JP5987469B2 - 光導波路 - Google Patents

Description

本発明は、光導波路に関し、特に光の伝達効率が良好な光路変換ミラー付き光導波路に関する。

情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ装置内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。

このような光導波路としては、例えば、特許文献１に記載されているように、まず、下部クラッド層を硬化形成した後に、下部クラッド層上にコアパターンを形成し、上部クラッド層を積層し、光導波路を形成し、その後、切削加工によって光路変換ミラー部を形成した光導波路が提案されている。
このような光導波路に、受発光素子、光ファイバコネクタ、他の光導波路等の独立した外部光学部材を繋ぎ、コアパターン内を伝搬した光信号を接続する場合、コアパターンと当該外部光学部材との伝送ロスを抑える必要がある。

特開２００６−０１１２１０号公報

しかしながら、特許文献１に記載の光導波路においては、光路変換ミラーにおいて光路変換され、光導波路の外部に出射された光は、外部光学部材の受光部に達するまでに拡散してしまい、光損失が大きくなるという問題があった。

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、光路変換ミラーを有する光導波路と外部光学部材との間における光伝達効率に優れた光導波路を提供することを目的とする。

本発明者らは、光路変換ミラーにおいて光路変換され、光導波路の外部に出射された光の光路上に、所定の方向に位置ズレしたレンズを配置することで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、以下の発明を提供するものである。
１．下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン及び上部クラッド層が順に積層され、かつ、前記光信号伝達用コアパターン上に光路変換ミラーを備える光導波路であって、
前記光路変換ミラーは、前記光信号伝達用コアパターンを伝搬する光の光路上に位置し、かつ、前記光路に対して傾斜しており、
また、前記光路変換ミラーによって光路変換された光の光路上に位置するように、前記下部クラッド層側又は上部クラッド層側にレンズを有し、
さらに、前記レンズの中心点を通りレンズ面に垂直な直線である光軸が前記光路変換ミラーの中心点よりも前記光信号伝達用コアパターン寄りになるように、前記レンズが前記光導波路平面上に配置されている、光導波路。
２．前記光路変換ミラーは、前記光路に対して４５°傾斜している、上記１に記載の光導波路。
３．前記光導波路平面上における、レンズの中心点とミラーの中心点との間の距離が、前記光信号伝達用コアパターンのコア厚みの５〜１００％である、上記１又は２に記載の光導波路。
４．前記光導波路平面上において、レンズの直径が、前記光信号伝達用コアパターンのコア径の１００〜５００％である、上記１から３のいずれかに記載の光導波路。
５．前記レンズが、前記光路変換ミラーによって光路変換された光を外部光学部材に受光させるための集光レンズである、上記１から４のいずれかに記載の光導波路。
６．さらに、基板を有し、該基板と前記光信号伝達用コアパターンとが下部クラッド層を挟持する、上記１から５のいずれかに記載の光導波路。
７．前記基板が前記光路変換ミラーによって光路変換された光を透過する透明基板である、上記６に記載の光導波路。
８．前記透明基板がポリイミド基板である、上記７に記載の光導波路。
９．前記基板上に、レンズ厚さ以上の厚さを有するレジスト又はダミーレンズを前記レンズと並設させる、上記６から８のいずれかに記載の光導波路。
１０．前記レンズが、フォトリソグラフィー加工レンズである、上記１から９のいずれかに記載の光導波路。
１１．前記光路変換ミラーは、前記光信号伝達用コアパターンの切削面である、上記１から１０のいずれかに記載の光導波路。

本発明の光導波路は、外部光学部材との間における光伝達効率に優れる。

（ａ）本発明の光導波路の斜視図、（ｂ）図１（ａ）の光導波路の平面図、（ｃ）図１（ｂ）の光導波路のＡ−Ａ’線断面図である。 図１（ｂ）の光導波路の製造方法を、Ｂ−Ｂ’線断面図にて示す図である。

本発明の光導波路は、必要に応じて設けられる基板１上に、下部クラッド層２、光信号伝達用コアパターン３及び上部クラッド層４が順に積層され、かつ該光信号伝達用コアパターン３上に光路変換ミラー５を備える光導波路であって、該光路変換ミラー５は、該光信号伝達用コアパターン３を伝搬する光の光路上に位置し、かつその光路に対して傾斜しており、また、該光路変換ミラー５によって光路変換された光の光路上に位置するように、該下部クラッド層２側又は上部クラッド層４側にレンズ６を有し、さらに、該光導波路平面上において、レンズの中心点がミラーの中心点よりも光信号伝達用コアパターン３寄りに配置されている。
本発明の光導波路においては、レンズ６が光信号伝達用コアパターン３寄りに配置されていることで、レンズ中心点とミラー中心点が重なっている場合と比較して、光導波路と外部光学部材との間における光伝達効率が改善する。

本発明の光導波路は、下部クラッド層２側又は上部クラッド層４側にレンズ６を有する。ここで、「下部クラッド層側にレンズを有する」とは、下部クラッド層２の光信号伝達用コアパターン３が形成されている面とは反対面側にレンズ６を有することを示し、下部クラッド層２とレンズ６との間に基板１等を有する態様も含む。
図１に示す光導波路においては、基板１上にレンズ６が形成され、下部クラッド層２とレンズ６との間に基板１を挟み込んでおり、上部クラッド層４側から光信号伝達用コアパターン３を切断することで光路変換ミラー５が形成されているが、上部クラッド層４上にレンズ６が形成され、光信号伝達用コアパターン３とレンズ６との間に上部クラッド層４を挟み込むようにして、基板１側から（基板１を有しない場合、下部クラッド層２側から）光信号伝達用コアパターン３を切断することで光路変換ミラー５を形成してもよい。
このように、レンズ６と、光路変換ミラー５を形成するための切り込みとは、互いに光導波路の反対面側に形成される。

［基板］
本発明の光導波路に用い得る基板１の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板などが挙げられる。また、基板１としては、柔軟性及び強靭性がある点、及び光信号等の長波長側の光を透過する一方、フォトリソグラフィーで使用する活性光線等の短波長側の光を遮光できる点から、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド基板を使用することが好ましく、より好適にはポリイミド基板が好ましい。
基板１は、基板１側にレンズ６を有する場合、光路変換ミラーによって光路変換された光を透過する透明基板であることが好ましい。
基板１の厚みは、５μｍ〜１ｍｍであることが好ましく、１０μｍ〜１００μｍであることがさらに好ましい。基板１の厚みが５μｍ以上であると、基板１の剛性の点で好ましく、１ｍｍ以下であると、光路変換ミラー５にて反射された光信号が広がる前にレンズ６に入射されるため好ましい。

［下部クラッド層及び上部クラッド層］
本発明における下部クラッド層２及び上部クラッド層４は、例えば、クラッド層形成用樹脂層を積層し、露光現像することで形成することができる。クラッド層形成用樹脂は、複数の成分を含む組成物であってもよい。
本発明で用いるクラッド層形成用樹脂としては、光信号伝達用コアパターン３より低屈折率で、光又は熱により硬化する樹脂であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂や感光性樹脂を好適に使用することができる。クラッド層形成用樹脂は、下部クラッド層２及び上部クラッド層４において、該樹脂が含有する成分が同一であっても異なっていてもよく、該樹脂の屈折率が同一であっても異なっていてもよい。

クラッド層形成用樹脂層を積層する方法は特に限定されず、例えば、クラッド層形成用樹脂を溶媒に溶解して塗布するなどして積層してもよく、事前に用意したクラッド層形成用樹脂フィルムをラミネートしてもよい。
塗布による場合には、その方法は限定されず、クラッド層形成用樹脂を常法により塗布すれば良い。
また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、例えば、クラッド層形成用樹脂を溶媒に溶解して、キャリアフィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。

下部クラッド層２及び上部クラッド層４の厚さに関しては、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、５〜５００μｍの範囲が好ましい。５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、５００μｍ以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、下部クラッド層２及び上部クラッド層４の厚さは、さらに１０〜１００μｍの範囲であることがより好ましい。

（光信号伝達用コアパターン）
光信号伝達用コアパターン３としては、例えば、コア層形成用樹脂層を積層し、露光現像することで形成することができる。コア層形成用樹脂は、複数の成分を含む組成物であってもよい。
コア層形成用樹脂は、下部クラッド層２及び上部クラッド層４より高屈折率であり、活性光線によりパターン化し得るものを用いることが好ましい。パターン化する前のコア層形成用樹脂層の形成方法は限定されず、例えば、コア層形成用樹脂を溶媒に溶解して塗布するなどして積層してもよく、事前に用意したコア層形成用樹脂フィルムをラミネートしてもよい。

コア層形成用樹脂フィルムの厚さについては特に限定されず、乾燥後のコア層の厚さが、通常は１０〜１００μｍとなるように調整される。該フィルムの仕上がり後のコア層の厚さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、１００μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、該フィルムの厚さは、さらに３０〜９０μｍの範囲であることが好ましく、該厚みを得るために適宜フィルム厚みを調整すれば良い。

コア層形成用樹脂としては、用いる光信号に対して透明であり、活性光線によりパターンを形成し得るものを用いることが好ましい。

［光路変換ミラー］
光路変換ミラー５は、光導波路平面に対して略平行方向に延在する光信号伝達用コアパターン３を伝搬した光信号を基板１側から（基板１を有しない場合、下部クラッド層２側から）又は上部クラッド層４側から、前記光導波路平面に対して略垂直方向に光路変換する構造であれば特に限定はなく、光信号伝達用コアパターン３に４５°程度の切り欠きを設けて形成した空気反射ミラーであっても良いし、切り欠き部に反射金属層を形成した金属反射ミラーであっても良い。
光路変換ミラー５は、図１に示す態様のように、基板１側から、ダイシングソー等を用いて光信号伝達用コアパターン３を切断することにより形成したり、または、上部クラッド層４側からダイシングソー等を用いて、光信号伝達用コアパターン３を切断することにより形成することができ、光信号伝達用コアパターン３の進行方向に対して４５°程度であることが好ましい。

＜レンズ＞
レンズ６は、基板１側（基板１を有しない場合、下部クラッド層２側）又は上部クラッド層４側とは反対側の面が凸面となる凸状レンズであって、光信号伝達用コアパターン３を伝搬した光信号を、外部光学部材の受光部に受光させるための集光レンズであることが好ましい。レンズ６の製造方法は特に限定されず、別途製造したものを接着剤等を介して接着してもよいが、フォトリソグラフィー加工により形成できるように、感光性樹脂組成物により形成されることが好ましく、レンズの透明性が良好になる点からネガ型フォトレジストにより形成されることがより好ましい。

本発明の光導波路においては、レンズ６は、図１（ｃ）に示すように、そのレンズ中心点６ａがミラー中心点５ａよりも光信号伝達用コアパターン３寄りに配置されている。レンズ中心点６ａの配置を光信号伝達用コアパターン３寄りにずらすことで、通常、ミラー中心点５ａの直上に配置する外部光学部材の受光部への光伝達効率や位置合わせトレランスが向上する。レンズ中心点６ａをミラー中心点５ａの直上に配置した場合、光伝搬損失が最も小さい０点が光路変換ミラー５の外側の空気層側（光信号伝達用コアパターン３とは反対側）にずれるため、光伝達効率や位置合わせトレランスが悪化する。
上記レンズ中心点６ａとミラー中心点５ａとの距離（図１に示すミラー中心点−レンズ中心点間距離ｄ１）は、光信号伝達用コアパターン３のコア厚みの５〜１００％とすることが好ましく、１０〜８０％とすることがより好ましい。光導波路が複数のレンズ６と光路変換ミラー５との組合せを有する場合、少なくともそのいずれかの組合せにおいて、ミラー中心点−レンズ中心点間距離ｄ１が上記範囲を満たすことが好ましく、全てのミラー中心点−レンズ中心点間距離ｄ１が上記範囲を満たすことがより好ましい。
尚、上記レンズ中心点６ａとミラー中心点５ａとの位置関係は、厳密には、本発明の光導波路を平面として捉えた場合に、該平面へのレンズ中心点６ａ及びミラー中心点５ａの投影が、上記関係を満たすことを示す。レンズ中心点６ａ及びミラー中心点５ａも、それぞれ上記平面への投影に基づいて特定することができる。

レンズ６は、必要に応じて複数個設けることができる。
また、光路変換ミラー５からレンズ６までの高さ方向（光導波路平面に対して垂直方向）に沿う距離は、コア厚みの２０〜１００％程度であることが好ましく、これにより、レンズ６と光路変換ミラー５の間の光路における光損失を最小限に抑えることができる。尚、上記光路変換ミラー５からレンズ６までの高さ方向に沿う距離は、厳密にはミラー中心点５ａにおける距離として特定することができる。
さらに、レンズ６の形状及び大きさは、光路変換ミラー５からの光を効率良く受光するために、光路変換ミラー５の光導波路平面への投影を内包するものとすることが好ましいが、より具体的には、光導波路平面と平行な方向に沿う直径が、コア厚みの１００〜５００％であることが好ましく、１５０〜３００％であることがより好ましい。レンズ６の形状が楕円形である場合、長径及び短径の少なくとも一方が上記範囲を満たすことが好ましく、両方が上記範囲を満たすことがより好ましい。

（レンズ用感光性樹脂組成物）
レンズ６を形成するための感光性樹脂組成物は、例えば、（ａ）バインダポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、（ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有するものである。かかる感光性樹脂組成物を用いることにより、レンズ形成用樹脂層６ｂの解像度及び密着性が向上するとともにレンズの光透過性をより確実に確保することができるので、レンズの光学性能及び生産性をさらに高水準で両立させることができる。

（ａ）バインダポリマーとしては、例えば、ビニル共重合体（ａ１）が挙げられ、具体的には、下記のビニル単量体を重合させて得られたものが挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル、（メタ）アクリル酸ドコシル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘプチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−フルオロエチル、（メタ）アクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、シクロヘキシルマレイミド、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、（メタ）アクリルアミド、メタクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて重合させてもよい。

さらに、本実施形態のレンズ用感光性樹脂組成物においては、（ａ）バインダポリマーとして、例えば、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重合体に、このビニル共重合体が有する官能基と反応して結合する、オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、カルボキシル基等の１個の官能基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを有する化合物を付加反応させて得られる側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体（ａ２）等を使用することもできる。

上記カルボキシル基、水酸基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重合体の製造に用いられるビニル単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、イソシアン酸エチルメタクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて重合させてもよい。また、必要に応じて、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル単量体以外の上記ビニル単量体を共重合させることができる。

さらに、（ａ）バインダポリマーとしては、例えば下記一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物とを共重合することで得ることができる硫黄含有共重合体（ａ３）を使用してもよい。

式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ²は水素原子又はメチル基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘ¹及びＸ²はそれぞれ独立に硫黄原子又は酸素原子を示し、Ｘ¹及びＸ²のうち少なくとも一方は硫黄原子である。
一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物は、（メタ）アクリル酸エステル化合物であり、硫黄原子を含有することを特徴としている。

Ｒ¹が置換基を有していてもよいアルキル基である場合、置換基としては、例えば、アルキル基に有していてもよい置換基が、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基及びアリールチオアルキルチオ基が挙げられる。また、Ｒ¹が置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよい芳香族残基である場合、置換基としては、例えば、アラルキル基又は芳香族残基に有していてもよい置換基が、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基及びアリールチオアルキルチオ基及びハロゲン原子が挙げられる。

Ｒ¹としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ベンジル基、４−メチルベンジル基、４−クロロベンジル基、４−ブロモベンジル基、β−フェニルエチル基等の置換又は未置換のアラルキル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−フェニルフェニル基、４−フェノキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基、２−フェノキシフェニル基、４−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、２−メチルチオフェニル基、４−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、２−ブロモフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等の置換又は未置換のアリール基が挙げられる。透明性及び屈折率をより高くする観点から、Ｒ¹は置換又は未置換のアラルキル基、又は置換又は未置換のアリール基であることが好ましい。
Ａは、具体的には、酸素原子又は硫黄原子を含有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜５のアルキレン基であることがより好ましい。また、屈折率をより高くする観点から、Ｘ¹及びＸ²が硫黄原子であることが好ましい。

上記一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物として、例えば、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（２'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（３'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−クロロベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−ブロモベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−フェニルエチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（２'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（３'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（２'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（３'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオメタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−プロパン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソプロパン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ブタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソブタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ペンタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオイソペンタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘキサン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−ヘプタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオ−ｎ−オクタン、１−チオ−（４'−フェニルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−フェニルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−クロロフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（４'−ブロモフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオナフチル−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオメチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオエチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−ｎ−プロピル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−ｎ−ブチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオベンジル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（２'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（３'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルチオベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルオキシベン

ジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−クロロベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−ブロモベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−フェニルエチルベンジル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（２'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（３'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルチオエタン、１−チオ−（２'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（３'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルチオフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−メチルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−フェニルフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−フェニルオキシフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−クロロフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオ−（４'−ブロモフェニル）−２−（メタ）アクリロイルオキシエタン、１−チオナフチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエタンが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物と共重合される不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸、無水マレイン酸、無水フマル酸、無水シトラコン酸、無水メサコン酸、無水イタコン酸等のジカルボン酸無水物が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

上記硫黄含有共重合体は、一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物、及び、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物に加えて、他の不飽和化合物をモノマー単位として含んでいてもよい。

硫黄含有共重合体（ａ３）にモノマー単位として含まれても良い他の不飽和化合物としては、一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物、及び、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物と共重合可能な不飽和化合物であれば特に制限はない。具体的には、上記したビニル共重合体（ａ１）を得るためのビニル単量体として列挙した各種不飽和化合物や、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−［（１，１'−ビフェニル）オキシ］エトキシ、（メタ）アクリル酸−２−（２−メトキシエトキシ）エチル、オキシエチレン基の数が２〜２３である（メタ）アクリル酸メトキシポリオキシエチレン、（メタ）アクリル酸−２−フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−（２−フェノキシエチル−オキシ）エチル等が挙げられる。屈折率をより向上する観点から、他の不飽和化合物成分として、（メタ）アクリル酸−２−［（１，１'−ビフェニル）オキシ］エトキシを共重合することが好ましい。これらは、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

（ａ）バインダポリマーの重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算した値）は、耐熱性、加熱溶融性、塗布性、後述するマイクロレンズアレイ用感光性エレメントとした場合のフィルム性（フィルム状の形態を保持する特性）、溶媒への溶解性、及び、現像工程における現像液への溶解性等の観点から、１，０００〜３００，０００とすることが好ましく、５，０００〜１５０，０００とすることがより好ましい。

さらに、（ａ）バインダポリマーは、現像工程において、公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することが好ましい。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることで、現像が行いやすくなる傾向にあり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となることで、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好になる傾向にある。また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、１６〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。酸価が、１６ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることにより、現像しやすい傾向にあり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下とすることにより、耐現像液性が良好になる傾向にある。

（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物
エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物としては、例えば、多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。

上記多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）等が挙げられる。

上記グリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）フェニル等が挙げられる。

上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーと、イソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、エチレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド，プロピレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。

上記の光重合性不飽和化合物は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、（ａ）バインダポリマーとして硫黄含有共重合体（ａ３）が使用される場合には、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物は、（Ｂ１）エチレン性不飽和基を１つ有する光重合性化合物及び（Ｂ２）エチレン性不飽和基を少なくとも２つ有する光重合性化合物を含むことが好ましい。

（Ｂ１）エチレン性不飽和基を１つ有する光重合性不飽和化合物として、例えば、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β'−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−［（１，１'−ビフェニル）オキシ］エトキシ、（メタ）アクリル酸−２−（２−メトキシエトキシ）エチル、オキシエチレン基の数が２〜２３である（メタ）アクリル酸メトキシポリオキシエチレン、（メタ）アクリル酸−２−フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−（２−フェノキシエチル−オキシ）エチル、オキシエチレン基の数が２〜２３である（メタ）アクリル酸フェノキシポリオキシエチレンが挙げられる。中でも、（Ｂ１）成分としては、屈折率をより向上する観点から、（メタ）アクリル酸−２−［（１，１'−ビフェニル）オキシ］エトキシ又はオキシエチレン基の数が２〜５である（メタ）アクリル酸フェノキシポリオキシエチレンが好ましい。また、上記一般式（Ｉ）で表される硫黄含有化合物を、（Ｂ１）成分として使用することができる。さらに、上述の他の不飽和化合物を、（Ｂ１）成分として使用することもできる。これらの化合物は、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

（Ｂ２）エチレン性不飽和基を少なくとも２つ有する光重合性不飽和化合物としては、例えば、上記した、多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物，ウレタンモノマーや、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィド等の多価チオールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物等が好適に使用される。
これらの（Ｂ２）成分として例示した化合物は、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

（ｃ）光重合開始剤
活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ'−テトラメチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ'−テトラエチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４'−ジメチルアミノベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（「イルガキュア−ＯＸＥ０１」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（イルガキュア−ＯＸＥ０２、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン（「イルガキュア−３６９」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン（「イルガキュア−９０７」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）等の芳香族ケトン；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９'−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。

また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。

なお、フォトリソグラフィー工程における密着性及び感度の観点から、（ｃ）成分としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体が好ましく、マイクロレンズとした場合の可視光線透過率の観点から１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］がより好ましい。
上記の光重合開始剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

レンズ用感光性樹脂組成物における、（ａ）バインダポリマーの配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０〜９０質量部とすることが好ましく、３０〜８５質量部とすることがより好ましく、３５〜８０質量部とすることが特に好ましく、４０〜７５質量部とすることが極めて好ましい。この配合割合が２０質量部以上とすることで、塗布性、加熱溶融性、或いは後述するレンズ用感光性エレメントとした場合のフィルム性が良好になる傾向にあり、９０質量部以下とすることで、光硬化性あるいは耐熱性が良好になる傾向にある。

また、レンズ用感光性樹脂組成物における、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物の配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１０〜８０質量部とすることが好ましく、１５〜７０質量部とすることがより好ましく、２０〜６５質量部とすることが特に好ましく、２５〜６０質量部とすることが極めて好ましい。この配合割合が１０質量部以上では、光硬化性あるいは耐熱性が良好になる傾向にあり、８０質量部以下とすることで、塗布性、加熱溶融性、或いはレンズ用感光性エレメントとした場合のフィルム性が良好になる傾向にある。

また、レンズ用感光性樹脂組成物における、（ｃ）光重合開始剤の配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部とすることが好ましく、０．１〜１５質量部とすることがより好ましく、０．１５〜１０質量部とすることが特に好ましい。この配合割合を０．０５質量部以上とすることで、光硬化が良好になる傾向にあり、２０質量部以下とすることで、硬化工程において、レンズ形成用樹脂層６ｂの活性光線照射表面での活性光線の吸収が増大することを防止し、内部の光硬化が不十分となることが防止される。

レンズ用感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤等を含有させることができる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、それぞれ０．０１〜２０質量部とすることができる。

＜保護材＞
本発明の光導波路は、レンズ６と並設してレジスト（図示せず）を設けてもよい。レジストはレンズ６を保護し、レンズ６が損傷することを防止する保護材である。レジストは、複数設けられ、各レンズ６を一対以上のレジストで挟み込むように配置することが好ましい。すなわち、光導波路平面方向において、レンズ６の両側に一対以上のレジストが、配置されることが好ましい。

各レジストは、レンズ６の厚さ以上の厚さを有しており、好ましくはレンズ６の厚さより厚く、これにより、レンズ６を適切に保護することができるようになる。
レジストは、レンズ６の厚さよりも厚くしやすくするために、レンズ６を形成した後に別途形成することが好ましい。具体的には、レンズ６が設けられた面上に、レンズ６を覆うように樹脂層を積層し、その後、レジストの形成予定箇所以外の樹脂層を除去することにより各レジストを形成する。そのため、レジストの材料としては、感光性樹脂や熱硬化性樹脂が使用可能であるが、感光性樹脂が使用され、フォトリソグラフィーにより形成されることが好ましい。レンズ６及びレジストがともにフォトリソグラフィーにより形成されることにより、レジストとレンズ６との位置合わせの精度を高めることができる。

また、レンズ６を保護するための保護材としては、レジストの代わりにダミーレンズを使用してもよい。ダミーレンズは、レンズ形成用樹脂層６ｂ（図２参照）から、例えばフォトリソグラフィーによりレンズ６と一括形成されるものである。これにより、保護材を形成するための特別な工程を追加する必要がなくなるとともに、レンズ６とダミーレンズの位置合わせの精度も高めることができる。ダミーレンズの形成位置は、レジストの形成位置と同様であるので、その説明は省略する。

ダミーレンズの厚さは、レンズ６の厚み以上であればよいが、レンズ６の厚さよりも大きいことが好ましい。ダミーレンズの厚さをレンズ６の厚さより大きくする方法としては、例えば、ダミーレンズの形成予定箇所に対する活性光線の照射量を、レンズ６の形成予定箇所に対する活性光線の照射量より大きくして、ダミーレンズの形成予定箇所の硬化度合いを、レンズ６の形成予定箇所の硬化度合いよりも大きくすること等が挙げられる。なお、ダミーレンズは、レンズ６と同様にレンズ表面が凸状に膨らむものが好ましいが、その構成に限定されるわけではない。

なお、基板１が電気配線を有する電気配線板である場合には、レジストは、電気配線の少なくとも一部の上に積層され、電気配線を保護する保護レジストとして使用されることが好ましい。なお、電気配線は、表面の一部に金メッキ等の金属保護膜が被覆されるとともに、その他の表面の上にレジストが積層されるのが好ましい。このような構成により、電気配線を保護するためのめっき量を抑えることができる。ダミーレンズ、細長レジストも、同様に電気配線の上に積層され、電気配線を保護するための部材として使用してもよい。

［電気配線］
本発明の光導波路は、基板１の裏面に各種光学素子を実装する場合、基板１の裏面に電気配線を設けても良い。

［電気配線保護層］
コア形成用樹脂は、用いる光信号に対して透明であり、活性光線によりパターンを形成し得るものであり、電気配線保護層として使用可能であれば、前述の電気配線を保護する電気配線保護層として使用できる。

［蓋材層］
本発明の光導波路は、さらに蓋材層を有していてもよい。
蓋材層は、好ましくは上部クラッド層４上に設けられ、光導波路の反りを抑制することができる。
蓋材層の具体例としては、基材と接着剤層からなるものが挙げられ、基材に関しては、上述の基板１と同様のものを用いれば良い。接着剤層に関しては、上部クラッド層４との密着性があるものであれば特に限定はないが、屈曲性の観点から１００ＭＰａ〜２ＧＰａの引張弾性率であると好ましい。接着剤層の厚みとしては特に限定はないが、屈曲耐性の観点から、５μｍ〜２５μｍであれば良く、安定した屈曲性を得るためには、５μｍ〜１５μｍであると更に良い。また、基板１よりも低弾性率の材料を用いると更に屈曲耐性が向上するため尚良い。蓋材層としては、上述の範囲で一般的にフレキシブル電気配線に用いられるカバーレイフィルムを用いることができる。

本発明の光導波路は、例えば、以下の第１〜５工程により製造することができる。以下、各工程について説明する。

（第１工程）
第１工程は、図２（ａ）〜（ｃ）に示されるように、基板１の一方の面側にレンズ６を形成する工程である。
レンズ６は、上記したように別途製造したものを接着剤等を介して接着してもよいが、フォトリソグラフィー法によって形成することが好ましい。以下、レンズ形成方法の一例として、レンズをネガ型フォトレジストにより形成する場合の例を説明するが、レンズはポジ型フォトレジストで形成しても良い。

図２（ａ）に示す工程においては、基板１の一方の面上に感光性樹脂組成物からなるレンズ形成用樹脂層６ｂを積層している。レンズ形成用樹脂層６ｂは、例えば感光性樹脂組成物の各成分を溶剤に均一に溶解または分解して得た塗布液を、基板１の他方の面に塗布して塗膜を形成し、その後、塗膜から溶剤を乾燥除去することにより形成する。
ただし、支持体フィルムに感光性樹脂組成物からなる感光層を積層して構成されるレンズ用感光性エレメントを、基板１に貼付することによりレンズ形成用樹脂層６ｂを設けてもよい。

次いで、図２（ｂ）に示す工程においては、レンズ形成用樹脂層６ｂが形成されている面側に所定パターンを有するレンズ用フォトマスクを被せ、レンズ用フォトマスクを介して特定の活性光線をレンズ形成用樹脂層６ｂに照射して、レンズ形成予定箇所を硬化させ、その後、現像液を用いた現像によりレンズ形成予定箇所以外の未硬化部分を除去して、基板１の一方の面上に複数のレンズ形成用レジスト６ｃを形成している。

レンズ形成用樹脂層６ｂを硬化する際の活性光線としては、通常紫外線を使用するが、基板１としてポリイミド基板を使用すると、活性光線（紫外線）は基板１を透過しなくなる。そのため、基板の各面に照射された活性光線は、基板を透過して反対側の面に照射されることはないので、適切なフォトリソグラフィー加工を行うことができる。

レンズ形成用レジスト６ｃを現像する方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、未露光部を除去する方法が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。

アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。

現像後、形成されたレンズ形成用レジスト６ｃは、さらに加熱して溶融することで、基板１に接する面とは反対側の面を、所望の曲率を有する凸面とし、レンズ６を形成している（図２（ｃ）参照）。

レンズ６の形成は、後述する光路変換ミラー５を形成する前に行うことが好ましい。光路変換ミラー５を形成した後にレンズ６をフォトリソグラフィーで形成すると、光路変換ミラー５にひずみが生じる等の不具合が生じやすくなる。
また、第１工程の露光現像は、後述する第２〜４工程における露光現像と同時に行うことができ、その場合工程が簡略化されるため、生産効率に優れると共に、光導波路の熱収縮が抑制されるため、歩留りの観点からも好ましい。

（第２工程）
第２工程は、図２（ａ）〜（ｂ）に示されるように、基板１上に下部クラッド層２を形成する工程であり、クラッド層形成用樹脂層２ａを積層し、露光現像することで行うことができる。
基板１上にクラッド層形成用樹脂層２ａを積層する方法については特に制限はないが、クラッド層形成用樹脂がワニス状の場合は、基板１に常法によって塗布すれば良く、クラッド層形成用樹脂がフィルム状の場合は、ロールラミネータ、真空加圧ラミネータ、プレス、真空プレス等の各種方法を用いれば良い。

（第３工程）
第３工程は、図２（ｄ）〜（ｅ）に示されるように、下部クラッド層２上にコア形成用樹脂層３ａを積層し、露光現像によって光信号伝達用コアパターン３を形成する工程である。
基板１上にコア形成用樹脂層３ａを積層する方法は、上述のクラッド層形成用樹脂層２ａを積層する方法と同様にして行うことができる。

（第４工程）
第４工程は、図２（ｆ）に示されるように、光信号伝達用コアパターン３上に上部クラッド層４を形成する工程である。
光信号伝達用コアパターン３上にクラッド層形成用樹脂層を積層する方法は、上述の第２工程と同様にして行うことができる。

（第５工程）
第５工程は、光信号伝達用コアパターン３に光路変換ミラー５を形成する工程である。
光路変換ミラー５を形成する方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。例えば、光信号伝達用コアパターン３形成面側から、ダイシングソー等を用いて、光信号伝達用コアパターン３を切削することにより形成することができる。形成する光路変換ミラー５の角度は、約４５°であることが好ましい。
また、光路変換ミラー５に蒸着装置を用いて、金等の金属を蒸着し、反射金属層を備えたミラーとしても良い。

本発明に係る光導波路の製造方法は、蓋材層を有する光導波路を製造する場合には、さらに上記第５工程において切削した面側に蓋材層を積層する工程を有する。

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
実施例１
＜クラッド層形成用樹脂フィルムの作製＞
［（Ａ）（メタ）アクリルポリマー（ベースポリマー）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの溶液（固形分４５質量％）を得た。

［重量平均分子量の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー（株）製「ＳＤ−８０２２」、「ＤＰ−８０２０」、及び「ＲＩ−８０２０」）を用いて測定した結果、３．９×１０⁴であった。なお、カラムは日立化成工業（株）製「Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ａ１６０−Ｓ」を使用した。
［酸価の測定］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの酸価を測定した結果、７９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価は（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。

［クラッド層形成用樹脂ワニスの調合］
ベースポリマーとして、前記（Ａ）（メタ）アクリルポリマー溶液（固形分４５質量％）８４質量部（固形分３８質量部）、（Ｂ）光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「Ｕ−２００ＡＸ」）３３質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＵＡ−４２００」）１５質量部、（Ｃ）熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「スミジュールＢＬ３１７５」）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｄ）光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン（株）製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・ジャパン（株）製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。

［クラッド層形成用樹脂フィルムの作製］
上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスを、支持フィルムであるＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、塗工機（マルチコーターＴＭ−ＭＣ、（株）ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。
このとき、クラッド層形成用樹脂ワニスより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、その膜厚については後述する。

＜コア層形成用樹脂フィルムの作製＞
（Ａ）ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成（株）製）２６質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（商品名：Ａ−ＢＰＥＦ、新中村化学工業（株）製）３６質量部、及びビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（商品名：ＥＡ−１０２０、新中村化学工業（株）製）３６質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、及び１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名：イルガキュア２９５９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を用いたこと以外は上述のクラッド層形成用樹脂ワニスの調合と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスを調合した。その後、上記と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。
上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスを、支持フィルムであるＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績（株）製、厚さ：１６μｍ）の非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム（株）、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。
このとき、コア層形成用樹脂ワニスより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、その膜厚については後述する。

＜レンズ用感光性エレメントの作製＞
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１９０質量部を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃に保ちながら、メタクリル酸１０質量部、メタクリル酸ｎ−ブチル１質量部、メタクリル酸ベンジル７４質量部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル１５質量部、及び２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）２．５質量部を４時間かけて均一に滴下した。滴下終了後、８０℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約３０，０００のバインダポリマー（ａ）の溶液（固形分３５質量％）を得た。
次に、バインダポリマー（ａ）の溶液（固形分３５質量％）２００質量部（固形分：７０質量部）に、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン８質量部、β−ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート２２質量部、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体２．１質量部、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン０．３３質量部、メルカプトベンゾイミダゾール０．２５質量部、（３‐メタクリロイルプロピル）トリメトキシシラン８質量部、メチルエチルケトン３０質量部を加えて攪拌機を用いて１５分間混合し、レンズ用感光性樹脂組成物溶液を作製した。

支持体フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で得られたレンズ用感光性樹脂組成物溶液を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、レンズ形成用樹脂層６ｂを形成した。得られたレンズ形成用樹脂層６ｂの厚さは３０μｍであった。次いで、得られたレンズ形成用樹脂層６ｂの上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムを、カバーフィルムとして貼り合わせて、レンズ用感光性エレメントを作製した。

＜光導波路の作成＞
［レンズ及び下部クラッド層の一括形成］
基板１として１５０ｍｍ×１５０ｍｍのポリイミドフィルム（ポリイミド；ユーピレックスＲＮ（宇部日東化成（株）製）、厚み；２５μｍ）を用い、その一方の面上に、レンズ用感光性エレメントのカバーフィルムを剥がしながら、レンズ形成用樹脂層６ｂが接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名「ＨＬＭ−１５００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０⁵Ｐａの条件でラミネートして、支持体フィルム付きのレンズ形成用樹脂層６ｂを積層した。
次いで、基板１の他方の面上に、上記で得られた１５μｍ厚みのクラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートし、クラッド層形成用樹脂層２ａを形成した（図２（ａ）参照）。

次いで、レンズ形成用樹脂層６ｂから支持体フィルムをはく離した後、レンズ形成用樹脂層６ｂ側に、開口幅＝１００μｍの開口部を有するレンズ用フォトマスクを配置した。
その後、紫外線露光機（機種名：ＥＸＭ−１１７２、株式会社オーク製作所製）により、紫外線を（波長３６５ｎｍ）を０．３Ｊ／ｃｍ²で、フォトマスクを介してレンズ形成用樹脂層６ｂ側に照射し、同時に、クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルム側からも３．０Ｊ／ｃｍ²で照射し、次いで、現像液１．０質量％の炭酸カリウム水溶液を用いてエッチングして、レンズ形成用レジスト６ｃ及び下部クラッド層２を形成した（図２（ｂ）参照）。
さらに、レンズ形成用レジスト６ｃをさらに加熱して溶融し、凸面を有するレンズ６を得た（図２（ｃ）参照）。

［光信号伝達用コアパターンの形成］
上記で形成した下部クラッド層２上に、上記で得られた５０μｍ厚みのコア層形成用樹脂フィルムを、保護フィルムを剥離した後に、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント（株）製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件でラミネートし、次いで上記の真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度７０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着し、コア形成用樹脂層３ａを形成した（図２（ｄ）参照）。

続いて、光信号伝達用コアパターン３を形成するネガ型フォトマスクと、上記紫外線露光機とを用いて、支持フィルム側から紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．８Ｊ／ｃｍ²で照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。尚、図１及び２に示すように、光信号伝達用コアパターン３は光導波路の中央部に延在する４つのコアを有するものとした。
その後、支持フィルムであるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８／２、質量比）を用いてエッチングした。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥し、光信号伝達用コアパターン３を形成した（図２（ｅ）参照）。

［上部クラッド層の形成］
得られた光信号伝達用コアパターン３上から、上記で得られた５５μｍ厚みのクラッド層形成用樹脂フィルムを、保護フィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。
続いて、上記紫外線露光機を用いて、クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルム側から紫外線（波長３６５ｎｍ）を３．０Ｊ／ｃｍ²で照射し、支持フィルムを剥離後、８０℃で５分間露光後加熱を行い上部クラッド層４を形成した（図２（ｆ）参照）。

［光路変換ミラーの形成］
得られた光導波路の上部クラッド層４側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、（株）ディスコ社製）を用いて４５°の光路変換ミラー５を形成し、本発明の光導波路を得た。尚、各コアパターンにおいて、ミラー中心点−レンズ中心点間距離ｄ１が３０μｍとなるように光路変換ミラー５の形成位置を調節した。

［光損失の測定］
光ファイバＡ（ＧＩ５０、ＮＡ＝０．２）を用いて８５０ｎｍの光信号を光導波路に入射し、光信号伝達用コアパターン３を透過し、光路変換ミラー５において反射し、レンズ６を透過して出力された光信号を、ミラー中心点５ａ上において光ファイバＢ（ＧＩ５０、ＮＡ＝０．２）を用いて受光した時の光損失（Ａ）を測定した。このとき、基板１表面と光ファイバＢとの距離は３０μｍとした。次いで、光路変換ミラー５を上記のダイシングソーを用いて切断し、ミラーなしの光導波路を得た。次いで、上記の光ファイバＡ及び光ファイバＢを用い、光信号伝達用コアパターン３と同軸方向の入射部側に光ファイバＡを、出射部側に光ファイバＢを調芯し、光損失（Ｂ）を測定した。
以上より、光路変換ミラー５からレンズ６を透過するまでの光損失（Ｃ）を以下の式に従って算出した。
（式）（Ｃ）＝（Ａ）−（Ｂ）
実施例１において得られた光導波路における光損失（Ｃ）は０．９９ｄＢであった。

比較例１
レンズ中心点６ａとミラー中心点５ａとの距離が０μｍとなるように光路変換ミラー５の形成位置を調節した以外は、実施例１と同様にして光導波路を作成し、その光損失を測定した。
比較例１において得られた光導波路における光損失（Ｃ）は１．１１ｄＢであった。

１．基板
２．下部クラッド層
２ａ．クラッド層形成用樹脂層
３．光信号伝達用コアパターン
３ａ．コア形成用樹脂層
４．上部クラッド層
５．光路変換ミラー
５ａ．ミラー中心点
６．レンズ
６ａ．レンズ中心点
６ｂ．レンズ形成用樹脂層
６ｃ．レンズ形成用レジスト
１０．光導波路
ｄ１．ミラー中心点−レンズ中心点間距離

Claims (11)

1. 下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン及び上部クラッド層が順に積層され、かつ、前記光信号伝達用コアパターン上に光路変換ミラーを備える光導波路であって、
   前記光路変換ミラーは、前記光信号伝達用コアパターンを伝搬する光の光路上に位置し、かつ、前記光路に対して傾斜しており、
   また、前記光路変換ミラーによって光路変換された光の光路上に位置するように、前記下部クラッド層側又は上部クラッド層側にレンズを有し、
   さらに、前記レンズの中心点を通りレンズ面に垂直な直線である光軸が前記光路変換ミラーの中心点よりも前記光信号伝達用コアパターン寄りになるように、前記レンズが前記光導波路平面上に配置されている、光導波路。
2. 前記光路変換ミラーは、前記光路に対して４５°傾斜している、請求項１に記載の光導波路。
3. 前記光導波路平面上における、レンズの中心点とミラーの中心点との間の距離が、前記光信号伝達用コアパターンのコア厚みの５〜１００％である、請求項１又は２に記載の光導波路。
4. 前記光導波路平面上において、レンズの直径が、前記光信号伝達用コアパターンのコア径の１００〜５００％である、請求項１から３のいずれか１項に記載の光導波路。
5. 前記レンズが、前記光路変換ミラーによって光路変換された光を外部光学部材に受光させるための集光レンズである、請求項１から４のいずれか１項に記載の光導波路。
6. さらに、基板を有し、該基板と前記光信号伝達用コアパターンとが下部クラッド層を挟持する、請求項１から５のいずれか１項に記載の光導波路。
7. 前記基板が前記光路変換ミラーによって光路変換された光を透過する透明基板である、請求項６に記載の光導波路。
8. 前記透明基板がポリイミド基板である、請求項７に記載の光導波路。
9. 前記基板上に、レンズ厚さ以上の厚さを有するレジスト又はダミーレンズを前記レンズと並設させる、請求項６から８のいずれか１項に記載の光導波路。
10. 前記レンズが、フォトリソグラフィー加工レンズである、請求項１から９のいずれか１項に記載の光導波路。
11. 前記光路変換ミラーは、前記光信号伝達用コアパターンの切削面である、請求項１から１０のいずれか１項に記載の光導波路。

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