JP6012252B2

JP6012252B2 - 光断層画像撮像装置

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Publication number: JP6012252B2
Application number: JP2012110749A
Authority: JP
Inventors: 宣博戸松; 信人末平; 松本　和浩; 和浩松本; 和英宮田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2011-10-06
Filing date: 2012-05-14
Publication date: 2016-10-25
Anticipated expiration: 2032-05-14
Also published as: JP2013090903A

Description

本発明は、被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置に関する。

現在、低コヒーレンス光による干渉を利用した光断層画像撮像（ＯｐｔｉｃａｌＣｏｈｅｒｅｎｃｅＴｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＯＣＴ）装置（以下、ＯＣＴ装置と記載）が実用化されている。これは、被検査物の断層画像を高分解能で且つ非侵襲に取得することができる。そのため、ＯＣＴ装置は、特に眼科領域において、被検眼の眼底の断層画像を得るうえで、必要不可欠な装置になりつつある。また、眼科領域以外でも、皮膚の断層観察や、内視鏡やカテーテルとして構成して、消化器、循環器の壁面断層画像撮像等が試みられている。
ここで、眼科分野におけるＯＣＴ装置において、撮像取得中の被検眼の動きにより断層画像の位置ずれが生じる可能性があるため、撮像時間の短縮が求められている。そこで、複数の光を用いたＯＣＴ装置が、特許文献１に開示されている。これにより、測定光１つあたりの撮像領域の大きさを小さくすることができるため、１つの測定光で撮像するよりも短時間で撮像することができる。このとき、複数の光は光ファイバを伝搬するように構成されている。
一方、診療現場では、複数の医療機器を設置する必要があることから、個々の装置をできるだけ小型化することが望まれている。このとき、単にＯＣＴ装置を小型化するだけだと、装置の筐体内の空間が減るために部材同士の距離が短くなる。そのため、光源からの発熱による光学系等への影響（熱膨張、熱変位に起因する精度の低下）が無視できなくなる。そこで、レーザ光源と光学系とを光ファイバを介して熱隔離し、該レーザ光源を筐体に固着させたレーザ測量装置が、特許文献２に開示されている。

特開２０１０−１６７２６８号公報特開平９−１１３２７２号公報

ところで、ＯＣＴ装置の参照光の光路には、一般的に、参照ミラーだけでなく、参照光の光量を調整可能なＮＤフィルタや、被検眼で戻り光に生じる分散を補償する分散補償用ガラス等の光学部材が設けられている。
このとき、参照光の光路に設けられた光学部材が光源からの熱の影響を受けると、光学部材の形状変化等により、参照光の特性が変わったり、光量損失が生じたりする。例えば、参照ミラーの反射面が歪むことにより、参照光が正反射しなくなり、参照光の光量損失が生じる。また、例えば、分散補償用ガラスの形状が変化すると、測定光路の光学系の分散が正しく補償されないため、ＯＣＴ画像の深さ分解能が低下する。

本発明に係る光断層画像撮像装置は、
複数の光から分かれた複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の光から分かれ且つ該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて該被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置であって、
前記複数の光を発生させる光源部と、
前記光源部を格納する光源格納部と、
前記複数の参照光の光路の一部を格納し且つ前記光源格納部の側面に離間して設けられた参照格納部と、
を有することを特徴とする。

本発明によれば、参照光の光路の一部が筐体内の熱源、例えば光源から離間して設けられるため、参照光の光路に設けられた光学部材に熱源から伝わる熱を低減することができる。

本実施形態に係るＯＣＴ装置の光学系の構成を説明する模式図である。本実施形態に係るＯＣＴ装置の外観を説明する模式図である。本実施形態に係るＯＣＴ装置のＮＤフィルタの配置関係を異なる方向から見た際の模式図である。

本発明の実施形態に係るＯＣＴ装置（光断層画像撮像装置とも呼ぶ。）について、図１及び図２を用いて説明する。なお、図１は、本実施形態に係るＯＣＴ装置の光学系の構成を説明する模式図である。また、図２は、本実施形態に係るＯＣＴ装置の外観を説明する模式図である。ここで、本実施形態では、被検査物を被検眼の網膜としているが、本発明に係るＯＣＴ装置が適用可能な被検査物はこれに限定されない。例えば、被検査物として、被検眼の前眼部や被検体の皮膚でも良い。また、本実施形態に係るＯＣＴ装置は、フーリエドメイン方式（ＦＤ：ＦｏｕｒｉｅｒＤｏｍａｉｎ）のＯＣＴ装置のうち、スペクトラルドメイン方式（ＳＤ：ＳｐｅｃｔｒａｌＤｏｍａｉｎ）のＯＣＴ装置であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、波長掃引光源を用いたスウェプトソース方式（ＳＳ：ＳｗｅｐｔＳｏｕｒｃｅ）のＯＣＴ装置も適用可能である。

また、本実施形態では３つの測定光及び参照光を用いたＯＣＴ装置について述べているが、１つ以上の測定光及び参照光ならば適用可能である。２つ以上の測定光及び参照光の場合、１つの測定光及び参照光よりも参照光の光路の数が多くなるため、参照光の光路に設けられた光学部材の数も多くなる。これらの光学部材が筺体内の熱源、例えば光源からの熱の影響を受けた場合、複数の参照光の光量損失や複数の合波光の干渉強度が低下するだけでなく、光量損失や強度低下のばらつきが生じる可能性がある。このため、本発明は、２つ以上の測定光及び参照光の場合に好適に用いられる。なお、本実施形態において、熱源は、光源の他に、例えば、電動ステージのドライバや、ＸＹスキャナのドライバ等が想定される。

（ＯＣＴ装置の構成）
本実施形態に係るＯＣＴ装置の構成について、図１（ａ）及び図１（ｂ）を用いて説明する。ここで、図１（ｂ）は、図１（ａ）の参照光の光路を含む参照格納部１１１（後述）を拡大した図である。なお、本実施形態に係るＯＣＴ装置は、マイケルソン干渉計によって構成されているが、マッハツェンダ干渉計も適用可能である。

まず、複数の光源１０１−１〜３それぞれから出射された複数の光は、光ファイバ１０２−１〜３を通り、ファイバカプラ１０３−１〜３を介してそれぞれ複数の参照光１２７−１〜３と複数の測定光１２８−１〜３とに強度比９０：１０で分割される。複数の測定光１２８−１〜３は、測定対象の一例である被検眼１１８に入射され、眼底１１９で反射あるいは散乱された複数の戻り光１２９−１〜３となって戻される。複数の戻り光１２９−１〜３はファイバカプラ１０３−１〜３によって複数の参照光１２７−１〜３とそれぞれ合波され、複数の干渉光１３０−１〜３（複数の合波光とも呼ぶ。）となる。複数の干渉光１３０−１〜３は、透過型グレーティング１２３によって波長ごとに分光され、ラインカメラ１２５に入射される。ラインカメラ１２５は位置（波長）ごとに光強度を電圧に変換し、その信号１３２は制御・信号処理部１２６に送られる。信号１３２は制御・信号処理部１２６によって処理されることで、被検眼１１８の眼底１１９の断層画像が構成される。

なお、光ファイバ１０２−１〜３等やファイバカプラ１０３−１〜３等を含むファイバ部１３６は、後述する図２のファイバ格納部３０３により格納されている。

＜光源部１３４＞
次に、光源１０１−１〜３を含む光源部１３４について説明する。なお、光源部１３４は、後述する図２の光源格納部３０２により格納されている。また、光源は一つでも良く、この場合、一つの光源から発生した光を複数の光に分割すればよい。

ここで、光源１０１−１〜３は、低コヒーレント光を発生させる光源であり、例えば、ＳＬＤ（ＳｕｐｅｒＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔＤｉｏｄｅ）を用いる。中心波長は８４０ｎｍ、バンド幅は５０ｎｍである。なお、本実施形態ではＳＬＤを選択したが、低コヒーレント光を出射できる光源であればよく、ＡＳＥ（ＡｍｐｌｉｆｉｅｄＳｐｏｎｔａｎｅｏｕｓＥｍｉｓｓｉｏｎ）等も用いることが出来る。また、光源１０１−１〜３から出射される光の波長は特に制限されるものではなく、４００ｎｍから２μｍの間で被検査物に合わせて設定すればよい。さらに、ＯＣＴを実現するためのバンド幅としては、例えば１ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは３０ｎｍ以上であることが望ましい。

また、光源１０１−１〜３から出射した光は、光ファイバ１０２−１〜３をそれぞれ通してファイバカプラ１０３−１〜３に導かれる。ファイバカプラ１０３−１〜３は光源１０１−１〜３より出射した光を参照光１２７−１〜３及び測定光１２８−１〜３に強度比９０：１０でそれぞれ分割する。

＜参照部１１１＞
次に、参照光１２７−１〜３の光路を含む参照部１１１について説明する。なお、参照部１１１は、後述する図２の参照格納部３０１により格納されている。

まず、参照光１２７−１〜３はそれぞれ、光ファイバ１０４−１〜３（参照光ファイバとも呼ぶ。）を通してレンズ１０６−１〜３に導かれ、平行光になるように調整され、ミラー１０９−１〜３に導かれる。参照光１２７−１〜３はそれぞれミラー１０９−１〜３で反射されることで、再びファイバ１０４−１〜３を通してファイバカプラ１０３−１〜３に導かれる。ここで、参照光１２７−１〜３が通過した分散補償用ガラス１０８−１〜３は、被検眼１１８に測定光１２８−１〜３が往復した時の分散を、参照光１２７−１〜３に対して補償するものである。分散補償用ガラス１０８−１〜３のそれぞれの厚さＬ１−１〜３は被検眼１１８、レンズ１１３、１１５、１１６の構成と波長の関係によって決定される。例えば、分散補償用ガラス１０８−１と１０８−３の厚さは１８．８ｍｍ、分散補償用ガラス１０８−２の厚さは１９．６ｍｍが好ましい。これは、被検眼は眼軸を長軸とする楕円形に近い形をしているため、眼底の中央付近の分散が大きくなるためである。なお、分散補償用ガラスをプリズム２つにより構成し、ガラスの厚さを可変に構成することが好ましい。これにより、被検眼の長さが異なっても、分散補償を正確に行うことができる。

また、光路長Ｌ２−１〜３は、それぞれファイバカプラ１０３−１〜３から被検眼の眼底１１９までの光学距離とファイバカプラ１０３−１〜３からミラー１０９−１〜３までの光学距離を同一にするために調整される光路長である。ミラー１０９−１〜３はそれぞれステージ１１０−１〜３上に固定されており、矢印で図示する方向にステージ１１０−１〜３を移動させることで参照光１２７−１〜３の光路長Ｌ２−１〜３を調整・制御することが出来る。また、ＮＤフィルタ１０７−１〜３（光量変更部とも呼ぶ。）が参照光１２７−１〜３のそれぞれの光軸上に設置され、参照光１２７−１〜３を任意の光量に調整することが可能である。

ここで、ＮＤフィルタ１０７−１〜３の部分を、図３を用いて説明する。なお、図３（ａ）と図３（ｂ）はそれぞれ、ＮＤフィルタの配置関係を異なる方向から見た際の模式図である。ＮＤフィルタ１０７−１〜３は、それぞれが接触しないように、参照光１２７−１〜３の光軸方向に互いにずらして設置されることが好ましい。さらに、ＮＤフィルタ１０７−１〜３は互いに他の光路を遮ってしまわないように配置されることが好ましい。これにより、参照光１２７−１〜３はレンズ１０６−１〜３、分散補償用ガラス１０８−１〜３、ステージ１１０−１〜３がそれぞれ接触しない範囲で近づけることが可能となり、参照部１１１をより小型化することができる。なお、ＮＤフィルタ１０７−１〜３はＯＣＴ画像の画質を損なわないように参照光１２７−１〜３の光量を調整できれば形状、材質は問わないが、一枚で光量を変更できるＮＤフィルタを使うことが好ましい。さらに、連続的に参照光１２７−１〜３の光量を変更できるＮＤフィルタを使用することが好ましい。さらに、ドーナツ円盤状の基板に円盤の回転方向に向かって連続的に濃度を変化させた回転ＮＤフィルタを使用することが好ましい。また、ＮＤフィルタ１０７−１〜３（複数の光量変更部それぞれにおける複数の参照光の入射面）は、参照光１２７−１〜３それぞれの光軸に対して傾斜角度５０１−１〜３だけ傾けて配置される。これによってＮＤフィルタ１０７−１〜３それぞれの表面より参照光１２７−１〜３の一部が反射した場合に、反射光が再びレンズ１０６−１〜３に入射してしまうことを避けることが出来る。傾斜角度５０１−１〜３は、参照光１２７−１〜３がＮＤフィルタ１０７−１〜３の表面でそれぞれ反射し、レンズ１０６−１〜３を経由して光ファイバ１０４−１〜３に戻らない範囲で任意に設定可能である。さらに傾斜角度５０１−１〜３はＯＣＴ画像に影響が出ない範囲で任意に設定可能である。このように、ＮＤフィルタを互いに接触しないように配置することで、装置を小型化することが可能である。

光ファイバ１０４−１〜３には、偏光調整部１０５−１〜３がそれぞれ設置しており、参照光の偏光を調整することが出来る。なお、本実施形態においては、偏光調整部を光ファイバ上に設けたが、光ファイバ１０４−１〜３の端部からミラー１０９−１〜３の参照光の光軸上に偏光を調整可能なデバイスを設置しても構わない。

＜測定部１３３＞
次に、測定光１２８−１〜３の光路を含む測定部１３３について説明する。なお、測定部１３３は、後述する図２の測定格納部３０４（本体部とも呼ぶ。）により格納されている。

まず、測定光１２８−１〜３はそれぞれ、光ファイバ１３１−１〜３（測定光ファイバとも呼ぶ。）を通してレンズ１１３に入射し、ＸＹスキャナ１１４（測定光を走査する走査部とも呼ぶ。）に導かれる。ここでは簡単のため、ＸＹスキャナ１１４は１つのミラーとして記したが、実際にはＸスキャン用ミラーとＹスキャン用ミラーとの２枚のミラーが近接して配置され、眼底１１９上を光軸に垂直な方向にラスタースキャン出来る構成になっている。また、測定光１２８−１〜３の中心はＸＹスキャナ１１４のミラーの回転中心と一致するように構成されている。レンズ１１５、１１６は眼底１１９を走査するための光学系であり、測定光１２８−１〜３は瞳孔１２０の付近を支点として、眼底１１９をスキャンする役割がある。電動ステージ１１７は矢印で図示している方向に移動することができ、付随するレンズ１１６の位置を調整・制御することが出来る。レンズ１１６の位置を制御・信号処理部１２６によって調整することで、被検眼１１８の眼底１１９に測定光１２８−１〜３をそれぞれ集光し、観察することが可能になる。また、被検眼１１８が屈折異常を有している場合にも対応できる。測定光１２８−１〜３は被検眼１１８に入射すると、眼底１１９からの反射や散乱によって戻り光１２９−１〜３となり、測定光１２８−１〜３の光路をそれぞれ逆に進む。戻り光１２９−１〜３はスキャナ１１４を経てファイバカプラ１０３−１〜３に導かれる。また、光ファイバ１３１−１〜３には偏光調整部１１２−１〜３（例えば、偏光コントローラ）がそれぞれ設置されており、測定光１２８−１〜３及び戻り光１２９−１〜３の偏光を調整することが出来る。なお、本実施形態においては偏光調整部を光ファイバ上に設けたが、光ファイバ１３１−１〜３の端部から被検眼１１８の測定光の光軸上に偏光を調整可能なデバイスを設置しても構わない。

＜検出部１３５＞
次に、ラインカメラ１２５を含む検出部１３５の構成について説明する。なお、検出部１３５は、検出格納部（例えば、ベース部３１０や不図示の外部の格納部）により格納されている。

まず、戻り光１２９−１〜３と参照光１２７−１〜３とをそれぞれ合波した干渉光１３０−１〜３は、光ファイバ１２１−１〜３（合波光ファイバとも呼ぶ。）を通り、それぞれ光ファイバ端から射出される。また、干渉光１３０−１〜３はそれぞれ、レンズ１２２を通り、透過型グレーティング１２３によって波長ごとに分光され、レンズ１２４で集光されて、ラインカメラ１２５（例えば、ラインセンサ）の異なる領域にそれぞれが重ならない様に結像する。ラインカメラ１２５では光の強度が位置（波長）ごとに電圧に変換される。具体的にはラインカメラ１２５上には波長軸上のスペクトル領域の干渉縞が観察されることになる。得られた電気信号軍は制御・信号処理部１２６にてフーリエ変換等のデータ処理を行い、断層画像が形成される。

＜配置＞
次に、本実施形態に係るＯＣＴ装置の外願について、図２（ａ）〜（ｄ）を用いて説明する。なお、図２（ａ）はＯＣＴ装置の正面図、図２（ｂ）と図２（ｃ）はＯＣＴ装置の側面図、図２（ｄ）は上面図である。

まず、本実施形態に係るＯＣＴ装置の本体部３０４（測定格納部とも呼ぶ。）は、ベース部３１０上に支柱３１１を介して設けられている。ここで、ベース部３１０には、被検者の顔を乗せるための顔受け部３１２と本体部３０４をベース部３１０に対する移動の操作を行うためのジョイスティック３０７とが設けられている。ジョイスティック３０７を前後左右に傾けることで、本体部３０４を水平方向に移動させることが出来る。また、ジョイスティック３０７を軸周りに回転させることで、本体部３０４を鉛直方向に移動させることが出来る。これにより、ユーザは、本体部３０４と被検眼１１８との位置を簡単に合わせることができる。

また、本体部３０４には、参照格納部３０１、光源格納部３０２、ファイバ格納部３０３、電気基板３０８が設けられている。なお、これらの部材を外部の衝撃から守るために、これらの部材を覆う外装（不図示）を設けても良い。また、これらの格納部は、外部の衝撃からの衝撃に強い部材、例えば金属が好ましい。また、これらの格納部は、軽量化の観点から、アルミ等が好ましい。

また、光源格納部３０２と参照格納部３０１とを離間するために、これらの格納部の間にはスペーサ３０９（離間部材とも呼ぶ。）が設けられている。ここで、参照格納部３０１は光源格納部３０２の側面に離間して設けられることが好ましい。参照格納部３０１が光源格納部３０２の上面に設けられると、装置の高さが長くなり、装置が大型化する。また、この場合、装置の重心がベース部３１０から離れるため、装置の移動時に装置が不安定になる可能性が高くなる。このため、参照格納部３０１を設ける位置は、装置の上側過ぎず、光源格納部３０２から離れ過ぎない位置である光源格納部３０２の側面としている。

ここで、光源１０１−１〜３は、光源格納部３０２内に格納され、本体部３０４の上面に配置される。光源格納部３０２は本体部３０４の上面に接触して配置されており、熱源である光源１０１−１〜３において発生した熱は光源格納部３０２を介して本体部３０４へと伝わり放熱される。ファイバ格納部３０３には、ファイバカプラ１０３−１〜３、偏光調整部１０５−１〜３、１１２−１〜３が配置され、また、光ファイバ１０２−１〜３、１０４−１〜３、１２１−１〜３、１３１−１〜３の一部が配置され、本体部３０４の側面に配置される。ファイバ格納部３０３は本体部３０４との間にスペーサ３０９を有し、空間的に分離され、熱の伝わりを最小限に抑える。また、光源格納部３０２に対して下方に配置されることで、空気を介して熱が伝わることを抑えている。

また、参照格納部３０１には、光ファイバ１０４−１〜３の端部、レンズ１０６−１〜３、ＮＤフィルタ１０７−１〜３、分散補償用ガラス１０８−１〜３、ミラー１０９−１〜３、ステージ１１０−１〜３が配置されている。参照格納部３０１はスペーサ３０９を介して光源格納部３０２の側面に配置される。これにより光源格納部３０２および本体部３０４と空間的に分離され、熱が伝わるのを防いでいる。光源格納部３０２とファイバ格納部３０３、参照格納部３０１とファイバ格納部３０３はそれぞれ光ファイバで接続されている。また、電気基板３０８はファイバ格納部３０３と本体部３０４を挟んで反対側の面に配置される。ここで、電気基盤３０８には、本ＯＣＴ装置を駆動するために必要なＩＣ等が搭載されている。電気基盤３０８は、多少は発熱するため、参照格納部３０１、ファイバ格納部３０３とは反対側に配置される。また、光ファイバ１３１−１〜３の端部からレンズ１１６までの光学系は本体部２０４内に配置されている。なお、制御・信号処理部１２６は、本体部３０４内に配置する構成であっても、別体として独立した筺体に配置する構成としても良い。

また、光源格納部３０２に格納された光源１０１−１〜３とファイバ格納部３０３に格納されたファイバカプラ１０３−１〜３は、光ファイバ１０２−１〜３でそれぞれ接続されている。熱源となる光源１０１−１〜３に比較的近い位置に光ファイバ１０２−１〜３が配置されることになるが、光ファイバ１０２−１〜３を通る光はファイバカプラ１０３−１〜３で参照光１２７−１〜３と測定光１２８−１〜３に分割される前の光であり、撮影される断層画像に大きな影響を与えるものではない。

ファイバカプラ１０３−１〜３で分割された参照光１２７−１〜３は光ファイバ１０４−１〜３によって参照格納部３０１に接続される。光ファイバ１０４−１〜３の端部より射出される参照光１２７−１〜３はミラー１０９−１〜３でそれぞれ反射し、再び光ファイバ１０４−１〜３を通してファイバカプラ１０３−１〜３に戻る。一方、分割された測定光１２８−１〜３は光ファイバ１３１−１〜３によって本体部３０４内に導かれる。光ファイバ１０１−１〜３の端部より射出された測定光１２８−１〜３は、本体部３０４の一部である対物レンズ鏡筒（不図示）内に配置されるレンズ１１６より被検眼１１８に照射される。照射された測定光１２８−１〜３は眼底１１９によって反射、または散乱し、戻り光１２９−１〜３となって再びレンズ１１６に入射し、光ファイバ１３１−１〜３を通してファイバカプラ１０３−１〜３に導かれる。ファイバカプラ１０３−１〜３で分割された後、参照光１２７−１〜３と測定光１２８−１〜３はそれぞれ別の光路を通り、再びファイバカプラ１０３−１〜３に戻って干渉光１３０−１〜３となる。その際に干渉強度が最も強くなるように偏光調整部１０５−１〜３および１１２−１〜３を調整する。干渉強度はラインカメラ１２５で受光され、制御・信号処理部１２６において処理された信号強度をもとに合わせればよい。

また、光ファイバは外部環境の変化によってその特性が変わることが一般に知られている。特に温度環境が変わると光ファイバ内の光の偏光が変わる。干渉計においては、参照光と測定光の偏光がそろっているときに最も干渉強度が高くなるが、温度環境の変化によって経時的に偏光が参照光と測定光で別々に変化すると、干渉強度が経時的に変化することになる。その結果、ＯＣＴ装置で得られる断層画像は、データ取得のタイミングごとに強度が変化することによってムラのある画像となってしまう。それを回避するために、熱源となる光源１０１−１〜３の格納されている光源格納部３０２を本体部３０４の上部に配置し、さらにファイバ格納部３０３を光源格納部３０２の下方かつ本体部３０４の側面にスペーサ３０９を介して配置している。また、参照格納部３０１も本体部３０４および光源格納部３０２の側面にスペーサ３０９を介して配置することで、光ファイバ１０４−１〜３に熱が伝わるのを防いでいる。

以上より、ＯＣＴ装置を構成することで、光ファイバに対する筐体内の発熱部材の影響を抑え、高画質の断層画像を安定して取得することが可能である。

（その他の実施形態）
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。

Claims

複数の光から分かれた複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と、該複数の光から分かれ且つ該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて該被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置であって、
前記複数の光を発生させる光源部と、
前記光源部を格納する光源格納部と、
前記複数の参照光の光路の一部を格納し且つ前記光源格納部の側面に離間して設けられた参照格納部と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。
前記複数の測定光を前記被検査物で走査する走査手段を格納する測定格納部を有し、前記光源格納部が、前記測定格納部の上部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の参照光の光路で且つ前記参照格納部の外の光路に設けられた参照光ファイバと、
前記複数の測定光の光路で且つ前記測定格納部の外の光路に設けられた測定光ファイバと、
前記測定格納部の側面に設けられ、前記参照光ファイバと前記測定光ファイバとを格納するファイバ格納部と、
を有することを特徴とする請求項２に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の合波光を検出する検出手段を格納する検出格納部と、
前記複数の合波光の光路で且つ前記検出格納部の外の光路に設けられた合波光ファイバと、を有し、
前記ファイバ格納部が、前記合波光ファイバの少なくとも一部を格納することを特徴とする請求項３に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の参照光の光路で且つ前記参照格納部に格納された光路にそれぞれ設けられた複数の分散補償用ガラスを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の参照光の光路で且つ前記参照格納部に格納された光路にそれぞれ設けられた複数の光量変更手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の光量変更手段はそれぞれ、前記参照光の光軸方向に互いに接触しないように位置をずらして設けられることを特徴とする請求項６に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の光量変更手段それぞれにおける前記複数の参照光の入射面は、前記複数の参照光それぞれの光軸に対して垂直な面より傾けて設けられることを特徴とする請求項６または７に記載の光断層画像撮像装置。
前記複数の参照光の偏光と前記複数の測定光の偏光とをそれぞれ調整する複数の偏光調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記光源部が、前記複数の光をそれぞれ発生させる複数の光源を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
光源から発生した光から分かれた測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該光源からの光から分かれ且つ該測定光に対応する参照光とを合波した合波光に基づいて該被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置であって、
前記光源を格納する光源格納部と、
前記参照光の光路の一部を格納し且つ前記光源格納部の側面に離間して設けられた参照格納部と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。
前記測定光を前記被検査物で走査する走査手段を格納する測定格納部を更に有し、
前記光源格納部が、前記測定格納部の上部に設けられることを特徴とする請求項１１に記載の光断層画像撮像装置。
前記参照光の光路で且つ前記参照格納部の外の光路に設けられた参照光ファイバと、
前記測定光の光路で且つ前記測定格納部の外の光路に設けられた測定光ファイバと、
前記測定格納部の側面に設けられ、前記参照光ファイバと前記測定光ファイバとを格納し且つ前記光源格納部に離間して設けられたファイバ格納部と、
を更に有することを特徴とする請求項１２に記載の光断層画像撮像装置。
光源から発生した光を分割して得た測定光を対物レンズを介して照射した被検査物からの戻り光と、前記光源からの光を分割して得た参照光とを合波した合波光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置であって、
前記対物レンズと前記測定光を前記被検査物で走査する走査手段とが配置された光路を含む本体部と、
前記光源を格納し且つ前記本体部の上部に設けられた光源格納部と、
前記参照光の光路の一部を格納し且つ前記本体部及び前記光源格納部に離間して設けられた参照格納部と、
前記参照光の光路で且つ前記参照格納部の外の光路に設けられた参照光ファイバと、
前記測定光の光路で且つ前記本体部の外の光路に設けられた測定光ファイバと、
前記参照光ファイバと前記測定光ファイバとを格納し且つ前記本体部及び前記光源格納部に離間して設けられたファイバ格納部と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。
前記参照格納部が、前記本体部及び前記光源格納部に対して空間的に分離して配置され、
前記ファイバ格納部が、前記本体部及び前記光源格納部に対して空間的に分離して配置されることを特徴とする請求項１４に記載の光断層画像撮像装置。
前記本体部及び前記光源格納部と前記参照格納部との間に設けられた離間部材を更に有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の光断層画像撮像装置。
前記本体部と前記ファイバ格納部との間に設けられた離間部材を更に有することを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記本体部の側面に離間して設けられ且つ前記光断層画像撮像装置を駆動するための電気基板を更に有することを特徴とする請求項１４乃至１７のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
光源から発生した光を分割して得た測定光を対物レンズを介して照射した被検査物からの戻り光と、前記光源からの光を分割して得た参照光とを合波した合波光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層画像撮像装置であって、
前記対物レンズと前記測定光を前記被検査物で走査する走査手段とが配置された光路を含む本体部と、
前記光源を格納し且つ前記本体部の上部に設けられた光源格納部と、
前記参照光の光路の一部を格納し且つ前記本体部及び前記光源格納部に離間して設けられた参照格納部と、
前記本体部の側面に離間して設けられ且つ前記光断層画像撮像装置を駆動するための電気基板と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。
前記本体部と前記電気基板との間に設けられた離間部材を更に有することを特徴とする請求項１８または１９に記載の光断層画像撮像装置。
前記光源から発生した光を導光するファイバと前記参照光ファイバと前記測定光ファイバとが接続されたファイバカプラを更に有し、
前記ファイバ格納部が、前記ファイバカプラを格納することを特徴とする請求項１３乃至１８のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記参照光の偏光と前記測定光の偏光とをそれぞれ調整する複数の偏光調整手段を更に有し、
前記ファイバ格納部が、前記偏光調整手段を格納することを特徴とする請求項１３乃至１８のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記合波光を検出する検出手段を格納する検出格納部と、
前記合波光の光路で且つ前記検出格納部の外の光路に設けられた合波光ファイバと、を更に有し、
前記ファイバ格納部が、前記合波光ファイバの少なくとも一部を格納することを特徴とする請求項１３乃至１８のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記参照格納部に格納され、前記参照光の光軸に対して斜めに設けられ、前記参照光の光量を変更する光量変更部を更に有することを特徴とする請求項１１乃至２３のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。
前記被検査物は、被検眼であることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の光断層画像撮像装置。