JP6008802B2 - フェノールの精製方法 - Google Patents
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Description
前記カルボニル化合物としては、芳香族カルボニル化合物および脂肪族カルボニル化合物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
粗フェノールに含まれるカルボニル化合物以外の不純物は、粗フェノールの生成方法により様々であり、特に制限はないが、例えばアセトン、α−メチルスチレン、クミルフェノール、2−フェニル−2−プロパノール、α−メチルスチレンの2量体(2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン)および粗フェノールの生成に用いた原料の未反応物などである。これらの不純物は、一般に前記カルボニル化合物に比較し、フェノールから分離、除去することが容易である。これらの不純物は水素添加前に蒸留等により粗フェノールからあらかじめ除去しておいてもよい。
例えば、粗フェノールがクメン法により生成された場合、粗フェノールは、クメンの酸化反応によって得られたクメンヒドロペルオキシドを酸分解し、その生成物の中和物から、分別蒸留により軽質留分(例えばアセトン、クメン、α-メチルスチレン)の大部分を除いた残留分である。その組成を例示すると以下の通りである。なお、当該組成範囲はあくまでも例示を目的としたものであって、本発明の技術的範囲を何ら制限するものではない。
クメン 1.0 〜 0.1wt%
α−メチルスチレン 2.0 〜 0.1wt%
ヒドロキシアセトン 0.5 〜 0.1wt%
α−フェニルプロピオンアルデヒド 0.5 〜 0.1wt%
アセトフェノン 4.0 〜 2.0wt%
2−フェニル−2−プロパノール 1.0 〜 0.5wt%
その他の高沸点成分 4.0 〜 1.5wt%
上記の粗フェノール中のクメンおよびα−メチルスチレンは軽質留分として、アセトフェノン、2−フェニル−2−プロパノールおよびその他の高沸点成分は重質留分として、蒸留により比較的容易にフェノールから分離できるが、ヒドロキシアセトンおよびα−フェニルプロピオンアルデヒド等のカルボニル化合物はフェノールからの蒸留分離が難しい。前述のとおり、本発明のフェノールの精製方法は、このようなカルボニル化合物をきわめて効果的に除去することができる。
またアセトフェノンは前述した様に比較的容易にフェノールとの蒸留分離が可能であり、工業製品としての価値もあるが、アセトフェノンの水添物である1−メチル−ベンジルアルコールは価値が無く、廃棄するしかないため、水素消費費用の観点からもアセトフェノンの水添反応が起こることは好ましくない。このため、アセトフェノンは水素添加前に蒸留等により粗フェノールから除去しておくことが好ましい。
前記触媒は、任意成分として酸化ケイ素、酸化ジルコニウムおよび酸化ガリウムから選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。前記触媒がこれらの任意成分を含有すると、粗フェノールに含まれる前記カルボニル化合物を効率的に接触水素添加し、アルコールに変換することができる。前記触媒における酸化ケイ素、酸化ジルコニウムおよび酸化ガリウムから選ばれる少なくとも1種を含む場合、その含有率は、上記の順に、好ましくは0.1〜10重量%、0.1〜30重量%、0.1〜10重量%、であり、より好ましくは0.2〜5量%、0.2〜30重量%、0.1〜5重量%である。前記触媒全体に対する任意成分の合計含有率は、50重量%以下が好ましく、30重量%以下がより好ましい。
(触媒調製)
一般的に、前記の触媒は、金属成分の酸性水溶性塩を含む水溶液からなるA液と沈殿剤の水溶液からなるB液とを混合して沈澱物(触媒の前駆体)を形成する方法が、金属成分が均一に分散した触媒を得る上で好ましい製造方法の一つである。前記のB液を構成する沈殿剤に用いる塩基性化合物は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムの少なくともいずれか1種類を含有するアルカリ金属の炭酸塩、または水酸化物、あるいはアンモニウム塩の少なくともいずれか1種類からなる。ここで、A液とB液とを混合して沈澱物を形成する際には、たとえば、
(1)沈殿槽中に予め、A液を仕込んでおき、その中にB液を投入する方法、
(2)逆に沈殿槽中に予めB液を仕込んでおき、その中にA液を投入する方法、
(3)沈殿槽中にA液とB液とを一括混合する方法、
(4)A液を、金属化合物のうちの1成分または2以上の成分を含む水溶液からなるA1液と金属化合物のうちの残りの成分を含む水溶液からなるA2液とに分割し、まずA1液とB液とを混合して、沈殿を生成させ、ついでその沈澱物を含む液中にA2液を加えて同様に沈澱させる沈澱法
などがある。これらの他にも種々のバリエーションが可能で、適宜採用することができる。このような沈澱物を形成させる沈殿法において、沈殿反応が速やかに進行するように適度な金属成分濃度、沈殿剤濃度で、十分な撹拌を行うことが、例えば各成分を均一に微分散させる目的などから好ましい方法である。
〈触媒前駆体の洗浄〉
前記熟成工程を経て得られた触媒前駆体は、適宜水で洗浄して、沈殿剤を除去する。特に、アルカリ金属塩を沈殿剤とした場合には触媒前駆体中にアルカリ金属が残存し易い傾向がある。触媒中のアルカリ金属の存在は本反応において好ましくない反応を起こす可能性があるため、このアルカリ金属はできる限り除去することが望まれる。本触媒調製方法においては、触媒前駆体中のアルカリ金属の含有率は、銅、亜鉛、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウムおよびガリウムの全量100モル%に対して、0.2モル%以下とすることが好ましい。沈殿剤を除くための洗浄方法については特に限定されず、一般的な洗浄しながらのろ過の他、ろ過してケーキとした後、水中に再分散させて、ろ過を繰り返すなど、種々の方法を採ることができる。洗浄した触媒前駆体は最後にろ過などにより、できる限り水分を除去してケーキ状にすることが好ましい。
〈触媒前駆体の焼成〉
ケーキ状の触媒前駆体は適宜乾燥後、通常、焼成して触媒とする。乾燥する場合、水分が抜けやすいよう、ケーキをほぐしてから乾燥するのが好ましい。乾燥条件としては特に限定されないが、80〜150℃の空気中で行うことが好ましい。前記の焼成は触媒前駆体の成分を主として酸化物にするために行うものである。本発明で使用される触媒を得るためには、その焼成温度は、好ましくは300〜450℃、更に好ましくは350〜450℃である。
前記接触水素添加を実施する反応装置としては、バッチ式反応装置、固定床連続反応装置、流動床連続反応および移動床連続反応装置等を挙げることができる。設備が簡単な固定床連続反応装置を使用することが望ましい。
本発明のフェノールの精製方法は、上述のとおり、従来法では分離、除去が困難であったカルボニル化合物をきわめて効果的に除去することができる。さらに本発明のフェノールの精製方法では、有用成分であるフェノールおよびα−メチルスチレンが不純物と反応したり、それぞれが相互に、または単独で付加反応したりすることを抑制することができる。このため、フェノールの収率が向上するとともに、有用成分であるα−メチルスチレンを工業的に利用可能な状態でフェノールから分離、除去することが可能になる。
〔実施例1〕
高圧用フィードポンプ、高圧用水素マスフロー、電気炉、触媒充填部分を有する反応器、背圧弁を設置した固定床反応装置を用い、ダウンフローによる加圧液相流通反応を行った。内径1cmのSUS316製反応器に、クラリアント触媒(株)製MDC−7触媒(CuO/ZnO/Al2O3=42%/48%/10%(重量比)、成型品を粉砕し250〜500μmへ分級したもの)を1.00g充填した。反応器内を水素ガスで2MPaまで加圧した後、反応器入口側より10ml/分の水素気流下、触媒に対し140℃で4時間還元処理を行った。放冷後、水素フィード量を0.6ml/分に変更し、ヒドロキシアセトン(HA)1800ppm、α−フェニルプロピオンアルデヒド(α−PPA)1300ppm、α−メチルスチレン(α−MS)500ppm、2−フェニル−2−プロパノール(Cnol)6000ppm、アセトフェノン(Anone)2.41重量%およびその他不純物、ならびにフェノール91.8重量%を含有する粗フェノールを6.0g/hでフィードし、100℃で反応させた。得られた反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、HA転化率は44.6%、α−PPA転化率は25.0%およびAnone転化率は3.1%であり、各々対応するアルコール化合物が得られた。また、反応前後のα−メチルスチレンの2量体(MSD)の濃度、フェノールとα−MSの反応物であるクミルフェノール(CP)の濃度およびフェノール(PH)の濃度はガスクロマトグラフィーの分析精度の範囲内で差がなかった。結果を表1に示す。
(触媒1〔酸化銅、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ケイ素含有触媒〕の調製)
硝酸銅三水和物5.15kg(21.3mol)、硝酸亜鉛六水和物3.72kg(12.5mol)、硝酸アルミニウム九水和物1.25kg(3.3mol)、およびコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製「スノーテックスST−O」)0.24kg(SiO2として0.8mol)を蒸留水11kgに溶解して、21.7kgの水溶液を調製し、A液とした。ここで「スノーテックスST−O」は、無水ケイ酸(SiO2 )含有量が20〜21重量%、酸化ナトリウム(Na2O)含有量が0.04重量%以下、pHが2〜4、粒子径が10〜20 mμ、粘度が3cps/25℃以下、比重が1.12〜1.14/25℃、氷結点が0℃の透明乳白色の膠質液である。次に、A液とは別に、無水炭酸ナトリウム4.58kg(43.3mol)を蒸留水31.2kgに溶解して水溶液を調製し、B液とした。撹拌機を設置した邪魔板付き100L沈殿槽にA液を入れた後、撹拌しながら、B液をおよそ0.18L/minの速度で滴下した。フィード時間はおよそ90分間であった。このときの沈殿槽内の液温は20〜25℃とした。沈殿槽内のpHはB液投入後はおよそ、6.2であった。B液投入後、得られた沈殿スラリーの温度をゆっくり70℃まで昇温し、2時間保持した。その後、沈殿スラリーをろ過しながら純水で沈殿物中のNaイオン濃度が0.2mol%以下になるまで沈殿を洗浄した後、ろ過により沈殿ケーキを得た。沈殿ケーキは120℃で乾燥した後、350℃で焼成して、触媒1を得た。得られた触媒1の組成は、CuO:54.8wt%、ZnO:32.8wt% 、Al2O3 :10.9wt%、SiO2:1.5wt%であった。
上記のように調製し、250〜500μmへ分級した触媒1をMDC−7触媒の替わりに用いる以外は実施例1と同様にして反応を実施した。結果を表1に示す。
(触媒2〔酸化銅、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム含有触媒〕の調製)
硝酸銅三水和物54.3g、硝酸亜鉛六水和物39.1g、硝酸アルミニウム九水和物6.6g、亜硝酸ジルコニウム二水和物15.4gおよびコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製「スノーテックスST−O」)1.26gを蒸留水に溶解して、500mlの水溶液を調製し、A液とした。ここで「スノーテックスST−O」は、無水ケイ酸(SiO2 )含有量が20〜21重量%、酸化ナトリウム(Na2O)含有量が0.04重量%以下、pHが2〜4、粒子径が10〜20 mμ、粘度が3cps/25℃以下、比重が1.12〜1.14/25℃、氷結点が0℃の透明乳白色の膠質液である。これとは別に、炭酸ナトリウム十水和物 139.0gを蒸留水に溶解して500mlの水溶液を調製し、B液とした。激しく撹拌した400mlの蒸留水中に、A液とB液を同時にいずれも10ml/minの速度で滴下した(この方法を共沈法と称する)。これを一昼夜放置し、得られた沈澱物を蒸留水で洗浄した後、110℃で乾燥し、ついで600℃にて空気中で2時間焼成し、触媒2を得た。得られた触媒の組成は、CuO:45.2wt%、ZnO:27.1wt% 、Al2O3 :4.5wt%、ZrO2 :22.6wt% 、SiO2:0.6wt%であった。
(反応評価)
上記のように調製し、250〜500μmへ分級した触媒2をMDC−7触媒の替わりに用いる以外は実施例1と同様にして反応を実施した。結果を表1に示す。
陽イオン交換樹脂(Amberlyst−15E)5gとヒドロキシアセトン(HA)1800ppm、α−フェニルプロピオンアルデヒド(α−PPA)1300ppm、α−メチルスチレン(α−MS)500ppm、2−フェニル−2−プロパノール(Cnol)6000ppm、アセトフェノン(Anone)2.41重量%およびその他不純物、ならびにフェノール91.8重量%を含有する粗フェノール250gを量り取り、電磁誘導回転攪拌機の付いたSUS316製の500mlオートクレーブに装入した。オートクレーブの内部を窒素で置換した(0.5MPa、3回)後、オートクレーブを密閉した。攪拌速度450rpmで攪拌しながら、オートクレーブを110℃まで加熱して反応を実施した。2時間後、加熱を停止し、十分冷却してから開封した。内容物をろ過して触媒(陽イオン交換樹脂)を除去し、得られた反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、HA転化率は100%、α−PPA転化率は100%およびAnone転化率は1%であったが、有効成分である原料中のα−MSおよびCnolの脱水反応により生成したα−MSはフェノールと全量反応しクミルフェノールに転化した。
陽イオン交換樹脂のかわりに、酸度関数がHo≦−8.2である水素交換モルデナイト型ゼオライトを用い、反応温度を160℃にした以外は比較例1と同様に操作を行った。その結果、HA転化率は95%、α−PPA転化率は92%およびAnone転化率は0%であったが、有効成分である原料中のα−MSおよびCnolの脱水反応により生成したα−MSはフェノールと全量反応しクミルフェノールに転化した。
実施例1の粗フェノールを、ヒドロキシアセトン(HA)1800ppm、アセトフェノン1.9重量%、α−メチルスチレンの2量体(MSD)1.0重量%、フェノール97.1重量%を含有する粗フェノールに変更した以外は、実施例1と同様に反応を行なった。
実施例4において触媒を実施例2で使用した触媒1に変更した以外は、実施例4と同様に反応を行なった。HA、アセトフェノン、MSDの各成分の水素添加に消費された水素量(モル)をHAの水素添加に理論的に必要な水素量(モル)で割った値は、順に、0.56、0.01、0.01であった。
実施例4において触媒を実施例3で使用した触媒2に変更した以外は、実施例4と同様に反応を行なった。HA、アセトフェノン、MSDの各成分の水素添加に消費された水素量(モル)をHAの水素添加に理論的に必要な水素量(モル)で割った値は、順に、0.54、0.01、0.01であった。
〔参考例1〕
ヒドロキシアセトン(HA)、ヒドロキシアセトンの水素添加物であるプロピレングリコール(PG)およびα-フェニルプロピオンアルデヒド(α−PPA)の水素添加物である2−フェニル−1−プロパノール(PPnol)とフェノールの蒸留での分離性を調べるため、フェノールにHA、PGおよびPPnolを各々1000ppm添加した原料を用い、オルダーショウ・ガラス製蒸留塔30段で分画蒸留を行った。蒸留は原料仕込み量800g、還流比2、圧力200Torrで行い留出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ全留出液にHAが検出されたが、PGおよびPPnolは全留出液に不検出であった。結果を図1に示す。
Claims (4)
- 粗フェノールを水素ガスの存在下で、酸化銅、酸化亜鉛および酸化アルミニウムを含有する触媒と接触させて接触水素添加を行うことにより粗フェノール中のカルボニル化合物をアルコール化合物に転化し、次いでこのアルコール化合物を蒸留により除去することを特徴とするフェノールの精製方法。
- 前記触媒が、さらに酸化ケイ素、酸化ジルコニウムおよび酸化ガリウムから選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1に記載のフェノールの精製方法。
- 前記カルボニル化合物が、芳香族カルボニル化合物および脂肪族カルボニル化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または2に記載のフェノールの精製方法。
- 前記接触水素添加を、反応温度100〜300℃、水素圧0.5〜30MPaで行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフェノールの精製方法。
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