファイア基板
1003 GaN結晶
100、300 第2のIII族窒化物結晶製造工程に用いる製造装置
101 第1の容器
102、301 第2の容器
103 基板支持部
104 III族元素金属載置部
105 酸化性ガス導入管
106 III族元素金属酸化生成物ガス導出管
107a、107b 窒素含有ガス導入管
108 排気管
109a、109b 第1の加熱手段
200a、200b 第2の加熱手段
201a、201b、401a、401b 酸化性ガスまたは還元性ガス
111a、111b III族元素金属酸化生成物ガス
202、400 基板
203a、203b、203c 窒素含有ガス
203d 排気ガス
204 III族窒化物結晶(GaN結晶)
302 III族元素金属導入管
402、110 III族元素金属
2001 III族窒化物結晶
2002 マスク
2003 III族窒化物結晶
2004 結晶欠陥
181a 種結晶
181b III族窒化物結晶
181c 半導体ウェハ
Claims (47)
- 液相成長法により第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造工程と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造工程とを含む、III族窒化物結晶の製造方法であって、
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、
窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、
前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とし、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、III族元素金属またはIII族元素化合物と窒素含有ガスとを反応させて前記第2のIII族窒化物結晶を製造し、
さらに、第1のIII族窒化物結晶加熱工程を含み、
前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程は、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程に先立ち、前記第1のIII族窒化物結晶を加熱処理する工程であり、
前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程における加熱温度が、前記第1のIII族窒化物結晶製造工程における結晶成長温度以上、かつ、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程における結晶成長温度以下であることを特徴とする、III族窒化物結晶の製造方法。 - 前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程を、窒素ガス含有雰囲気下で行う請求項1記載の製造方法。
- 前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程を、アンモニアガス含有雰囲気下で行う請求項1または2記載の製造方法。
- 液相成長法により第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造工程と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造工程とを含む、III族窒化物結晶の製造方法であって、
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程は、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程と、
窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程とを含み、
前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記第1のIII族窒化物結晶とし、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて前記第2のIII族窒化物結晶を製造することを特徴とする、III族窒化物結晶の製造方法。 - 前記III族元素金属が、ガリウム、インジウムおよびアルミニウムからなる群から選択される少なくとも一つである請求項4記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素酸化物と還元性ガスとを反応させて、前記III族元素酸化物の還元物ガスを生成させる還元物ガス生成工程と、前記還元物ガスと窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を生成する結晶生成工程とを有する工程である請求項1から5のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、結晶成長初期工程と、結晶成長後期工程とを含み、
前記結晶成長後期工程における結晶成長温度が、前記結晶成長初期工程における結晶成長温度よりも高い、請求項1から6のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記結晶成長初期工程における結晶成長温度が、前記第1のIII族窒化物結晶製造工程における結晶成長温度以上である請求項7記載の製造方法。
- 前記種結晶選択工程において、
前記予め準備されたIII族窒化物が、基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶であり、
前記複数のIII族窒化物結晶を、前記種結晶として選択し、かつ、
前記基板上に配置された複数のIII族窒化物結晶は、前記基板上に形成されたIII族窒化物結晶層の一部を除去して形成されたIII族窒化物結晶である請求項1から8のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記種結晶選択工程、前記接触工程および前記結晶成長工程において、前記基板および前記III族窒化物結晶から構成されたユニットを、複数、近接させて並列に配置し、
前記結晶成長工程において、前記III族窒化物結晶の成長により、互いに隣接する前記各ユニットから成長した前記III族窒化物結晶どうしを結合させ、
前記第1のIII族窒化物結晶製造工程において、前記種結晶が、六方晶であり、かつ、
互いに隣接する各ユニット間において、互いに隣接する前記種結晶から成長した各結晶のm面どうしがほぼ重なり合わないように前記種結晶を配置する請求項9記載の製造方法。 - 互いに隣接する各ユニット間において、互いに隣接する前記種結晶のa軸どうしまたはc軸どうしがほぼ重なり合うように前記種結晶を配置する請求項10記載の製造方法。
- 前記種結晶が、c面を有し、
前記種結晶選択工程において、前記c面を前記種結晶の結晶成長面として選択し、
互いに隣接する各ユニット間において、互いに隣接する前記種結晶のa軸どうしがほぼ重なり合うように前記種結晶を配置する請求項10または11記載の製造方法。 - 前記基板上に配置されたIII族窒化物結晶が、ドット形状であり、かつ、ほぼ等間隔に配列されている請求項9から12のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記基板上に配置された各III族窒化物結晶が、ほぼ同面積である請求項13記載の製造方法。
- 互いに隣接する前記基板上に配置されたIII族窒化物結晶どうしの中心間距離が、0.01mm以上である請求項9から14のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程であり、かつ、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、
前記III族元素金属と前記酸化剤とを反応させてIII族元素金属酸化生成物ガスを生成させるIII族元素金属酸化生成物ガス生成工程と、
前記III族元素金属酸化生成物ガスと前記窒素含有ガスとを反応させて前記第2のIII族窒化物結晶を生成させる第2のIII族窒化物結晶生成工程と、
を含む請求項1から5および7から15のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記III族元素金属酸化生成物ガス生成工程において、前記III族元素金属を、加熱状態で前記酸化剤と反応させる請求項16記載の製造方法。
- 前記III族元素金属酸化生成物ガスが、III族元素金属酸化物ガスである請求項16または17記載の製造方法。
- 前記III族元素金属が、ガリウムであり、前記III族元素金属酸化物ガスが、Ga2Oガスである請求項18記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程であり、
前記酸化剤が、酸化性ガスである請求項1から3および6から15のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記酸化性ガスが、H2Oガス、O2ガス、CO2ガス、およびCOガスからなる群から選択される少なくとも一つである請求項20記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程であり、
前記窒素含有ガスが、N2、NH3、ヒドラジンガス、およびアルキルアミンガスからなる群から選択される少なくとも一つである請求項1から5および7から21のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記酸化性ガスおよび前記窒素含有ガスの体積の合計に対し、前記酸化性ガスの体積が、0.001〜60%の範囲である請求項20から22のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程であり、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、反応系中に、さらに、還元性ガスを共存させて反応を行う請求項1から5および7から23のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記還元性ガスが、H2ガス、一酸化炭素(CO)ガス、炭化水素ガス、H2Sガス、SO2ガス、およびNH3ガスからなる群から選択される少なくとも一つである請求項24記載の製造方法。
- 前記酸化剤が、請求項20または21記載の酸化性ガスであり、前記酸化性ガスに前記還元性ガスを混合して行う請求項24または25記載の製造方法。
- 前記窒素含有ガスに前記還元性ガスを混合して行う請求項24から26のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記還元性ガス共存下での反応を、650℃以上の温度で行う請求項24から27のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記第2のIII族窒化物結晶製造工程が、III族元素金属と、酸化剤と、窒素含有ガスとを反応させて、前記第2のIII族窒化物結晶を製造する工程であり、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、加圧条件下で前記III族窒化物結晶を生成させる請求項1から5および7から28のいずれか一項に記載の製造方法。 - さらに、前記第2のIII族窒化物結晶をスライスして1枚以上のIII族窒化物結晶基板を切り出すスライス工程を含むことを特徴とする請求項1から29のいずれか一項に記載の製造方法。
- さらに、前記第1のIII族窒化物結晶の表面を研磨する第1のIII族窒化物結晶研磨工程を含み、
前記第2のIII族窒化物結晶製造工程において、前記第1のIII族窒化物結晶研磨工程で研磨した面上に、気相成長法により第2のIII族窒化物結晶を製造する請求項1から30のいずれか一項に記載の製造方法。 - 少なくともアルカリ金属とIII族元素とを含む融液中において、III族窒化物結晶を製造する方法であって、
前記融液中における、前記アルカリ金属およびIII族元素以外の不純物元素の含有量を調整する調整工程と、
前記III族元素と窒素とが反応する反応工程と、
を含み、
前記反応工程におけるIII族窒化物結晶の成長方向が、前記反応工程の前半はc軸に対し傾斜した方向であり、前記反応工程の後半はほぼc軸方向であり、
前記反応工程の前記アルカリ金属融液中において、前記III族窒化物の過飽和度が、前記反応工程前半の方が前記反応工程後半よりも低いことを特徴とする、III族窒化物結晶の製造方法。 - 前記調整工程における前記不純物元素が、酸素、シリコン、ゲルマニウム、およびマグネシウムからなる群から選択される少なくとも一つである請求項32記載の製造方法。
- 前記調整工程における前記不純物元素が、酸素である請求項32記載の製造方法。
- 製造されるIII族窒化物結晶中における前記不純物元素の濃度が1×1017cm−3を超え、1×1020cm−3未満となるように、前記調整工程における前記不純物元素の含有量を調整する、請求項32から34のいずれか一項に記載の製造方法。
- 製造されるIII族窒化物結晶のa軸方向の格子定数が0.3185nm〜0.3193nmとなるように、前記調整工程における前記不純物元素の含有量を調整する、請求項32から35のいずれか一項に記載の製造方法。
- さらに、
予め準備されたIII族窒化物の複数の部分を、III族窒化物結晶の生成および成長のための種結晶として選択する種結晶選択工程と、
前記種結晶の表面をアルカリ金属融液に接触させる接触工程とを含み、
前記反応工程が、窒素を含む雰囲気下において、III族元素と前記窒素とを前記アルカリ金属融液中で反応させてIII族窒化物結晶を生成させ成長させるIII族窒化物結晶液相成長工程であり、
前記III族窒化物結晶液相成長工程において、前記複数の種結晶から成長した複数のIII族窒化物結晶の成長により、前記複数のIII族窒化物結晶を結合させて前記III族窒化物結晶とする、
請求項32から36のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記反応工程を加圧条件下で行い、前記反応工程前半の加圧圧力が、前記反応工程後半の加圧圧力より小さい請求項32から37のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反応工程において、前記反応工程前半の反応温度が、前記反応工程後半の反応温度より高い請求項32から38のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反応工程における結晶成長面が、c面とほぼ平行な方向である請求項32から39のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反応工程における結晶成長面が、c面に対し傾斜した方向である請求項32から39のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反応工程において、基板上で前記III族元素と前記窒素とを反応させて前記III族窒化物結晶を成長させる、請求項32から41のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記基板が、サファイア基板である請求項42記載の製造方法。
- 前記第1のIII族窒化物結晶製造工程が、請求項32から43のいずれか一項に記載の製造方法により前記第1のIII族窒化物結晶を製造する工程である請求項1から31のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項1から31および44のいずれか一項に記載の製造方法に用いるIII族窒化物結晶製造装置であり、
液相成長法により前記第1のIII族窒化物結晶を製造する第1のIII族窒化物結晶製造手段と、
前記第1のIII族窒化物結晶上に、気相成長法により前記第2のIII族窒化物結晶を製造する第2のIII族窒化物結晶製造手段とを含む、III族窒化物結晶製造装置。 - さらに、第1のIII族窒化物結晶加熱手段を含み、
前記第1のIII族窒化物結晶加熱手段は、前記第2のIII族窒化物結晶製造工程に先立ち、前記第1のIII族窒化物結晶を加熱処理する前記第1のIII族窒化物結晶加熱工程を行う手段である、請求項45記載のIII族窒化物結晶製造装置。 - 請求項32から43のいずれか一項に記載の製造方法に用いるIII族窒化物結晶製造装置であり、
前記融液中における、前記アルカリ金属およびIII族元素以外の不純物元素の含有量を調整する調整手段と、
前記III族元素と窒素とを反応させる反応手段とを含む、III族窒化物結晶製造装置。
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