JP6428721B2 - 連続鋳造用鋳型及び鋼の連続鋳造方法 - Google Patents
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Description
[1]水冷式銅合金製鋳型の内壁面のメニスカスよりも上方の任意の位置から、メニスカスよりも、下方の任意の位置までの銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲に設けられた凹溝の内部に、鋳型銅板の熱伝導率λcに対してその熱伝導率λmを80%以下とする低熱伝導金属が充填されてなる複数個の低熱伝導金属充填部を有する連続鋳造用鋳型であって、
下記の(2)式により定義される、前記低熱伝導金属充填部と前記鋳型銅板との熱抵抗比Rが5%以上であることを特徴とする、連続鋳造用鋳型。
R={(T−H)/(1000×λc)+H/(1000×λm)−T/(1000×λc)}/{T/(1000×λc)}×100・・・(2)
但し、(2)式において、Rは低熱伝導金属充填部と鋳型銅板との熱抵抗比(%)、Tは鋳型冷却水の流路となる鋳型銅板のスリットの底面から鋳型銅板表面までの距離(mm)、Hは低熱伝導金属の充填厚み(mm)、λcは鋳型銅板の熱伝導率(W/(m×K))、λmは低熱伝導金属の熱伝導率(W/(m×K))である。
[2]前記凹溝は、メニスカスよりも上方の任意の位置から、鋳片引き抜き速度Vcによって下記の(1)式で算出される長さL0以上下方の任意の位置までの銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲に設けられたことを特徴とする、[1]に記載の連続鋳造用鋳型。
L0=2×Vc×1000/60・・・(1)
但し、(1)式において、L0は長さ(mm)、Vcは鋳片引き抜き速度(m/min)である。
[3]前記連続鋳造用鋳型は、前記低熱伝導金属充填部が設けられた銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲において、周期的な熱抵抗分布または熱流束分布を有することを特徴とする、[1]または[2]に記載の連続鋳造用鋳型。
[4]前記低熱伝導金属充填部は、円形凹溝または擬似円形凹溝の内部に前記低熱伝導金属が充填されて形成され、前記円形凹溝の直径が2〜20mmまたは前記擬似円形凹溝の円相当径が2〜20mmであることを特徴とする、[1]から[3]の何れか1つに記載の連続鋳造用鋳型。
[5]前記低熱伝導金属充填部同士の間隔が、該低熱伝導金属充填部の前記直径または前記円相当径に対して下記の(3)式の関係を満足することを特徴とする、[4]に記載の連続鋳造用鋳型。
P≧0.25×d・・・(3)
但し、(3)式において、Pは、低熱伝導金属充填部同士の間隔(mm)、dは、低熱伝導金属充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。
[6]前記低熱伝導金属充填部が形成された範囲内の鋳型銅板内壁面の面積A(mm2)に対する、全ての低熱伝導金属充填部の面積の総和B(mm2)の比である面積率S(S=(B/A)×100)が10%以上であり、且つ、前記面積A(mm2)に対する、全ての低熱伝導金属充填部と鋳型銅板との境界長さの総和C(mm)の比ε(ε=C/A)が下記(4)式の関係を満足することを特徴とする、[1]から[6]の何れか1つに記載の連続鋳造用鋳型。
0.07≦ε≦0.60・・・(4)
[7]前記低熱伝導金属充填部がそれぞれ独立して形成されていることを特徴とする、[6]に記載の連続鋳造用鋳型。
[8]前記低熱伝導金属は、鍍金処理または溶射処理によって前記凹溝の内部に充填されることを特徴とする、[1]から[7]の何れか1つに記載の連続鋳造用鋳型。
[9]前記鋳型銅板の内壁面には、厚みが2.0mm以下のニッケルまたはニッケルを含有する合金の鍍金層が形成されており、前記低熱伝導金属充填部は前記鍍金層で覆われていることを特徴とする、[1]から[8]の何れか1つに記載の連続鋳造用鋳型。
[10][1]から[9]の何れか1つに記載の連続鋳造用鋳型を用い、炭素含有量が0.08〜0.17質量%の中炭素鋼を、鋳片厚みが200mm以上のスラブ鋳片として1.5m/min以上の鋳片引き抜き速度で連続鋳造することを特徴とする、鋼の連続鋳造方法。
但し、(2)式において、Rは低熱伝導金属充填部と鋳型銅板との熱抵抗比(%)、Tは鋳型銅板のスリットの底面から鋳型銅板表面までの距離(mm)、Hは低熱伝導金属の充填厚み(mm)、λcは鋳型銅板の熱伝導率(W/(m×K))、λmは低熱伝導金属の熱伝導率(W/(m×K))である。
但し、(1)式において、L0は長さ(mm)、Vcは定常鋳造時の鋳片引き抜き速度(m/min)である。
但し、(5)式において、Sは低熱伝導金属充填部3の面積(mm2)である。
但し、(3)式において、Pは、低熱伝導金属充填部同士の間隔(mm)、dは、低熱伝導金属充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。
比εの鋳片表面割れに及ぼす影響を調査した結果、比εが(4)式の範囲外の場合には、表面割れの低減効果が少なかった。比εは、低熱伝導金属充填部3の直径dまたは円相当径d及び低熱伝導金属充填部3の個数に依存して変化し、比εが0.07未満のときは、低熱伝導金属充填部3の個数が少なく、鋼のδ/γ変態時の体積収縮や熱収縮により生じた応力がシェル全体に均一に分散されにくくなるので鋳片の表面割れ抑制効果が低減する。一方、比εが0.60よりも大きいときは、低熱伝導金属充填部3の個数が多すぎる結果、熱流束の周期的な増減が目的とする水準に達せず、鋳片の表面割れの抑制効果が低減する。また、比εが0.60よりも大きい場合には、鋳型直下での鋳片バルジングも認められた。
2 円形凹溝
3 低熱伝導金属充填部
4 スリット
5 バックプレート
6 鍍金層
Claims (9)
- 水冷式銅合金製鋳型の内壁面のメニスカスよりも上方の任意の位置から、メニスカスよりも、下方の任意の位置までの銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲に設けられた凹溝の内部に、鋳型銅板の熱伝導率λcに対してその熱伝導率λmを80%以下とする低熱伝導金属が充填されてなる複数個の低熱伝導金属充填部を有する連続鋳造用鋳型であって、
下記の(2)式により定義される、前記低熱伝導金属充填部と前記鋳型銅板との熱抵抗比Rが5%以上であり、
前記低熱伝導金属充填部が形成された範囲内の鋳型銅板内壁面の面積A(mm 2 )に対する、全ての低熱伝導金属充填部の面積の総和B(mm 2 )の比である面積率S(S=(B/A)×100)が10%以上であり、且つ、前記面積A(mm 2 )に対する、全ての低熱伝導金属充填部と鋳型銅板との境界長さの総和C(mm)の比ε(ε=C/A)が下記(4)式の関係を満足することを特徴とする、連続鋳造用鋳型。
R={(T−H)/(1000×λc)+H/(1000×λm)−T/(1000×λc)}/{T/(1000×λc)}×100・・・(2)
0.07≦ε≦0.60・・・(4)
但し、(2)式において、Rは低熱伝導金属充填部と鋳型銅板との熱抵抗比(%)、Tは鋳型冷却水の流路となる鋳型銅板のスリットの底面から鋳型銅板表面までの距離(mm)、Hは低熱伝導金属の充填厚み(mm)、λcは鋳型銅板の熱伝導率(W/(m×K))、λmは低熱伝導金属の熱伝導率(W/(m×K))である。 - 前記凹溝は、メニスカスよりも上方の任意の位置から、鋳片引き抜き速度Vcによって下記の(1)式で算出される長さL0以上下方の任意の位置までの銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲に設けられたことを特徴とする、請求項1に記載の連続鋳造用鋳型。
L0=2×Vc×1000/60・・・(1)
但し、(1)式において、L0は長さ(mm)、Vcは鋳片引き抜き速度(m/min)である。 - 前記連続鋳造用鋳型は、前記低熱伝導金属充填部が設けられた銅合金製鋳型銅板の内壁面の範囲において、周期的な熱抵抗分布または熱流束分布を有することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の連続鋳造用鋳型。
- 前記低熱伝導金属充填部は、円形凹溝または擬似円形凹溝の内部に前記低熱伝導金属が充填されて形成され、前記円形凹溝の直径が2〜20mmまたは前記擬似円形凹溝の円相当径が2〜20mmであることを特徴とする、請求項1から請求項3の何れか一項に記載の連続鋳造用鋳型。
- 前記低熱伝導金属充填部同士の間隔が、該低熱伝導金属充填部の前記直径または前記円相当径に対して下記の(3)式の関係を満足することを特徴とする、請求項4に記載の連続鋳造用鋳型。
P≧0.25×d・・・(3)
但し、(3)式において、Pは、低熱伝導金属充填部同士の間隔(mm)、dは、低熱伝導金属充填部の直径(mm)または円相当径(mm)である。 - 前記低熱伝導金属充填部がそれぞれ独立して形成されていることを特徴とする、請求項1から請求項5の何れか一項に記載の連続鋳造用鋳型。
- 前記低熱伝導金属は、鍍金処理または溶射処理によって前記凹溝の内部に充填されることを特徴とする、請求項1から請求項6の何れか一項に記載の連続鋳造用鋳型。
- 前記鋳型銅板の内壁面には、厚みが2.0mm以下のニッケルまたはニッケルを含有する合金の鍍金層が形成されており、前記低熱伝導金属充填部は前記鍍金層で覆われていることを特徴とする、請求項1から請求項7の何れか一項に記載の連続鋳造用鋳型。
- 請求項1から請求項8の何れか一項に記載の連続鋳造用鋳型を用い、炭素含有量が0.08〜0.17質量%の中炭素鋼を、鋳片厚みが200mm以上のスラブ鋳片として1.5m/min以上の鋳片引き抜き速度で連続鋳造することを特徴とする、鋼の連続鋳造方法。
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