JP6003851B2 - 連続鋳造用鋳型及び鋼の連続鋳造方法 - Google Patents
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[1]水冷式銅鋳型の内壁面であって、メニスカスよりも上方の任意の位置から、定常鋳造時の鋳片引き抜き速度に対して下記の(1)式を満足する距離L0以上メニスカスよりも下方の位置までの内壁面の範囲に、銅の熱伝導率に対してその熱伝導率を30%以下とする金属に該金属よりも更に熱伝導率の低い非金属粒子が分散添加されて成る低熱伝導金属体が前記内壁面に設けた円形凹溝または擬似円形凹溝の内部に充填されて形成された、直径2〜20mmまたは円相当径2〜20mmの複数個の金属体充填部をそれぞれ独立して有することを特徴とする連続鋳造用鋳型。
L0=2×Vc×1000/60 …(1)
但し、(1)式において、L0は、メニスカスからの距離(mm)、Vcは、定常鋳造時の鋳片引き抜き速度(m/min)である。
[2]前記金属体充填部での前記低熱伝導金属体の充填厚みは、前記円形凹溝または前記擬似円形凹溝の深さ以下で且つ0.3mm以上であって、前記金属体充填部の直径または円相当径に対して下記の(2)式の関係を満足することを特徴とする、上記[1]に記載の連続鋳造用鋳型。
0.3≦H≦0.5×d …(2)
但し、(2)式において、Hは、低熱伝導金属体の充填厚み(mm)、dは、金属体充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。
[3]前記金属体充填部同士の間隔が、該金属体充填部の直径または円相当径に対して下記の(3)式の関係を満足することを特徴とする、上記[1]または上記[2]に記載の連続鋳造用鋳型。
P≧0.25×d …(3)
但し、(3)式において、Pは、金属体充填部同士の間隔(mm)、dは、金属体充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。
[4]前記低熱伝導金属体の非金属粒子の含有量が10〜50体積%であることを特徴とする、上記[1]ないし上記[3]の何れか1項に記載の連続鋳造用鋳型。
[5]上記[1]ないし上記[4]の何れか1項に記載の連続鋳造用鋳型を用い、タンディッシュ内の溶鋼を前記連続鋳造用鋳型に注入して溶鋼を連続鋳造することを特徴とする、鋼の連続鋳造方法。
[6]前記溶鋼は、炭素含有量が0.08〜0.17質量%の中炭素鋼であることを特徴とする、上記[5]に記載の鋼の連続鋳造方法。
L0=2×Vc×1000/60 …(1)
但し、(1)式において、L0は、メニスカスからの距離(mm)、Vcは、定常鋳造時の鋳片引き抜き速度(m/min)である。
円相当径=(4×S/π)1/2 …(4)
但し、(4)式において、Sは、金属体充填部3の面積(mm2)である。
0.3≦H≦0.5×d …(2)
但し、(2)式において、Hは、低熱伝導金属体の充填厚み(mm)、dは、円形凹溝の直径(mm)または擬似円形凹溝の円相当径(mm)である。この場合、低熱伝導金属体の充填厚みは円形凹溝或いは擬似円形凹溝の深さ以下とする。
P≧0.25×d …(3)
但し、(3)式において、Pは、金属体充填部同士の間隔(mm)、dは、金属体充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。
2 円形凹溝
3 金属体充填部
4 鍍金層
5 冷却水流路
6 バックプレート
Claims (5)
- 水冷式銅鋳型の内壁面であって、メニスカスよりも上方の任意の位置から、定常鋳造時の鋳片引き抜き速度に対して下記の(1)式を満足する距離L0以上メニスカスよりも下方の位置までの内壁面の範囲に、銅の熱伝導率に対してその熱伝導率を30%以下とする金属に該金属よりも更に熱伝導率の低い非金属粒子が分散添加されて成る低熱伝導金属体が前記内壁面に設けた円形凹溝または擬似円形凹溝の内部に充填されて形成された、直径2〜20mmまたは円相当径2〜20mmの複数個の金属体充填部をそれぞれ独立して有し、
前記金属体充填部での前記低熱伝導金属体の充填厚みは、前記円形凹溝または前記擬似円形凹溝の深さ以下で且つ0.3mm以上であって、前記金属体充填部の直径または円相当径に対して下記の(2)式の関係を満足し、
且つ、前記金属体充填部を形成させた銅鋳型内壁面に、前記金属体充填部の充填厚みの0.5倍以下の厚みのニッケル系合金の鍍金層が設けられていることを特徴とする連続鋳造用鋳型。
L0=2×Vc×1000/60 …(1)
0.3≦H≦0.5×d …(2)
但し、(1)式において、L0は、メニスカスからの距離(mm)、Vcは、定常鋳造時の鋳片引き抜き速度(m/min)であり、また、(2)式において、Hは、低熱伝導金属体の充填厚み(mm)、dは、金属体充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。 - 前記金属体充填部同士の間隔が、該金属体充填部の直径または円相当径に対して下記の(3)式の関係を満足することを特徴とする、請求項1に記載の連続鋳造用鋳型。
P≧0.25×d …(3)
但し、(3)式において、Pは、金属体充填部同士の間隔(mm)、dは、金属体充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。 - 前記低熱伝導金属体の非金属粒子の含有量が10〜50体積%であることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の連続鋳造用鋳型。
- 請求項1ないし請求項3の何れか1項に記載の連続鋳造用鋳型を用い、タンディッシュ内の溶鋼を前記連続鋳造用鋳型に注入して溶鋼を連続鋳造することを特徴とする、鋼の連続鋳造方法。
- 前記溶鋼は、炭素含有量が0.08〜0.17質量%の中炭素鋼であることを特徴とする、請求項4に記載の鋼の連続鋳造方法。
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