JP6005713B2 - 光導波路素子、受光装置、光通信装置、光変調器、光共振器、及び光導波路素子の製造方法 - Google Patents

光導波路素子、受光装置、光通信装置、光変調器、光共振器、及び光導波路素子の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、光を導波する光導波路、より具体的にはシリコン系の材料からなる光導波路に関する。
近年、シリコン(Si)製のコアと、シリカ(SiO)製のクラッドとを備えたシリコン光導波路素子が注目されている。シリコン光導波路素子は、シリカ製のコアを備えた光導波路と比較した場合に、コアとクラッドとの屈折率差が大いため、光導波路を小型化できるというメリットを有する。また、シリコン光導波路素子の製造プロセスとして、シリコン製の大規模集積回路を製造するための製造プロセスを用いることができることから、シリコン光導波路素子は、製造コストを抑えることができるというメリットを有する。
シリコン光導波路素子は、SOI(Silicon On Insulator)基板を用いて作製される。より具体的には、リソグラフィー技術を用いてSOI基板のSi層をパターニングすることによってシリコン製の導波路を形成し、その上に、シリカ製の酸化膜を形成することによって、シリコン光導波路素子は作製される。
SOI基板において、Si層の厚みは220nmとされることが多い。上述のとおり、SOI基板のSi層をパターニングすることによってコアを形成するため、シリコン光導波路素子のコアとなる導波路の厚みは、220nmである場合が多い。
また、このようなシリコン光導波路素子において、導波路の幅は、450nm以上500nm以下の範囲内である場合が多い。導波路の幅を450nm未満にした場合、リソグラフィープロセスにおける技術的な限界に起因して導波路の側壁が荒れやすい。また、導波路の幅を450nm未満にした場合、導波路の幅を狭くすることに伴って導波路からの光の浸み出しが大きくなる。導波路からの浸み出しが大きな光が導波路を伝播するときの光損失は、導波路の荒れに起因して大幅に大きくなる。換言すれば、この側壁における荒れは、導波路の光損失を大幅に増大させる。一方、導波路の幅を500nmより広くした場合、導波路を伝播する光の偏波モードが別の偏波モードに遷移する確率が高まる。このことも、導波路の光損失を増大させる一因となる。
以上のように、シリコン光導波路素子が備えている導波路の縦方向(厚み方向)の長さと横方向(幅方向)の長さとは、互いに異なる場合が多い。すなわち、シリコン光導波路素子の導波路の断面形状は、縦方向及び横方向に関して異方的な形状である。このような異方的な導波路の場合、該導波路を伝搬する光の2つの偏波モードであって、電場の振動方向が互いに異なる2つの偏波モードの群屈折率には、差が生じる。換言すれば、異方的な導波路を伝搬する光の群屈折率は、偏波依存性を有する。電場の振動方向が異なる2つの偏波モードとは、例えば、TE0モード及びTM0モードである。
更に、シリコン光導波路素子は、コアとクラッドとの比屈折率差が大きいという特徴を有する。この特徴は、シリコン光導波路素子のコア及びクラッドが、それぞれシリコン製及びシリカ製であることに起因する。コアとクラッドとの比屈折率差が大きいことによって、異方的な導波路を伝搬する光の群屈折率差は更に大きくなり、群屈折率の偏波依存性は更に顕著になる。
この群屈折率が偏波依存性を示すことは、上述のとおり導波路の縦方向の長さと、横方向の長さとが異なることに起因するので、シリコン光導波路素子の導波路以外の導波路でも生じる。しかし、シリコン光導波路素子では、コアであるシリコンと、クラッドであるシリカとの屈折率差が極めて大きいため、TE0モードとTM0モードとの群屈折率差が極めて大きくなり、偏波依存性がより顕著になる。
TE0モードの群屈折率とTM0モードの群屈折率とが異なる導波路において、この導波路の一方の端部から他方の端部へTE0モードの光信号とTM0モードの光信号とを伝播させた場合、他方の端部までの到達時間に差が生じる。この到達時間に差が生じることは、偏波モード分散として知られ、光信号における信号特性劣化の原因となる。
例えば、導波路の厚みが220nmであり、導波路幅が500nmである場合、TE0モードの群屈折率は、4.23であり、TM0モードの群屈折率は、3.87である。従って、TE0モードとTM0モードとの群屈折率差は、0.36となる。この群屈折率差は、長さが5mmの導波路を伝播した場合に、TE0モードとTM0モードとの間に6ピコ秒の到達時間差を生じさせる。6ピコ秒は、10Gbpsの変調信号であれば、その0.06UI(Unit Interval)に相当し、30Gbpsの変調信号であれば、その0.18UIに相当する。このような到達時間差は、光信号のジッター成分を増大させ、信号特性の劣化を招く。
上述の偏波モード分散を補償する技術として、シリコン光導波路素子の中点に偏波回転素子を設ける技術が特許文献1及び2に記載されている。偏波回転素子は、入射した光の偏波面を回転させることによって、TE0モードをTM0モードに変換し、TM0モードをTE0モードに変換するものである。特許文献1では、水晶板からなるλ/2板を偏波回転素子として用いており、特許文献2では、ポリイミド薄膜からなるλ/2以下を偏波回転素子として用いている。
また、非特許文献1には、シリコン上で偏波モードを回転させる偏波回転素子として、部分的なリブ構造を備えた偏波回転素子が記載されている。
特開平4−241304号公報(1992年8月28日公開) 特開平7−92326号公報(1995年4月5日公開)
Kazuhiro Goi et. al., 18th Microoptics Conference thechnical digest, F6, 2013
しかしながら、水晶板又はポリイミド薄膜からなるλ/2板をシリコン光導波路素子の中に設けるためには、非常に複雑な工程を必要とする。このため、特許文献1及び2に記載のシリコン光導波路素子には、製造コストの低減が困難であるという問題があった。
また、部分的なリブ構造を備えた偏波回転素子は、偏波を変換する場合の損失が大きい。このため、非特許文献1に記載のシリコン光導波路素子には、導波路損失の低減が困難であるという問題があった。
以上のことから、シリコン光導波路素子において、偏波回転素子に代わる偏波モード分散を補償可能な技術が求められている。
本願発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、偏波モード分散を補償可能であり、且つ、低損失な光導波路素子を、従来の光導波路素子と比較して低い製造コストによって実現することである。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る光導波路素子は、Si製のコアであって、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光導波路素子であって、上記コアの光入射面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
Figure 0006005713
の関係を満たすことを特徴とする。
上記の構成によれば、幅が異なる複数の導波路のそれぞれにおける偏波モード分散が互いに補償される。従って、本発明の一態様に係る光導波路素子は、偏波モード分散を補償可能な光導波路素子である。
また、本発明の一態様に係る光導波路素子は、特許文献1及び2、並びに非特許文献1に記載の光導波路素子のように、光導波路素子の内部に偏波回転素子を設ける必要がない。従って、光導波路素子の製造プロセスとして、シリコン製の大規模集積回路の製造プロセスを用いることができる。また、当該光導波路素子において、偏波回転素子に起因する光損失は、生じ得ない。従って、特許文献1及び2、並びに非特許文献1に記載の光導波路素子と比較して、本発明の一態様に係る光導波路素子は、低損失、且つ、低い製造コストによって製造可能な光導波路素子でもある。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記長さL_i[m]は、
Figure 0006005713
の関係を満たすことが好ましい。
上記の構成によれば、本発明の一態様に係る光導波路素子は、より精度よく偏波モード分散を補償することができる。
本発明の一態様に係る光導波路素子は、上記i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを接続する接続部を更に備え、上記i番目の導波路と上記接続部との境界である第1の境界において、上記接続部は、上記i番目の導波路の幅と等しい第1の幅を有し、当該接続部と上記i+1番目の導波路との境界である第2の境界において、上記接続部は、上記i+1番目の導波路の幅と等しい第2の幅を有し、上記第1の境界から上記第2の境界に近づくに従って、上記第1の幅は、上記第2の幅へ広がるように連続的に変化することが好ましい。
上記の構成によれば、本発明の一態様に係る光導波路素子は、i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを連続的に接続する接続部を更に備えている。i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを直接接続する場合と比較して、上記接続部は、i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを接続する場合の結合損失を抑制することができる。従って、本発明の一態様に係る光導波路素子は、結合損失を抑制可能である。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記i番目の導波路とi+1番目の導波路とが直接接続されていることが好ましい。
上記の構成によれば、i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを接続する接続部を備えている場合と比較して、光導波路素子のコンパクト化を容易に図れる。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記複数の導波路は、2つの導波路であることが好ましい。
2つの導波路という構成は、複数の導波路という構成の中で最もシンプルな構成である。従って、上記の構成によれば、シンプルな構造を用いて偏波モード分散を補償可能な光導波路素子を実現可能である。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記コアの全長が1000μm以上であることが好ましい。
本発明の一態様に係る光導波路素子は、従来の方形導波路を用いた場合に偏波モード分散が問題となるサイズであっても、偏波モード分散を補償することができる。言い換えれば、当該光導波路素子は、偏波モード分散が問題となるサイズである場合に、より顕著な効果を奏する。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記コアの厚さは、210nm以上230nm以下の範囲内であることが好ましい。
上記の構成によれば、市販されているSOI基板のSi層をパターニングすることによってコアを作製することができる。換言すれば、市販されているSOI基板を用いて光導波路素子を作製することができる。したがって、光導波路素子の製造コストをより低減することができる。
本発明の一態様に係る光導波路素子において、上記コアは、変換部を更に備え、上記変換部の光出射側の端部が、連通する複数の導波路の光入射側の端部に接続され、且つ、上記変換部の光入射側の端部が当該コアの光入射面をなし、上記変換部の上記光入射側の端部の幅は、上記導波路の上記光入射側の端部の幅より狭いことが好ましい。
上記の構成によれば、変換部は、コアの光入射面より広い広がりを有する光の偏波モードと、コアの偏波モードとを、結合損失を抑制しつつ変換することができる。従って、本発明の一態様に係る光導波路素子は、コア外部とコア内部とを結合する場合の結合損失を、低減可能である。
本発明の一態様に係る受光装置は、本発明の一態様に係る光導波路素子と、上記光導波路素子が備えている上記コアの光出射面に対向するように受光部が配置されている受光素子と、を備えていることが好ましい。
上記の構成によれば、本発明の一態様に係る受光装置は、本発明の一態様に係る光導波路素子を伝播してきた光信号を受光部によって検出し、この伝播してきた光信号に応じた電気信号を受光装置の外部に出力する。本発明の一態様に係る光導波路素子は、偏波モード分散を補償可能である。従って、本発明の一態様に係る受光装置は、偏波モード分散が少ない光信号を受光可能であり、信号特性が優れた電気信号を出力可能である。
本発明の一態様に係る光通信装置は、本発明の一態様に係る受光装置と、光信号を出力するレーザダイオードと、上記レーザダイオードから入力された上記光信号を変調する光変調器と、を備えていることが好ましい。
上記の構成によれば、光信号の送受信が可能な光通信装置をコンパクトに、且つ、低い製造コストによって実現可能である。
本発明の一態様に係る光通信装置は、上記受光装置から受光した光信号を表す電気信号を入力され、外部機器へ当該電気信号に応じた出力信号を出力する出力用ICと、上記外部機器から入力された制御信号に応じて上記レーザダイオード及び上記光変調器を制御する制御用ICと、を更に備えていることが好ましい。
上記の構成によれば、本発明の一態様に係る光通信装置は、本発明の一態様に係る光導波路素子と、出力用ICとを備えている。従って、上記出力用ICが処理する電気信号は、偏波モード分散が補償された光信号に応じた電気信号である。従って、この電気信号の信号特性は、優れている。従って、本発明の一態様に係る光通信装置は、本発明の一態様に係る光導波路素子を備えていない光通信装置と比較して、より高いビットレートに対応することができる。
本発明の一態様に係る光変調器は、Si製のコアであって、マッハツェンダー干渉計を含むコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光変調器であって、上記コアの第1のアーム部と第2のアーム部との差分をなす導波路は、それぞれの幅が異なる少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなり、上記差分をなす導波路の第1の端部から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
Figure 0006005713
の関係を満たすことを特徴とする。
上記の構成によれば、マッハツェンダー干渉計を含む上記コアにおいて、第1のアーム部と第2のアーム部との差分をなす導波路は、それぞれの幅が異なる少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなる。更に、この差分をなす導波路の偏波モード分散は、上記幅が異なる少なくとも2つの導波路によって補償される。従って、本発明の一態様に係る光変調器は、偏波モード分散を補償可能な光変調器である。言い換えれば、本発明の一態様に係る光変調器は、異なる偏波モードであっても、互いに強め合う波長を、実用上問題のない範囲内に揃えることができる。
また、本発明の一態様に係る光変調器は、本発明の一態様に係る光導波路素子と同様に、低損失な光変調器であり、且つ、低い製造コストによって製造可能な光変調器である。
本発明の一態様に係る光共振器は、Si製のコアであって、環状の第1のコアと、Si製のコアであって、上記第1のコアと共振するように結合されている第2のコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光共振器であって、上記第1のコアは、それぞれの幅が異なる少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなり、
上記第1のコアの基準面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
Figure 0006005713
の関係を満たすことを特徴とする。
上記の構成によれば、環状である第1のコアにおける偏波モード分散が補償される。従って、本発明の一態様に係る光共振器は、共振波長の偏波依存性を解消することができる。
また、本発明の一態様に係る光共振器は、本発明の一態様に係る光導波路素子と同様に、低損失な光共振器であり、且つ、低い製造コストによって製造可能な光共振器である。
本発明の一態様における光導波路素子の製造方法は、Si製のコアであって、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光導波路素子の製造方法であって、上記コアの光入射面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、
Figure 0006005713
の関係を満たすようにi番目の導波路の長さL_i[m]を決定する導波路長決定ステップを含むことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光導波路素子は、Si製のコアであって、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光導波路素子であって、上記コアは、TE0偏波の群屈折率とTM0偏波の群屈折率との差である群屈折率差が正の値になる幅を有する第1の導波路と、当該群屈折率差が負の値になる幅を有する第2の導波路と、を含むことを特徴とする。
上記の構成によれば、当該光導波路素子及びその製造方法は、本発明の一態様に係る光導波路素子と同様の効果を奏する。
本発明は、偏波モード分散を補償可能であり、且つ、低損失な光導波路素子を、従来の光導波路素子と比較して低い製造コストによって実現する。
(a)は、本発明の第1の実施形態に係る光導波路素子の上面図である。(b)は、(a)に示すA−A線における同光導波路素子の断面図である。(c)は、(a)に示すB−B線における同光導波路素子の断面図である。 厚さが220nmであるSi製の導波路において、導波路幅を変化させた場合に得られたTE0偏波及びTM0偏波の群屈折率を示すグラフである。 図2に示すTE0偏波の群屈折率と、TM0偏波の群屈折率との差である群屈折率差を示すグラフである。 厚さが220nmであるSi製の導波路において、導波路幅を変化させた場合に得られたTE0偏波、TM0偏波、TE1偏波、TM1偏波、及びTE2偏波の屈折率を示すグラフである。 幅が600nmである導波路に、幅が異なる導波路を接続した場合に得られた結合損失を示すグラフである。 (a)は、本発明の第2の実施形態に係る光導波路素子の上面図である。(b)は、(a)に示すC−C線における同光導波路素子の断面図である。(c)は、(a)に示すD−D線における同光導波路素子の断面図である。(d)は、(a)に示すE−E線における同光導波路素子の断面図である。 本発明の第3の実施形態に係る光導波路素子の上面図である。 本発明の第4の実施形態に係る受光素子の上面図である。 本発明の第5の実施形態に係る光通信装置の上面図である。 本発明の第6の実施形態に係る光変調器の上面図である。 本発明の第7の実施形態に係る光共振器の上面図である。 本発明の第7の実施形態に係る別の光共振器の上面図である。
〔実施形態1〕
本発明の第1の実施形態に係る光導波路素子について、図1を参照しながら説明する。図1の(a)は、本実施形態に係る光導波路素子10の上面図である。図1の(b)は、図1の(a)に示すA−A線における光導波路素子10の断面図である。図1の(c)は、図1の(a)に示すB−B線における光導波路素子10の断面図である。
(光導波路素子10の概要)
光導波路素子10は、光通信に用いられる光信号、より具体的には、波長が1.55μm近傍の光信号を伝播する光導波路素子である。
光導波路素子10は、SOI(Silicon On Insulator)基板を用いて作製された光導波路素子であって、シリカ(SiO)製のクラッド11と、シリコン(Si)製のコア12とを備えているシリコン光導波路素子である。図1に示すように、Si製のコア12は、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアであり、例えば第1の導波路12aと、第2の導波路12bとによって構成される。
第1の導波路12a及び第2の導波路12bは、SOI基板が備えているSi層を、リソグラフィー技術を用いてパターニングすることによって形成されたものである。現在、市場に出回っている大部分のSOI基板は、Si層の厚さが220nmになるように製造されている。SOI基板の製造時に生じる製造公差が±10nmだとすると、市場に出回っている大部分のSOI基板は、厚さが210nm以上230nm以下の範囲内のSi層を備えていると言える。従って、このようなSi層をパターニングすることによって形成される第1の導波路12a及び第2の導波路12bの厚さは、210nm以上230nm以下の範囲内に含まれていると言える。
以上のことを前提として、以下では、第1の導波路12a及び第2の導波路12bの厚さは、210nm以上230nm以下の範囲内に含まれているものとし、製造公差について特に言及する必要がない場合は、220nmであるものとして説明する(図1の(b)及び(c)参照)。
SOI基板のSiO層上に形成されたSi製の第1の導波路12a及び第2の導波路12bは、その上に堆積されるSiO酸化膜によって封止されている。SOI基板のSiO層は、下部クラッドとして機能し、その上に堆積されるSiO酸化膜は、上部クラッドとして機能する。以下において、上部クラッド及び下部クラッドを区別せず、単にクラッド11と記載する。
(コア12の構成)
次に、図1の(a)〜(c)を参照しながら、光導波路素子10のコア12を構成する第1の導波路12a及び第2の導波路12bについて説明する。
まず、図1に示す座標系を、以下のように定義する。(1)第1の導波路12aが延設されている方向と平行な軸をy軸とする。y軸の向きは、第1の導波路12aから第2の導波路12bに向かう向き(光の伝播方向)が正の向きとなるように定める。(2)第1の導波路12aの厚み方向に平行な軸をz軸とする。z軸の向きは、第1の導波路12aからクラッド11の表面に向かう向きが正の向きとなるように定める。(3)第1の導波路12aの幅方向に平行な軸をx軸とする。x軸の向きは、このx軸が上述したy軸及びz軸と共に右手系を構成するように定める。
第1の導波路12aは、Si製の導波路である。より具体的には、第1の導波路12aは、図1の(a)に示すA−A線における断面の形状が長方形である方形導波路である。第1の導波路12aは、導波路の中心軸が図1に示す座標系のy軸と平行になるように、クラッド11の内部に配置されている。
第1の導波路12aの厚さ(z軸方向の長さ)は、図1の(b)に示すように220nmである。以下において、第1の導波路12aの幅(x軸方向の長さ)をWとし、第1の導波路12aの長さ(y軸方向の長さ)をLとする。本実施形態では、第1の導波路12aの一例として、幅Wが600nmであるものとして説明する。長さLの具体的な数値については、満たすべき条件を示しながら後述する。
第2の導波路12bは、Si製の導波路である。より具体的には、第2の導波路12bは、図1の(a)に示すB−B線における断面の形状が長方形である方形導波路である。第2の導波路12bは、導波路の中心軸が図1に示す座標系のy軸と平行になるように、クラッド11の内部に配置されている。
図1の(c)に示すように、第2の導波路12bの厚さ(z軸方向の長さ)は220nmである。以下において、第2の導波路12bの幅(x軸方向の長さ)をWとし、第2の導波路12bの長さ(y軸方向の長さ)をLとする。本実施形態では、第2の導波路の一例として、幅Wが800nmであるものとして説明する。長さLの具体的な数値については、満たすべき条件を示しながら後述する。
ここで、第1の導波路12aを構成する6つの面のうち、zx平面と平行な面であってy軸負方向側に位置する面を第1の端面12a1と呼称し、zx平面と平行な面であってy軸正方向側に位置する面を第2の端面12a2と呼称する。同様に、第2の導波路12bを構成する6つの面のうち、zx平面と平行な面であってy軸負方向側に位置する面を第3の端面12b3と呼称し、zx平面と平行な面であってy軸正方向側に位置する面を第4の端面12b4と呼称する。
図1の(a)に示すように、第1の導波路12aと第2の導波路12bとは直接接続されている。すなわち、第1の導波路12aと第2の導波路12bとは第2の端面12a2及び第3の端面12b3を介して互いに連通している。コア12は、光の伝播方向に互いに連通している第1の導波路12a及び第2の導波路12bからなる。なお、第1の導波路12a及び第2の導波路12bは、第1の導波路12aの中心軸と、第2の導波路12bの中心軸とが一致するように配置されていることが好ましい。
コア12において、光の伝播方向は、限定されるものではない。本実施形態においては、光は、第1の端面12a1に入射し、コア12をy軸正方向に伝播し、第4の端面12b4から出射するものとするが、光が第4の端面12b4に入射し、コア12をy軸負方向に伝播し、第1の端面12a1から出射することもできる。ここでは、第1の端面12a1のことを光入射面12a1とも表現し、第4の端面12b4のことを光出射面12b4とも表現する。なお、光入射面12a1から導波路を数えた場合、1番目の導波路が第1の導波路12aであり、2番目の導波路が第2の導波路12bである。
(コア12を伝播する光の群屈折率)
次に、第1の導波路12a及び第2の導波路12bを伝播する光の群屈折率について説明する。断面における縦の長さ(厚さ)と横の長さ(幅)とが等しくない導波路、すなわち、断面形状が長方形である方形導波路を光が伝播する場合、TE偏波に対する群屈折率と、TM偏波に対する群屈折率とは異なる。
以下において、TE偏波及びTM偏波のそれぞれについて、実効屈折率が最も高いモードから順番にモード数NをN=0,1,2,・・・とし、それぞれのモード数Nに対応するモードを、N次モードと記載する。また、TE0偏波の0次モードのことをTE0モードと記載し、TM0偏波の0次モードのことをTM0モードと記載する。高次モード(N=1,2,・・・)についても同様に、例えばTE偏波であればTE1モード,TE2モード,・・・というように記載する。
ここで、光入射面12a1から数えてi番目の導波路におけるTE0モードの光(TE0偏波)に対する群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0モードの光(TM0偏波)に対する群屈折率をng_i_TMとする。従って、光入射面12a1から数えて1番目の導波路である第1の導波路12aのTE0偏波に対する群屈折率はng_1_TEと表され、第1の導波路12aのTM0偏波に対する群屈折率はng_1_TMと表される。また、光入射面12a1から数えて2番目の導波路である第2の導波路12bのTE0偏波に対する群屈折率はng_2_TEと表され、第2の導波路12bのTM0偏波に対する群屈折率はng_2_TMと表される。なお、光のモード数及び偏波方向を特定しない場合の群屈折率をnとする。
詳しくは図2及び図3を参照しながら説明するが、本願の発明者らは、(1)方形導波路の群屈折率がその方形導波路の幅に依存し、(2)TE0モードの群屈折率と、TM0モードの群屈折率とは、方形導波路の幅に対して互いに異なる相関関係を示す、ことを見出した。
第1の導波路12aの幅Wが600nmである場合、群屈折率ng_1_TE0は4.095であり、群屈折率ng_1_TM0は4.028である。従って、群屈折率ng_1_TE0とng_1_TM0との差を群屈折率差Δng_1とすると、幅Wが600nmである場合の群屈折率差Δng_iは、0.067である。一方、第2の導波路12bの幅Wが800nmである場合、群屈折率ng_2_TE0は3.945であり、群屈折率ng_2_TM0は4.130である。従って、群屈折率ng_2_TE0とng_2_TM0と群屈折率差Δng_2は、−0.185である。
群屈折率差の符号が正であることは、TE0偏波の群速度がTM0偏波の群速度より速いことを意味し、群屈折率差の符号が負であることは、TM0偏波の群速度がTE0偏波の群速度より速いことを意味する。
(コア12が満たすべき条件)
光導波路素子10は、群屈折率差の符号が互いに異なる第1の導波路12aと第2の導波路12bとを光の伝播方向に連通させ、長さL及び長さLがそれぞれ(1)式を満たすように定められていることによって、第1の導波路12aにおいて生じる偏波モード分散を第2の導波路12bにおいて生じる偏波モード分散によって補償し、コア12全体としての偏波モード分散を低減することができる。
Figure 0006005713
ここで、ng_i_TEは、第1の端面12a1から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率であり、ng_i_TMは、このi番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率であり、L_i[m]は、このi番目の導波路の長さである。
(1)式の条件は、コア12をTE0偏波とTM0偏波とが伝播した場合に、TE0偏波とTM0偏波との伝播時間差Δtが5ピコ秒以下となるように定められたものである。以下において、ピコ秒のことを[ps]と記載する。TE0偏波とTM0偏波との伝播時間差Δtが5ps以下であることによって、コア12を伝播する光が10Gbpsの変調信号を表す光信号である場合に、伝播時間差Δtを変調信号の0.05UI(Unit Interval)以下に抑制することができる。伝播時間差Δtを変調信号の0.05UI以下に抑制されていれば、変調信号のジッター成分の増大は実用上問題のない範囲に収まり、変調信号の信号特性は劣化しないと考えられる。従って、上記の構成によれば、光導波路素子10は、10Gbpsの変調信号を伝播する場合に、偏波モード分散を実用上問題のない範囲に補償することができる。
また、光導波路素子10は、長さL及び長さLがそれぞれ(2)式を満たすように定められていることが好ましい。
Figure 0006005713
(2)式の条件は、コア12をTE0偏波とTM0偏波とが伝播した場合に、TE0偏波とTM0偏波との伝播時間差Δtが1.67ps以下となるように定められたものである。TE0偏波とTM0偏波との伝播時間差Δtが1.67ps以下であることによって、コア12を伝播する光が30Gbpsの変調信号を表す光信号である場合に、伝播時間差Δtを変調信号の0.05UI(Unit Interval)以下に抑制することができる。従って、上記の構成によれば、光導波路素子10は、30Gbpsの変調信号を伝播する場合に、偏波モード分散を実用上問題のない範囲に補償することができる。
また、光導波路素子10は、長さL及び長さLがそれぞれ(3)式を満たすように定められていることがより好ましい。
Figure 0006005713
(3)式の条件を満たすことによって、コア12をTE0偏波とTM0偏波とが伝播した場合におけるTE0偏波とTM0偏波との伝播時間差Δtは、0psとなる。すなわち、伝播時間差Δtは存在せず、コア12における偏波モード分散は完全に補償される。上記の構成によれば、30Gbpsよりビットレートが高い光信号がコア12を伝播する場合であっても、伝播に伴うビットエラーを実用上問題のない範囲に抑制することができる。
(1)〜(3)式の何れかの式を変形することによって、(1)〜(3)式の何れかの条件を満たす長さL及び長さLを次のように定めることができる。なお、光導波路素子10の全長LをL=L+Lとする。例えば(1)式のLにL=L−Lを代入した上で(1)式を変形すると、(−1.5×10−3−LΔng_2)/(Δng_1−Δng_2)≦L≦(1.5×10−3−LΔng_2)/(Δng_1−Δng_2)が得られる。したがって、全長Lを決めれば、(1)式の条件を満たす長さLの範囲が定められ、その結果として長さLに応じた長さLが定められる。
(2)式の条件を満たす長さL及び長さLは、(2)式を(1)式と同様に変形することによって定められる。
また、(3)式にL=L−Lを代入した上で(3)式を変形すると、L=−LΔng_2/(Δng_1−Δng_2)が得られる。したがって、全長Lを決めれば、(3)式の条件を満たす長さLが定められ、その結果として長さLに応じた長さLが定められる。
以上のように、全長Lを定めた上で変形した(1)〜(3)式の何れかを用いることによって、(1)〜(3)式の何れかの条件を満たす長さL及び長さLを定めることができる。
本実施形態に係る光導波路素子10では、コア12の全長を5000μm、長さLを3675μm、及び長さLを1325μmに定めた。このように長さL及び長さLを定められた第1の導波路12a及び第2の導波路12bは、(2)式を満たす。従って、光導波路素子10は、偏波モード分散を補償可能な光導波路素子であると言える。
なお、本実施形態では光導波路素子10の全長が5000ミクロンであるものとして説明した。しかし、光導波路素子10の全長は、これに限定されるものではない。光導波路素子10は、従来の方形導波路を用いた場合に偏波モード分散が問題となる全長である場合、例えば全長が1000μm以上である場合により効果的である。
(光導波路素子10の製造コスト)
上述のように、光導波路素子10は、SOI基板を用い、SOI基板上におけるSi層のパターニングと、その上に、SiO酸化膜を積層することによって作製される。また、光導波路素子10は、特許文献1及び2、並びに非特許文献1に記載の光導波路素子のように、光導波路素子の内部に偏波回転素子を作製する必要がない。従って、光導波路素子10を製造する製造プロセスとして、シリコン製の大規模集積回路を製造するための製造プロセスを用いることができる。
以上のことから、特許文献1及び2、並びに非特許文献1に記載の光導波路素子と比較して、光導波路素子10は、低い製造コストによって製造することができる。
(光導波路素子10における損失)
光導波路素子10において、第1の導波路12aと第2の導波路12bとは、第1の導波路12aの第2の端面12a2と第2の導波路12bの第3の端面12b3とが接するように接続されている。言い換えれば、第1の導波路12aと第2の導波路12bとの接続位置において、コア12の幅は、不連続に変化すると言える。一般的に、導波路における不連続な構造は、導波路を伝播する光を反射する原因となる。
詳しくは図5を参照しながら後述するが、光導波路素子10において第1の導波路12aと第2の導波路12bとを直接接続したことによる結合損失は、TE0偏波において0.082dBであり、TM0偏波において0.02dBであった。
一方、非特許文献1に記載の発明が備えているリブ構造の偏波回転素子は、TE0偏波をTM0偏波に変換する際に、0.8dB程度の変換損失を伴う。
光導波路素子10における結合損失、及び、非特許文献1に記載の偏波回転素子における変換損失は、何れも偏波モード分散を補償するために必要となる構成に起因する損失であると言える。上述のように、光導波路素子10における結合損失は、0.1dB以下になることがなく、非特許文献1に記載の偏波回転素子における変換損失と比較して優位に小さい。従って、光導波路素子10は、非特許文献1に記載の発明と比較して、低損失な光導波路素子である。
以上のように、光導波路素子10は、従来の光導波路素子と比較して、低損失な光導波路素子である。
〔変形例〕
本実施形態において、光導波路素子10のコア12は、第1の導波路12a及び第2の導波路12bからなるものとして説明した。しかし、コア12を構成する導波路の数は、2つに限定されるものではなく3つ以上であってもよい。
例えば、本変形例に係る光導波路素子10が備えているコア12は、第1の導波路12a及び第2の導波路12bに加えて第3の導波路によって構成されていてもよい。第3の導波路の幅をWとし、長さをLとし、第3の導波路のTE0偏波に対する群屈折率をng_3_TEとし、第3の導波路のTM0偏波に対する群屈折率をng_3_TMとした場合に、長さL、L及びLは、(1)式を満たすように定められている。また、長さL、L及びLは、(2)式を満たすことが好ましく、(3)式を満たすことがより好ましい。
言い換えれば、本変形例に係る光導波路素子10は、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコア12と、SiO製のクラッド11と、を備えている光導波路素子であって、コア12は、群屈折率ng_1_TEと群屈折率ng_1_TMとの差である群屈折率差Δng_1が正の値になる幅を有する第1の導波路12aと、群屈折率ng_2_TEと群屈折率ng_2_TMとの差である群屈折率差Δng_2が負の値になる幅を有する第2の導波路12bと、を少なくとも含んでいる。
〔実施例1〕
(導波路の群屈折率)
第1の実施形態に係る光導波路素子10のコア12と同様の製造プロセスで製造された導波路の群屈折率について、図2及び図3を参照しながら説明する。図2は、厚さが220nmであるSi製の導波路において、導波路幅Wを220nm以上900nm以下の範囲で変化させた場合に得られたTE0偏波及びTM0偏波の群屈折率を示すグラフである。以下において、TE0偏波の群屈折率をng_TE0とし、TM0偏波の群屈折率をng_TM0とする。図3は、図2に示す群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0と差である群屈折率差を示すグラフである。以下において、群屈折率差Δnを、ng_TE0−ng_TM0と定義する。なお、導波路を伝播する光の波長は、1.55μmである。
導波路幅Wが220nmである場合、群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0とは、等しかった。これは、導波路の厚さと幅とが等しいためである。
導波路幅Wを220nmから大きくしていった場合、群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0とは、共に大きくなる。しかし、導波路幅Wの変化に対して群屈折率が変化する割合は、群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0とで異なった。群屈折率ng_TE0は、導波路幅Wを220nmから広げていくと、導波路幅Wが350nmにおいて最大値を示し、350nm以上900nm以下の範囲では、緩やかな減少を示した。一方、群屈折率ng_TM0は、導波路幅Wを220nmから広げていくに従って増加するものの、その傾きは徐々に小さくなっていき、1つの値に近づくような振る舞いを示した。
図2に示すように、群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0とは、交点CPにおいて交差した。以下において、交点CPに対応する導波路幅を、幅WCPとする。言い換えれば、幅WCPでは、群屈折率ng_TE0=群屈折率ng_TM0であり、幅Wが幅WCPより狭い領域では、群屈折率ng_TE0>群屈折率ng_TM0であり、幅Wが幅WCPより広い領域では、群屈折率ng_TE0<群屈折率ng_TM0であることが分かった。
群屈折率ng_TE0と群屈折率ng_TM0との大小関係の変化は、図3に示す群屈折率差Δnの導波路幅W依存性によってより明確になった。導波路幅Wを変化させた場合に、群屈折率差Δnは、幅WがWCPで0となり、幅WがWCPより狭い領域で正の値をとり、幅WがWCPより広い領域で負の値をとることが分かった。
光導波路素子10が偏波モード分散を補償するためには、第1の導波路12aにおける群屈折率差Δng_1の符号と、第2の導波路12bにおける群屈折率差Δng_2の符号とが互いに逆である必要がある。この条件を満たすために、幅W及び幅Wの何れか一方は、WCPより狭い幅であり、他方は、WCPより広い幅であることが求められる。
なお、幅Wが450nm未満であるシリコン光導波路素子を作製する場合、導波路の側壁が荒れやすい。言い換えれば、側壁が平坦な導波路を形成することは、困難である。この側壁の荒れは、リソグラフィープロセスにおける技術的な限界に起因し、導波路中を伝播する光における損失を増大させる原因となる。従って、幅W及び幅Wは、450nm以上の範囲に含まれていることが好ましい。
(高次モードへの誤変換)
第1の実施形態に係る光導波路素子10のコア12と同様の製造プロセスで製造された導波路の屈折率について、図4を参照しながら説明する。図4は、導波路の幅Wを変化させた場合に得られたTE0偏波、TM0偏波、TE1偏波、TM1偏波、及びTE2偏波の屈折率を示すグラフである。なお、導波路を伝播する光の波長は、1.55μmである。
ここで、TM0モードの屈折率をnTM0とし、TE1モードの屈折率をnTE1とする。
図4に示すように、幅Wを200nm以上900nm以下の範囲で変化させた場合に、交点CP’において、屈折率nTM0と、屈折率nTE1とが交差することが分かった。以下において、交点CP’に対応する導波路幅を幅WCP’とする。幅WCP’は、650nm近傍であった。
屈折率nTM0と屈折率nTE1とが一致している、又は、近い値であることは、TM0モードとTE1モードとが互いに遷移しやすい状態にあることを意味する。このような状態にある場合、小さな擾乱をトリガーとしてTM0モードとTE1モードとが結合する。小さな擾乱の一例としては、製造プロセスに起因する導波路側壁の荒れが挙げられる。
TM0モードとTE1モードとが結合した場合、TM0モードが高次モードであるTE1モードに誤変換される確率が高くなる。この誤変換は、TM0モードにおける大きな損失となって観測される。従って、幅W及び幅Wを決定する場合に、幅WCP’を含む620nmを上回り670nmを下回る範囲を避けることが好ましい。言い換えれば、幅W及び幅Wは、450nm以上620nm以下の範囲、又は、670nm以上800nm以下の範囲に含まれていることが好ましい。幅W及び幅W800nm以下であることによって、後述する結合損失が大きくなることを防ぐことができる。
幅W及び幅Wを決定する場合に避けるべき範囲は、屈折率nTM0と屈折率nTE1との差である屈折率差Δnによって規定することもできる。幅W及び幅Wは、TM0モードとTE1モードとにおける誤変換を防ぐために、屈折率差ΔnがΔn≧0.08を満たす範囲に含まれていることが好ましい。図4を参照すれば、Δn≧0.08を幅Wの範囲は、620nm以下、又は、670nm以上の範囲である。
(コア12の結合損失)
第1の実施形態に係る光導波路素子10が備えているコア12における結合損失について、図5を参照しながら説明する。より具体的には、図1を参照して説明したとおり、コア12は、第1の導波路12aと第2の導波路12bとを直接接続することによって構成されている。図5は、幅が600nmである第1の導波路12aに、幅が異なる第2の導波路12bを直接接続した場合に得られた結合損失を示すグラフである。第1の導波路12aの幅Wを600nmとして、第2の導波路12bの幅Wを、700nm以上800nm以下の範囲で変化させた。なお、導波路を伝播する光の波長は、1.55μmである。
図5に示すように、第2の導波路12bの幅Wを700nmから800nmまで変化させた場合、TE0モードの光の結合損失は、0.09dBより小さく0.02dBより大きい範囲で単調に増加することが分かった。一方、TM0モードの光の結合損失は、明確な幅W依存性を示さず、0.03dBより小さく0より大きい範囲に分布することが分かった。
以上の結果から、幅が異なる第1の導波路12aと第2の導波路12bとを直接接続することによってコア12を形成した場合、コア12における結合損失は、0.09dB未満であることが分かった。この0.09dBという結合損失は、非特許文献1に記載の光導波路素子が備えている偏波回転素子における変換損失(0.8dB程度)と比較して明らかに小さい。従って、第1の実施形態に係る光導波路素子10は、非特許文献1に記載の光導波路素子と比較して、低損失な光導波路素子であると言える。
〔実施形態2〕
本発明の第2の実施形態に係る光導波路素子について、図6を参照しながら説明する。図6の(a)は、本実施形態に係る光導波路素子20の上面図である。(b)は、(a)に示すC−C線における光導波路素子20の断面図である。(c)は、(a)に示すD−D線における光導波路素子20の断面図である。(d)は、(a)に示すE−E線における光導波路素子20の断面図である。なお、第1の実施形態と同様の部材に関しては、同じ部材番号を付し、その説明を省略する。また、図6に示す座標系は、図1に示す座標系と同様に定義されたものである。
光導波路素子20は、第1の実施形態に係る光導波路素子10が備えるコア12をコア22に変形することによって得られた光導波路素子である。より具体的には、コア22は、光入射面12a1から数えて1番目の導波路である第1の導波路12a、及び、2番目の導波路である第2の導波路12bに加えて、第1の導波路12aと第2の導波路12bとを接続する接続部23を備えている。コア22は、接続部23を介して、第1の導波路12aと第2の導波路12bとを、光の伝播方向に連通してなるコアとも表現できる。なお、クラッド21は、第1の実施形態に係る光導波路素子10が備えるクラッド11と同様に構成されている。
接続部23は、第1の導波路12a及び第2の導波路12bと同様にSi製の導波路であって、厚さが220nmの導波路である。
図6の(a)に示すように、接続部23と第1の導波路12aとは、接続部23のy軸負方向側の端面、及び、第1の導波路12aの第2の端面12a2を介して接続されている。第2の端面12a2は、接続部23と第1の導波路12aとの境界を形成しているとも表現できる。そこで、第2の端面12a2のことを、第1の境界12a2とも表現する。同様に、接続部23と第2の導波路12bとは、接続部23のy軸正方向の端面、及び、第2の導波路12bの第3の端面12b3を介して接続されている。第3の端面12b3は、接続部23と第2の導波路12bとの境界を形成しているとも表現できる。そこで、第3の端面12b3のことを、第2の境界12b3とも表現する。
ここで、図6の(a)及び(b)に示すように、第1の導波路12aの長さをLとし、幅をWとする。図6の(a)及び(c)に示すように、接続部23の長さをL23とし、幅をW23とする。図6の(a)及び(d)に示すように、第2の導波路12bの長さをLとし、幅をWとする。
第1の境界12a2において、接続部23は、第1の導波路12aの幅Wと等しい幅W23を有する。第2の境界12b3において、接続部23は、第2の導波路12bの幅Wと等しい幅W23を有する。本実施形態では、幅Wが600nmであり、幅Wが800nmであるものとして説明する。従って、第1の境界12a2における幅W23(第1の幅)は600nmであり、第2の境界12b3における幅W23(第2の幅)は800nmである。第1の境界12a2から第2の境界12b3に近づくに従って、幅W23は、第1の幅(600nm)から第2の幅(800nm)へ広がるように連続的に変化する。言い換えれば、接続部23の上面は、テーパ形状である。
接続部23は、それぞれ幅が異なる第1の導波路12aと第2の導波路12bとを滑らかに接続し、コア22における結合損失を低減する効果を奏する。コア22において、長さL23を伸ばせば伸ばすほど、第1の導波路12aと第2の導波路12bとを接続するテーパ部分とy軸方向とのなす角は小さくなり、コア22における結合損失はより低減される。
その一方で、接続部23は、幅Wと等しい第1の幅と、幅Wと等しい第2の幅とを滑らかに接続するものである。従って、接続部23の中間領域の何れかの位置において、幅W23は、TM0モードの屈折率nTM0とTE1モードの屈折率nTE1とが等しくなる交点CP’に対応する幅WCP’と一致する(図4参照)。
その結果、接続部23の中間領域においては、TM0モードが高次モードであるTE1モードに誤変換される確率が高まる。言い換えれば、接続部23の中間領域においては、TM0モードの損失を大きくする。以上のことから、コア22において、長さL23を伸ばせば伸ばすほど、コア22におけるTM0モードの損失はより増大される。
このように、長さL23を伸ばすことは、コア22における結合損失を低減するというポジティブな効果と、コア22におけるTM0モードの損失を増大するというネガティブな効果とを併せ持つ。上述のポジティブな効果及びネガティブな効果がトレードオフとなることを考慮し、長さL23は、コア22全体としての損失が最適化可能なように定められることが好ましい。
具体的には、長さL23は、10μm以上100μm以下であることが好ましい。長さL23が10μm以上であることによって、効果的にコア22の結合損失を低減可能である。また、長さL23が100μm以下であることによって、接続部23における上記誤変換に起因するTM0モードの損失の増大を抑制することができる。
〔実施形態3〕
本発明の第3の実施形態に係る光導波路素子について、図7を参照しながら説明する。図7は、本実施形態に係る光導波路素子30の上面図である。なお、上記各実施形態と同様の部材に関しては、同じ部材番号を付し、その説明を省略する。また、図7に示す座標系は、図1に示す座標系と同様に定義されたものである。
光導波路素子30は、第2の実施形態に係る光導波路素子20が備えるコア22をコア32に変形することによって得られた光導波路素子である。より具体的には、コア32は、第1の導波路12a、第2の導波路12b、及び接続部23に加えて、変換部35を備えている。以下において、変換部35が有する光入射側(y軸負方向側)の端部のことを第5の端面351と表記し、光出射側(y軸正方向側)の端部のことを第6の端面352と表記する。また、以下において、変換部35の幅をW35とし、長さをL35とする。
変換部35において、第6の端面352は、連通する複数の導波路である第1の導波路12a、第2の導波路12b、及び接続部23の光入射側の端部、すなわち第1の端面12a1と連続的に接続されている。言い換えれば、第6の端面352における幅W35は、幅Wと等しい。本実施形態において、第6の端面352における幅W35は、600nmである。
また、第5の端面351は、コア32の光入射面をなす。従って、第5の端面351は、光入射面351とも表現できる。光入射面351における幅W35は、第6の端面における幅W35より狭い。本実施形態において、光入射面351における幅W35は、250nmである。従って、接続部23の上面がテーパ形状であるのに対し、変換部35の上面はテーパ形状であると言える。なお、光入射面351における幅W35は、250nmに限定されるものではないが、200nm以上300nm以下であることが好ましい。
変換部35は、光入射面351に当接して配置された光ファイバにおける導波モードを、第6の端面352に接続されている第1の導波路12aにおける導波モードに変換するときに生じる結合損失を低減するための導波路である。変換部35の上面が逆テーパ形状であることによって、変換部35は、光入射面351における幅W35よりコア径が大きな光ファイバと、第1の導波路12aとを、良好な状態で結合することができる。
変換部35の長さL35は、光入射面351における幅W35、第6の端面352における幅W35、及び光入射面351が当接している光ファイバのコア径の各パラメータに応じて、結合効率を最適化可能なように定めればよい。光入射面351における幅W35が250nmであり、第6の端面352における幅W35が600nmであり、光入射面351が当接している光ファイバのコア径が8μmである場合、長さL35は、200μm以上300μm以下であることが好ましく、250μmであることがより好ましい。なお、変換部35の長さL35は、上記範囲に限定されるものではない。
なお、光導波路素子30において、第1の導波路12aの長さLと、第2の導波路12bの長さLとは、変換部35において生じる偏波モード分散を含めて補償可能なように定められていることが好ましい。
〔実施形態4〕
本発明の第4の実施形態に係る受光装置について、図8を参照しながら説明する。図8は、本実施形態に係る受光装置40の上面図である。なお、上記各実施形態と同様の部材に関しては、同じ部材番号を付し、その説明を省略する。また、図8に示す座標系は、図1に示す座標系と同様に定義されたものである。
受光装置40は、第3の実施形態に係る光導波路素子30と、受光素子41とを備えている。受光素子41は、例えばフォトダイオード(PD)である。従って、以下において受光素子41のことをPD41とも表記する。
PD41に設けられた受光部42は、光導波路素子30に設けられたコア32の光出射面12b4に対向するように配置されている。光出射面12b4と受光部42とは、当接して配置されていてもよいし、離間して配置されていてもよい。
上記の構成によれば、受光装置40は、光導波路素子30をy軸正方向に向かって伝播してきた光をPD41の受光部42によって検出し、この伝播してきた光に応じた電気信号を外部に出力することができる。従って、受光装置40は、光信号を電気信号に変換することができる。
〔実施形態5〕
本発明の第5の実施形態に係る光通信装置について、図9を参照しながら説明する。図9は、本実施形態に係る光通信装置50の上面図である。なお、上記各実施形態と同様の部材に関しては、同じ部材番号を付し、その説明を省略する。また、図9に示す座標系は、図1に示す座標系と同様に定義されたものである。
光通信装置50は、4チャンネルの光信号を送受信可能な光通信装置であり、より具体的にはカメラリンク(登録商標)に代表される通信規格に適合したアクティブオプティカルケーブル(AOC:Active Optical Cable)におけるインターフェース部をなす。また、光通信装置50は、1つのSOI基板上に形成されている。
光通信装置50は、光信号を送受信するために、光信号送信系統と、光信号受信系統とを備えている。なお、光通信装置50は、4チャンネルの光信号を送受信するために、4組の等価な構造を備えている。本実施形態では、この4組の等価な構造を区別しない。言い換えれば、本実施形態における説明は、上記4組の等価な構造に対して共通する。
(光信号送信系統)
図9に示すように、光通信装置50が備えている光信号送信系統は、光変調器51、レーザダイオード(LD)52、制御用IC53、変換部35’、外部機器と制御用IC53とを接続する配線55、制御用IC53と光変調器51とを接続する配線56、制御用IC53とLD52とを接続する配線59、LD52と光変調器51とを接続する光ファイバ60、及び光ファイバ61を備えている。
制御用IC53は、外部機器から配線55を介して入力された制御信号に応じてLD52及び光変調器51を制御する。具体的には、制御用IC53は、配線59を介してLD52を制御するためのLD制御信号をLD52に出力するとともに、配線56を介して変調信号を光変調器51に出力する。
LD52は、制御用IC53から取得した制御信号に応じてレーザ光を、光ファイバ60を介して光変調器51に出力する。
光変調器51は、4チャンネルの各チャンネルに対して1つ、すなわち、合計4つの光変調部(図示せず)を備えている。光変調部は、制御用IC53から入力された変調信号に応じて、LD52から入力された光を変調して光信号を生成する。光変調部の光出射面は、変換部35’の光入射面(図7に示す第6の端面352に対応)に接続されている。従って、光変調部が生成した光信号は、変換部35’に入射され、変換部35’をy軸負方向側へ向かって伝播し、変換部35’の光出射面(図7に示す第5の端面351)から出射される。
なお、光変調器51が備えている光変調部と、変換部35’とは、SOI基板に形成されたシリカ製のクラッド31の内部に形成されている。従って、当該光変調部として、後述する第6の実施形態に記載の光変調器70を利用可能である。
光ファイバ61は、コア62とクラッド63とを備えている。光ファイバの第1の端部は、変換部35’に接続されている。より詳しくは、コア62の光入射面は、変換部35’の光出射面に当接している。従って、変換部35’から出射された光信号は、光ファイバ61に入射され、光ファイバ61をy軸負方向側へ向かって伝播する。
光ファイバ61のもう一方の端部である第2の端部(図示せず)には、後述する光信号受信系統と同じ構造が設けられている。従って、光ファイバ61をy軸負方向側へ向かって伝播する光信号は、光ファイバ61の第2の端部に設けられた光信号受信系統によって受信される。
(光信号受信系統)
図9に示すように、光通信装置50が備えている光信号受信系統は、出力用IC54、PD41、光導波路素子30、外部機器と出力用IC54とを接続する配線58、出力用IC54とPD41とを接続する配線57、及び光ファイバ64を備えている。
光ファイバ64は、光ファイバ61と同様に構成された光ファイバであって、コア65と、クラッド66とを備えている。コア65の光出射面と、光導波路素子30の光入射面(図7に示す光入射面351に対応)とは、当接している。また、光導波路素子30の光出射面(図7に示す光出射面12b4)と、PD41の受光部42(図8参照)とは、当接している。
光ファイバ64の第1の端部(図示せず)には、上述した光信号送信系統と同じ構造が設けられている。従って、光ファイバ64の第1の端部から入射し、光ファイバ64をy軸正方向側へ向かって伝播する光信号は、光導波路素子30のコア32(図7参照)の光入射面からコア32に入射する。
コア32に入射した光信号は、コア32をy軸正方向側へ向かって伝播し、コア32の光出射面からPD41の受光部42に入射する。
PD41は、受光部42に入射した光信号を検出し、この光信号に応じた電気信号を出力用IC54に出力する。
出力用IC54は、PD41から入力された電気信号を上記通信規格によって定められたフォーマットに準拠するように処理し、この処理済である電気信号を出力信号として外部機器に出力する。
光通信装置50の光受信系統は、光導波路素子30を備えているため、偏波モード分散が低減された光信号を受信及び処理することによって、光信号に応じた出力信号を出力する。従って、光通信装置50は、光導波路素子30を備えていない光通信装置と比較して、より高いビットレートに対応することができる。
〔実施形態6〕
本発明の第6の実施形態に係る光変調器について、図10を参照しながら説明する。図10は、本実施形態に係る光変調器70の上面図である。
光変調器70は、SOI基板を用いて作製されたシリコン光変調器であって、少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してマッハツェンダー干渉計をなすコア70aと、クラッド71とを備えている。コア70aは、厚さが210nm以上230nm以下であるSi製であり、クラッド71は、SiO製である。
図10に示すように、マッハツェンダー干渉計をなすコア70aは、入射側導波路72、出射側導波路73、第1のアーム部74a、及び第2のアーム部74bを備えている。また、第1のアーム部74aには、第1の非対象部75aが設けられており、第2のアーム部74bには、第2の非対象部75bが設けられている。入射側導波路72をx軸正方向側に向かって伝播した光は、2つに分岐して第1のアーム部74aと第2のアーム部74bとを伝播する。その後、第1のアーム部74aと第2のアーム部74bとを伝播したそれぞれの光は、出射側導波路73において合流し、合流した光は、光変調器70から出射される。
第1のアーム部74aが備えている第1の非対象部75aは、第2のアーム部74bが備えている第2の非対象部75bに対して第1の導波路76、第2の導波路77、及び第3の導波路78を追加した構成である。従って、第1の導波路76、第2の導波路77、及び第3の導波路78は、第1のアーム部74aと第2のアーム部74bとの差分をなす導波路である。
ここで、第1の導波路76が有する第1の端面761を、上記差分をなす導波路の第1の端部と規定する。上記第1の端部から数えて、1番目の導波路は第1の導波路76であり、2番目の導波路は第2の導波路77であり、3番目の導波路は第3の導波路78である。なお、上記第1の端部から導波路を数える場合、上記差分をなす導波路についてのみ数える。
以下において、第1の導波路76の長さをLとし、第2の導波路77の長さをLとし、第3の導波路78の長さをLとすると、第1のアーム部74aの長さと、第2のアーム部74bの長さとの差(第1のアーム部と第2のアーム部との差分)であるΔLは、ΔL=L+L+Lと定義される。
また、第1の導波路76の幅をW76とし、第2の導波路77の幅をW77とし、第3の導波路78の幅をW78とする。本実施形態において、幅W76は600nmであり、幅W77は800nmであり、幅W78は600nmであるものとして説明する。
第1の実施形態において説明したように、Si製の導波路における群屈折率は、導波路の幅に依存して異なる。以下において、第1の導波路76におけるTE0モードの群屈折率をng_1_TEとし、TM0モードにおける群屈折率をng_1_TMとする。同様に、第2の導波路77におけるTE0モードの群屈折率をng_2_TEとし、TM0モードの群屈折率をng_2_TMとする。また、第3の導波路78におけるTE0モードの群屈折率をng_3_TEとし、TM0モードの群屈折率をng_3_TMとする。幅W76と幅W78とが同じであるため、第1の導波路76における各群屈折率と、第3の導波路78における各群屈折率とは同じである。
第1のアーム部74aを伝播するTE0モードの光と、第2のアーム部74bを伝播するTE0モードの光とが出射側導波路73において合流するときに、互いに強め合うために、L、L、及びLのそれぞれは、(4)式を満たす必要がある。
Figure 0006005713
ここで、mは、整数であり、λは、伝播する光の波長である。
同様に、第1のアーム部74aを伝播するTM0モードの光と、第2のアーム部74bを伝播するTM0モードの光とが出射側導波路73において合流するときに、互いに強め合うために、L、L、及びLのそれぞれは、(5)式を満たす必要がある。
Figure 0006005713
更に、第1のアーム部74aを伝播するTM0モードの光と、第2のアーム部74bを伝播するTM0モードの光とが出射側導波路73において合流するときに、TE0モード光が互いに強め合う波長と、TM0モードの光が互いに強め合う波長とを、実用上問題のない範囲で揃えるために、長さL、L、及びLのそれぞれは、(6)式を満たすように定められている。
Figure 0006005713
また、長さL、L、及びLのそれぞれは、(7)式を満たすことが好ましい。
Figure 0006005713
長さL、L、及びLのそれぞれが(7)式を満たすことによって、光変調器70は、TE0モード光が互いに強め合う波長と、TM0モードの光が互いに強め合う波長とを、より精度よく揃えることができる。
また、長さL、L、及びLのそれぞれは、(8)式を満たすことがより好ましい。
Figure 0006005713
長さL、L、及びLのそれぞれが(8)式を満たすことによって、光変調器70は、TE0モード光が互いに強め合う波長と、TM0モードの光が互いに強め合う波長とを、同一にすることができる。
長さL、L、及びLは、第1のアーム部74aの長さと、第2のアーム部74bの長さとの差であるΔLに基づいて定めることができる。例えば、(7)式、L+L+L=ΔL、及びL+L=Lの連立方程式を解けばよい。例えば、ΔLを5000μmとした場合の解の1つとして、L=1175μmと、L=1325μmと、L=2500μmとが得られる。
光変調器70は、SOI基板を用いて作製されているため、様々なシリコンデバイスと共に1つの基板上に作製することができる。例えば、光変調器70は、第5の実施形態に記載の光通信装置50の光変調部として利用可能である。
〔実施形態7〕
本発明の第7の実施形態に係る光共振器について、図11及び図12を参照しながら説明する。図11は、本実施形態に係る光共振器80の上面図である。図12は、本実施形態に係る光共振器90の上面図である。
光共振器80は、SOI基板を用いて作製されたシリコン光変調器であって、複数の導波路が光の伝播方向に沿って環状に連通してなるリング導波路83と、リング導波路83と共振するように結合されている第2のコア82と、クラッド81とを備えているリング共振器である。リング導波路83は、第1の導波路84及び第2の導波路85からなる環状の導波路であって、第1のコアである。第2のコア82と、リング導波路83とは、何れも厚さが210nm以上230nm以下であるSi製であり、クラッド81は、SiO製である。
第1の導波路84は、第1の端面841及び第2の端面842を有する。第2の導波路85は、第3の端面853及び第4の端面854を有する。第1の導波路84と第2の導波路85とは、第2の端面842と第3の端面853とを介して光の伝播方向に連通しており、また、第1の端面841と第4の端面854とを介して光の伝播方向に連通している。
ここで、第1の導波路84が有する第1の端面841をリング導波路83の基準面と規定する。上記基準面、すなわち第1の端面841から数えて、1番目の導波路は第1の導波路84であり、2番目の導波路は第2の導波路85である。なお、上記基準面から導波路を数える場合、リング導波路83の連通する方向に沿って時計回り方向に数える物とする。
本実施形態において第1の導波路84の幅Wは、600nmであり、第2の導波路85の幅Wは、800nmである。また、以下において、第1の導波路84の中心軸の長さをLとし、第2の導波路85の中心軸の長さをLとする。また、リング導波路83の周回長LをL=L+Lと定義する。
ここで、第1の導波路84におけるTE0モードの群屈折率をng_1_TEとし、TM0モードの群屈折率をng_1_TMとする。また、第2の導波路85におけるTE0モードの群屈折率をng_2_TEとし、TM0モードの群屈折率をng_2_TMとする。
光共振器80において、長さL及びLのそれぞれは、(9)式を満たすように定められている。
Figure 0006005713
長さL及びLのそれぞれが(9)式を満たすことによって、リング導波路83における偏波モード分散は補償される。従って、光共振器80において、TE0モードの共振波長と、TM0モードの共振波長とは、実用上問題のない範囲内に揃えられる。なお、共振波長は、共振スペクトルとも表現できる。
また、長さL及びLのそれぞれは、(10)式を満たすことが好ましい。
Figure 0006005713
長さL及びLのそれぞれが(10)式を満たすことによって、光共振器80は、TE0モードの共振波長と、TM0モードの共振波長とを、より精度よく揃えることができる。
また、長さL及びLのそれぞれは、(11)式を満たすことがより好ましい。
Figure 0006005713
長さL及びLのそれぞれが(11)式を満たすことによって、光共振器80は、TE0モードの共振波長と、TM0モードの共振波長とを、同一にすることができる。
長さL及びLは、リング導波路83の周回長Lに基づいて定めることができる。例えば、(7)式、及びL+L=Lの連立方程式を解けばよい。例えば、Lを5000μmとした場合の解の1つとして、L=3675μmと、L=1325μmとが得られる。
以上のように、光共振器80は、リング導波路において生じる偏波モード分散を補償し、光共振器における偏波依存性を解消することができる。
図12に示す光共振器90は、光共振器80の変形例である。具体的には、光共振器90は、少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなるリング導波路83、並びにリング導波路83と共振するように結合されている第2のコア92及び第3のコア96を備えている。言い換えれば、光共振器90は、開放型リング共振器である。
上記の構成によれば、光共振器90は、光共振器80と同様の効果を奏する。
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明は、光を導波する光導波路、より具体的にはシリコン系の材料からなる光導波路に利用することができる。
10,20,30 光導波路素子
11,31,71,81,91 クラッド
12,22,32,70a コア
12a,76,84 第1の導波路
12a1 第1の端面(コア12の光入射面)
12a2 第2の端面(第1の境界)
12b,77,85 第2の導波路
12b3,853 第3の端面(第2の境界)
12b4,854 第4の端面(コア12の光出射面)
23 接続部
35,35’ 変換部
351 第5の端面(光入射側の端部、光入射面)
352 第6の端面(光出射側の端部)
40 受光装置
41 受光素子(PD)
42 受光部
50 光通信装置
51 変調器
52 レーザダイオード(LD)
53 制御用IC
54 出力用IC
55,56,57,59 配線
60,61,64 ファイバ
70 光変調器
72 入射側導波路
73 出射側導波路
74a 第1のアーム部
74b 第2のアーム部
75a 第1の非対象部
75b 第2の非対象部
761 第1の端面(差分をなす導波路の第1の端部)
78 第3の導波路
80,90 光共振器
82,92 第2のコア
83 リング導波路
841 第1の端面(リング導波路の基準面)
96 第3のコア

Claims (14)

  1. Si製のコアであって、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光導波路素子であって、
    上記コアの光入射面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
    Figure 0006005713
    の関係を満たす、
    ことを特徴とする光導波路素子。
  2. 上記長さL_i[m]は、
    Figure 0006005713
    の関係を満たす、
    ことを特徴とする請求項1に記載の光導波路素子。
  3. 上記i番目の導波路と、i+1番目の導波路とを接続する接続部を更に備え、
    上記i番目の導波路と上記接続部との境界である第1の境界において、上記接続部は、上記i番目の導波路の幅と等しい第1の幅を有し、
    当該接続部と上記i+1番目の導波路との境界である第2の境界において、上記接続部は、上記i+1番目の導波路の幅と等しい第2の幅を有し、
    上記第1の境界から上記第2の境界に近づくに従って、上記第1の幅は、上記第2の幅へ広がるように連続的に変化する、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光導波路素子。
  4. 上記i番目の導波路とi+1番目の導波路とが直接接続されている、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光導波路素子。
  5. 上記複数の導波路は、2つの導波路である、
    ことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の光導波路素子。
  6. 上記コアの全長が1000μm以上である、
    ことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の光導波路素子。
  7. 上記コアの厚さは、210nm以上230nm以下の範囲内である、
    ことを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の光導波路素子。
  8. 上記コアは、変換部を更に備え、
    上記変換部の光出射側の端部が、連通する複数の導波路の光入射側の端部に接続され、且つ、上記変換部の光入射側の端部が当該コアの光入射面をなし、
    上記変換部の上記光入射側の端部の幅は、上記導波路の上記光入射側の端部の幅より狭い、
    ことを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の光導波路素子。
  9. 請求項1〜8の何れか1項に記載の光導波路素子と、
    上記光導波路素子が備えている上記コアの光出射面に対向するように受光部が配置されている受光素子と、を備えている、
    ことを特徴とする受光装置。
  10. 請求項9に記載の受光装置と、
    光信号を出力するレーザダイオードと、
    上記レーザダイオードから入力された上記光信号を変調する光変調器と、を備えている、
    ことを特徴とする光通信装置。
  11. 上記受光装置から受光した光信号を表す電気信号を入力され、外部機器へ当該電気信号に応じた出力信号を出力する出力用ICと、
    上記外部機器から入力された制御信号に応じて上記レーザダイオード及び上記光変調器を制御する制御用ICと、を更に備えている、
    ことを特徴とする請求項10に記載の光通信装置。
  12. Si製のコアであって、マッハツェンダー干渉計を含むコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光変調器であって、
    上記コアの第1のアーム部と第2のアーム部との差分をなす導波路は、それぞれの幅が異なる少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなり、
    上記差分をなす導波路の第1の端部から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
    Figure 0006005713
    の関係を満たす、
    ことを特徴とする光変調器。
  13. Si製のコアであって、環状の第1のコアと、Si製のコアであって、上記第1のコアと共振するように結合されている第2のコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光共振器であって、
    上記第1のコアは、それぞれの幅が異なる少なくとも2つの導波路が光の伝播方向に連通してなり、
    上記第1のコアの基準面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、i番目の導波路の長さL_i[m]は、
    Figure 0006005713
    の関係を満たす、
    ことを特徴とする光共振器。
  14. Si製のコアであって、それぞれの幅が異なる複数の導波路が光の伝播方向に連通してなるコアと、SiO製のクラッドと、を備えている光導波路素子の製造方法であって、
    上記コアの光入射面から数えてi番目の導波路におけるTE0偏波の群屈折率をng_i_TEとし、当該i番目の導波路におけるTM0偏波の群屈折率をng_i_TMとして、
    Figure 0006005713
    の関係を満たすようにi番目の導波路の長さL_i[m]を決定する導波路長決定ステップを含む、
    ことを特徴とする光導波路素子の製造方法。
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