JP6006861B1 - 金属粉末の製造装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
好ましい。
1.溶融チタン流下量:約1.0kg/分
2.ガスノズル仕様(主要寸法)
ガスジェット噴射径:20〜30mm
3.ガスジェット条件
(1)使用ガス:アルゴン
(2)噴射圧力:4〜9MPa
(3)噴射流量:約1500〜6000L/min
その結果、粒子径が20〜200μmの範囲にあり、平均粒子径が約50μmの純Ti粉末を安定して製造することができた。
2 金属溶解部
2-1 外筒
2-2 底板
3 金属試料棒
4 金属溶湯
5 高周波誘導コイル
6 ガス噴霧部
6-1 金属溶湯流下孔
6-1-1 金属溶湯流入口
6-1-2 金属溶湯流出口
6-2 噴霧ガス導入管
6-3 環状ガス通路
6-4 ガス流入口
6-5 ガス噴霧孔
6-6 ガス噴霧口
6-6-1 ガス噴霧口最上端
6-6-2 ガス噴霧口最下端
6-6-3 ガス噴霧口中心
6-7 冷却部
6-7-1 水冷銅板
6-7-2 冷却水導管
7 ガス噴射室
7-1 外筒
8 金属粉末
9 金属粉末収集室
10 ガス排気部
11 噴霧ガス流制御管
12 柱
13 フィルター
14 圧力調整ガス導入部
15 貫通孔
16 漏斗
17 アース
A 噴霧ガス流
I ガス噴霧口付近の立体切抜き部
II,III,IV 切断線1 金属試料供給部
Claims (5)
- 不活性ガス導入管を備え、アースが接続された高周波誘導コイル内に金属試料を通過させて前記金属試料を溶解する金属溶解部と、
金属溶湯流下孔と、ガス噴霧孔と、冷却装置と、アースとを備え、前記金属溶解部から前記金属溶湯流下孔を流下する金属溶湯に前記ガス噴霧孔から不活性ガスを噴霧して前記金属溶湯を粉末化するガス噴霧部と、
前記不活性ガスと共に生成する金属粉末が噴射されるガス噴射室と、
前記金属粉末を集める金属粉末収集室と、
を備えた金属粉末の製造装置において、
円柱状の筒または管の先端が、前記ガス噴霧孔よりも下方において、前記金属溶湯の中心線に交わるように形成される前記ガス噴霧孔側面の延長線の最上端と最下端との中点に定置され、前記金属溶湯と接触しないように、前記ガス噴霧部の前記金属溶湯流下孔に挿入される、前記金属溶湯の逆流を防止する噴霧ガス流制御管と、
前記金属溶解部と前記ガス噴射室とを前記金属溶湯流下孔以外で連通し、前記金属溶解部と前記ガス噴射室との圧力差を解消する圧力均一化手段とを備えた金属粉末の製造装置であって、
前記圧力均一化手段が、前記ガス噴霧部を支持して形成されるフィルターを装着した間隙であることを特徴とする金属粉末の製造装置。 - 不活性ガス導入管を備え、アースが接続された高周波誘導コイル内に金属試料を通過させて前記金属試料を溶解する金属溶解部と、
金属溶湯流下孔と、ガス噴霧孔と、冷却装置と、アースとを備え、前記金属溶解部から前記金属溶湯流下孔を流下する金属溶湯に前記ガス噴霧孔から不活性ガスを噴霧して前記金属溶湯を粉末化するガス噴霧部と、
前記不活性ガスと共に生成する金属粉末が噴射されるガス噴射室と、
前記金属粉末を集める金属粉末収集室と、
を備えた金属粉末の製造装置において、
円柱状の筒または管の先端が、前記ガス噴霧孔よりも下方において、前記金属溶湯の中心線に交わるように形成される前記ガス噴霧孔側面の延長線の最上端と最下端との中点に定置され、前記金属溶湯と接触しないように、前記ガス噴霧部の前記金属溶湯流下孔に挿入される、前記金属溶湯の逆流を防止する噴霧ガス流制御管と、
前記金属溶解部と前記ガス噴射室とを前記金属溶湯流下孔以外で連通し、前記金属溶解部と前記ガス噴射室との圧力差を解消する圧力均一化手段とを備えた金属粉末の製造装置であって、
前記圧力均一化手段が、前記金属溶解部と前記ガス噴射室とを貫通するフィルターを装着した孔であることを特徴とする金属粉末の製造装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の金属粉末の製造装置において、
前記高周波誘導コイルのコイル間隙の通風を前記金属溶湯と接触することなく遮蔽し、前記金属溶湯の流下を促進する吸引力向上手段を備えたことを特徴とする金属粉末の製造装置。 - 請求項3に記載の金属粉末の製造装置において、
前記吸引力向上手段が、前記高周波誘導コイルの内側に前記金属試料及び金属溶湯と接触しないように設置された透明な絶縁性物質製の前記高周波誘導コイルの形に沿った漏斗であることを特徴とする金属粉末の製造装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の金属粉末の製造装置を用いたことを特徴とする金属粉末の製造方法。
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