WO2012070585A1 - 光導波路 - Google Patents
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Abstract
Description
また、光導波路は、光学製品のデバイスとして用いられる際、他の光学素子、例えば光ファイバと接続して用いられることがあり(例えば、特許文献1)、またフォトダイオードやレーザーダイオードと接続する際に、フォトダイオードに光を入射する径は小さく、レーザーダイオードから光を受光する径は大きくする必要があった(例えば、特許文献2)。このため、光導波路と光学素子と接続する際の位置合わせトレランスが確保できることが求められる。
すなわち、本発明は、基材上に、下部クラッド層、厚み方向にテーパを有するコアパターン、上部クラッド層が順に積層してなる光導波路であって、前記下部クラッド層が切り欠き部を有する、又は、前記下部クラッド層上にダミー層を有する光導波路を提供するものである。
本発明の光導波路は、図1~9に示すように、基材1上に、下部クラッド層2、厚み方向にテーパを有するコアパターン3、上部クラッド層4が順に積層してなる光導波路であって、下部クラッド層2が切り欠き部5を有する構造である。
本発明の光導波路は、図2,5,8に示すように、コアパターン3のテーパの薄い側に、厚い側より大きい面積の切り欠き部5を有しても良い。
また、図3,6,9に示すように、コアパターン3のテーパの薄い側の先端よりも先のコアパターンが無い部分に、切り欠き部5を有しても良い。
本発明の光導波路は、図1~3に示すように、上部クラッド層4が厚み方向にテーパを有し、該テーパが、コアパターンのテーパと同方向に向かって薄くなる形状であっても良い。
本発明の光導波路は、図4~9に示すように、下部クラッド層2の切り欠き部5に、ダミーコア6を有しても良い。
この場合、ダミーコア6の配線密度によって図4~6に示すように、上部クラッド層4を基板面と平行にしたり、図7~9に示すように、上部クラッド層4が厚み方向にテーパを有し、該テーパが、コアパターン3のテーパと逆方向に向かって薄くなる形状にすることもできる。
本発明の光導波路は、図11,13に示すように、コアパターン3のテーパの厚い側に、薄い側より大きい面積のダミー層7を有しても良い。
また、図12,14に示すように、コアパターン3のテーパの厚い側の後端よりも後ろのコアパターン3が無い部分に、ダミー層7を有しても良い。
本発明の光導波路は、図10~15に示すダミー層7がクラッド層であると好ましい。
また、前記下部クラッド層が複数層であっても良く、例えば、図15に示すように、
下部クラッド層2と基材1との間に下部クラッド層8を有していても良い。また、前記ダミー層が複数層であっても良く、例えば、図15に示すように、ダミー層7の上にダミー層9を有していても良い。コアパターン3は、図14に示すように複数本からなるものであっても良い。
また、本発明の光導波路は、図16に示すように、上部クラッド層4がテーパAを有するのみならず、平坦部B及び/又はCを有していても良い。
(クラッド層及びクラッド層形成用樹脂フィルム)
以下、本発明で使用される下部クラッド層2及び上部クラッド層4について説明する。下部クラッド層2及び上部クラッド層4としては、クラッド層形成用樹脂又はクラッド層形成用樹脂フィルムを用いることができる。
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としては、(メタ)アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルピリジン、ビニルフェノール等が挙げられるが、これらの中で、透明性と耐熱性の観点から、(メタ)アクリレートが好ましい。
(メタ)アクリレートとしては、1官能性のもの、2官能性のもの、3官能性以上の多官能性のもののいずれをも用いることができる。なお、ここで(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味するものである。
分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等の2官能又は多官能芳香族グリシジルエーテル、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂等の2官能又は多官能脂肪族グリシジルエーテル、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂等の2官能脂環式グリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル等の2官能芳香族グリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の2官能脂環式グリシジルエステル、N,N-ジグリシジルアニリン等の2官能又は多官能芳香族グリシジルアミン、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート等の2官能脂環式エポキシ樹脂、2官能複素環式エポキシ樹脂、多官能複素環式エポキシ樹脂、2官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの(B)光重合性化合物は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
これらの(C)光重合開始剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
この(A)成分及び(B)成分の配合量として、(A)成分が5質量%以上であり、(B)成分が95質量%以下であると、樹脂組成物を容易にフィルム化することができる。一方、(A)成分が80質量%以下あり、(B)成分が20質量%以上であると、(A)ベースポリマーを絡み込んで硬化させることが容易にでき、光導波路を形成する際に、パターン形成性が向上し、かつ光硬化反応が十分に進行する。以上の観点から、この(A)成分及び(B)成分の配合量として、(A)成分10~85質量%、(B)成分90~15質量%がより好ましく、(A)成分20~70質量%、(B)成分80~30質量%がさらに好ましい。
(C)光重合開始剤の配合量は、(A)成分及び(B)成分の総量100質量部に対して、0.1~10質量部とすることが好ましい。この配合量が0.1質量部以上であると、光感度が十分であり、一方10質量部以下であると、露光時に感光性樹脂組成物の表層での吸収が増大することがなく、内部の光硬化が十分となる。さらに、光導波路として使用する際には、重合開始剤自身の光吸収の影響により光伝搬損失が増大することもなく好適である。以上の観点から、(C)光重合開始剤の配合量は、0.2~5質量部とすることがより好ましい。
また、このほかに必要に応じて、クラッド層形成用樹脂中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。
塗布による場合には、その方法は限定されず、例えば、前記(A)~(C)成分を含有する樹脂組成物を常法により塗布すれば良い。
また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、例えば、前記樹脂組成物を溶媒に溶解して、支持体フィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。
また、コアパターン3を埋め込むために、上部クラッド層4の厚さは、コアパターン3の厚さよりも厚くすることが好ましい。
また、図1~9及び13~15に示すような下部クラッド層2に切り欠き部5を形成する方法としては、下部クラッド層2をエッチングによって形成すればよく、感光性の下部クラッド層2を用いる場合には、露光及び現像することによって切り欠き部5を形成できる。
また、図10~15に示すようなダミー層としてのクラッド層7,9の形成方法としては、下部クラッド層2と同様にエッチングによって形成すればよく、感光性のクラッド層7.9を用いる場合には、露光及び現像することによって切り欠き部5を形成できる。
本発明においては、下部クラッド層2に積層するコアパターン3の形成方法は特に限定されず、例えば、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによりコア層を形成し、エッチングによりコアパターン3を形成すれば良い。
また、本発明においては、図4~9に示すダミーコア6を形成する場合、コア層を形成した後、コアパターン3とダミーコア6を同時にエッチングして形成することにより、効率よく光導波路を製造することができる。
その際、本発明のように、コアパターン3がテーパを有する形状にする方法としては、コア層をラミネートした後の下部クラッド層2上に形成されたコア層は、基板1表面からコア層の表面までの高さは、基板1上に形成した切り欠き部分のコア層の表面の高さより高くなるが、例えば、コア層上面から剛性のある板等で圧力をかけて平坦化することによりコア層形成用の樹脂を流動させ、テーパをつければよい。このとき、圧力や温度を適宜調整することによってテーパの角度を調整することも可能である。
パターン化する前のコア層の形成方法は限定されず、前記樹脂組成物を常法により塗布する方法等が挙げられる。
また、クラッド層形成用樹脂フィルム及びコア層形成用樹脂フィルムはキャリアフィルム上に形成すると良い。キャリアフィルムの種類としては、柔軟性及び強靭性のあるキャリアフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドが好適に挙げられる。支持体フィルムの厚さは、5~200μmであることが好ましい。5μm以上であると、支持体フィルムとしての強度が得やすいという利点があり、200μm以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、支持体フィルムの厚さは10~100μmの範囲であることがより好ましく、15~50μmであることが特に好ましい。
基材1の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
基材1として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、前記クラッド層形成用樹脂フィルム及びコア層形成用樹脂フィルムのキャリアフィルムを基材として用いることで、フレキシブルな光導波路としてもよい。
接着層の種類としては特に限定されないが、両面テープ、UVまたは熱硬化性接着剤、プリプレグ、ビルドアップ材、電気配線板製造用途に使用される種々の接着剤が好適に挙げられる。
実施例1(図1の光導波路の製造)
[クラッド層形成用樹脂フィルムの作製]
[(A)ベースポリマー;(メタ)アクリルポリマー(A-1)の作製]
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポリマー(A-1)溶液(固形分45質量%)を得た。
[重量平均分子量の測定]
(A-1)の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー(株)製「SD-8022」、「DP-8020」、及び「RI-8020」)を用いて測定した結果、3.9×104であった。なお、カラムは日立化成工業(株)製「Gelpack GL-A150-S」及び「Gelpack GL-A160-S」を使用した。
[酸価の測定]
A-2の酸価を測定した結果、79mgKOH/gであった。なお、酸価はA-2溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
[クラッド層形成用樹脂ワニスの調合]
(A)ベースポリマーとして、前記A-1溶液(固形分45質量%)84質量部(固形分38質量部)、(B)光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「U-200AX」)33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「UA-4200」)15質量部、(C)熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液(固形分75質量%)(住化バイエルウレタン(株)製「スミジュールBL3175」)20質量部(固形分15質量部)、(D)光重合開始剤として、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア2959」)1質量部、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア819」)1質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋(株)製「PF020」)を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。
上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、PETフィルム(東洋紡績(株)製「コスモシャインA4100」、厚み50μm)の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、100℃で20分乾燥後、カバーフィルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「ピューレックスA31」、厚み25μm)を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。
(A)ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂(商品名:フェノトートYP-70、東都化成株式会社製)26質量部、(B)光重合性化合物として、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(商品名:A-BPEF、新中村化学工業株式会社製)36質量部、及びビスフェノールA型エポキシアクリレート(商品名:EA-1020、新中村化学工業株式会社製)36質量部、(C)光重合開始剤として、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)1質量部、及び1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(商品名:イルガキュア2959、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)1質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を用いたこと以外は上記製造例と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスBを調合した。その後、上記製造例と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。
上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスBを、PETフィルム(商品名:コスモシャインA1517、東洋紡績株式会社製、厚さ:16μm)の非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いでカバーフィルムとして離型PETフィルム(商品名:ピューレックスA31、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ:25μm)を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。
100mm×100mmの銅箔をエッチング除去したFR-4基板(日立化成株式会社製、商品名;MCL-E-679FGB、厚さ;0.6mm)に、上記で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムからカバーフィルムである離型PETフィルム(ピューレックスA31)を剥離し、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP-500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着し、2箇所の10mm×10mmの遮光部(遮光部間間隙;300μm)を有するネガ型フォトマスクを介し、紫外線露光機(株式会社オーク製作所製、EXM-1172)にて紫外線(波長365nm)を0.6J/cm2照射し、その後、キャリアフィルムを剥離し、現像液(1%炭酸カリウム水溶液)を用いて、下部クラッド層2をエッチングした。続いて、水洗浄し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、次いで80℃で10分間加熱処理することにより、大きさ10mm×10mmの切り欠き部5を有する下部クラッド層2を形成した。
次に、下部クラッド層2上に、ロールラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製、HLM-1500)を用い圧力0.4MPa、温度50℃、ラミネート速度0.2m/minの条件で、厚さ50μmの上記コア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、次いで上熱板に厚さ2mmSUS板を取り付けた平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP-500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、コア層を形成した。
次に、切り欠き部5より50mm離れた地点の幅が50μmで、切り欠き部分の間隙地点の幅が40μmの幅方向にテーパを有するネガ型フォトマスクを介し、切り欠き部5の間隙にコアパターンが形成されるように位置合わせをし、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を0.6J/cm2照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行った。その後、キャリアフィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド=8/2、質量比)を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液(イソプロパノール)を用いて洗浄し、100℃で10分間加熱乾燥し、厚み方向及び幅方向にテーパを有する四角錐台形状のコアパターン3を形成した。
次いで、上部クラッド層4として厚さ54μmの上記クラッド層形成用樹脂フィルムを上記上熱板に厚さ2mmSUS板を取り付けた真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP-500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度120℃、加圧時間30秒ラミネートした。さらに、紫外線(波長365nm)を4J/cm2照射後、キャリアフィルムを剥離し、170℃で1時間加熱処理することによって、上部クラッド層4を形成し、図1に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは39.5μm(光導波路薄膜端部)、42.5μm(薄膜側端部より3mm地点)、46.7μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは49.9μm(光導波路厚膜端部)、49.9μm(厚膜側端部より3mm地点)、48.5μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、54.5μm(光導波路薄膜端部)、57.5μm(薄膜側端部より3mm地点)、60.3μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは65.2μm(光導波路厚膜端部)、65.2μm(厚膜側端部より3mm地点)、62.5μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
実施例1において、下部クラッド層2に切り欠き部5を形成する操作を行わず、下部クラッド層2上に、上記で得られた厚さ10μmのクラッド層形成用樹脂フィルムからカバーフィルムである離型PETフィルム(ピューレックスA31)を剥離し、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP-500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着し、2箇所の10mm×10mmの開口部(開口部間間隙;300μm)を有するネガ型フォトマスクを介し、紫外線露光機(株式会社オーク製作所製、EXM-1172)にて紫外線(波長365nm)を0.6J/cm2照射し、その後、キャリアフィルムを剥離し、現像液(1%炭酸カリウム水溶液)を用いて、下部クラッド層2をエッチングした。続いて、水洗浄し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、次いで80℃で10分間加熱処理することにより、大きさ10mm×10mmのダミー層7を形成した。次に、下部クラッド層2上に、ロールラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製、HLM-1500)を用い圧力0.4MPa、温度50℃、ラミネート速度0.2m/minの条件で、厚さ40μmの上記コア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、次いで上熱板に厚さ2mmSUS板を取り付けた平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP-500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、コア層を形成した。
次に、ダミー層7より50mm離れた地点の幅が40μmで、ダミー層7の間隙地点の幅が50μmの幅方向にテーパを有するネガ型フォトマスクを介し、ダミー層7の間隙にコアパターンが形成されるように位置合わせをし、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を0.6J/cm2照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行った。その後、キャリアフィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド=8/2、質量比)を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液(イソプロパノール)を用いて洗浄し、100℃で10分間加熱乾燥し、厚み方向及び幅方向にテーパを有する四角錐台形状のコアパターン3を形成した。
上部クラッド層の形成は実施例1と同様にして、図10に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは40.1μm(光導波路薄膜端部)、40.1μm(薄膜側端部より3mm地点)、42.4μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは49.9μm(光導波路厚膜端部)、46.3μm(厚膜側端部より3mm地点)、45.0μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、55.5μm(光導波路薄膜端部)、55.5μm(薄膜側端部より3mm地点)、58.3μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは64.5μm(光導波路厚膜端部)、62.1μm(厚膜側端部より3mm地点)、60.2μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
実施例1において、下部クラッド層2に10mm×10mm×の切り欠き部5を形成し、切り欠き部5より20mm離れた部分に10mm×10mmのダミー層7を形成し、実施例1と同様の方法でコア層を形成した。
次に、切り欠き部5側近傍の幅が40μmで、ダミー層7側近傍の幅が50μmの幅方向にテーパを有するネガ型フォトマスクを介し、切り欠き部5とダミー層7の間隙を結ぶように位置合わせをし、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を0.6J/cm2照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行った。その後、キャリアフィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド=8/2、質量比)を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液(イソプロパノール)を用いて洗浄し、100℃で10分間加熱乾燥し、厚み方向及び幅方向にテーパを有する四角錐台形状のコアパターン3を形成した。
上部クラッド層4の形成は実施例1と同様にして、図14に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは41.1μm(光導波路薄膜端部)、43.2μm(薄膜側端部より3mm地点)、44.4μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは49.9μm(光導波路厚膜端部)、47.2μm(厚膜側端部より3mm地点)、46.2μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、54.5μm(光導波路薄膜端部)、55.5μm(薄膜側端部より3mm地点)、57.1μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは64.5μm(光導波路厚膜端部)、62.0μm(厚膜側端部より3mm地点)、61.0μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
実施例1において、切り欠き部5に250μmピッチの幅50μmのコアパターン(ダミーコア6)を形成した以外は実施例1と同様にして、図4に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは39.4μm(光導波路薄膜端部)、42.4μm(薄膜側端部より3mm地点)、46.5μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは50.0μm(光導波路厚膜端部)、49.9μm(厚膜側端部より3mm地点)、48.4μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、65.3μm(光導波路薄膜端部)、64.3μm(薄膜側端部より3mm地点)、65.0μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは65.2μm(光導波路厚膜端部)、65.2μm(厚膜側端部より3mm地点)、64.5μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
実施例1において、切り欠き部5の全面にコアパターン(ダミーコア6)を形成した以外は実施例1と同様にして、図7に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは39.5μm(光導波路薄膜端部)、42.4μm(薄膜側端部より3mm地点)、46.6μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは50.0μm(光導波路厚膜端部)、50.0μm(厚膜側端部より3mm地点)、48.2μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、75.3μm(光導波路薄膜端部)、73.3μm(薄膜側端部より3mm地点)、68.0μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは65.2μm(光導波路厚膜端部)、65.2μm(厚膜側端部より3mm地点)、64.5μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
実施例1において、切り欠き部5を一辺が10mmの直角二等辺三角形にした以外は実施例1と同様にして、図7に示す光導波路を作製した。
得られた光導波路のコア厚みテーパによって形成されたコア厚みの薄い部分の高さは40.0μm(光導波路薄膜端部)、41.7μm(薄膜側端部より3mm地点)、43.1μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは50.0μm(光導波路厚膜端部)、49.9μm(厚膜側端部より3mm地点)、48.8μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
また、コア厚と上部クラッド厚を合わせた厚みは、55.1μm(光導波路薄膜端部)、56.1μm(薄膜側端部より3mm地点)、57.3μm(薄膜側端部より6mm地点)で、厚い部分の高さは65.2μm(光導波路厚膜端部)、65.2μm(厚膜側端部より3mm地点)、62.5μm(厚膜側端部より6mm地点)であった。
このため、例えば、光ファイバと光導波路の接続機器用のデバイスや、光導波路と電気配線板が複合されたデバイスとして有用である。
2:下部クラッド層
3:コアパターン
4:上部クラッド層
5:切り欠き部
6:ダミーコア
7:ダミー層(クラッド層)
8:下部クラッド層
9:ダミー層(クラッド層)
A:テーパ
B,C:平坦部
Claims (11)
- 基材上に、下部クラッド層、厚み方向にテーパを有するコアパターン、上部クラッド層が順に積層してなる光導波路であって、前記下部クラッド層が切り欠き部を有する光導波路。
- 前記コアパターンのテーパの薄い側に、厚い側より大きい面積の切り欠き部を有する請求項1に記載の光導波路。
- 前記コアパターンのテーパの薄い側の先端よりも先のコアパターンが無い部分に、切り欠き部を有する請求項1に記載の光導波路。
- 前記上部クラッド層が厚み方向にテーパを有し、該テーパが、コアパターンのテーパと同方向に向かって薄くなる請求項1~3のいずれかに記載の光導波路。
- 前記下部クラッド層の切り欠き部に、ダミーコアを有する請求項1~3のいずれかに記載の光導波路。
- 前記上部クラッド層が厚み方向にテーパを有し、該テーパが、コアパターンのテーパと逆方向に向かって薄くなる請求項4に記載の光導波路。
- 基材上に、下部クラッド層、厚み方向にテーパを有するコアパターン、上部クラッド層が順に積層してなる光導波路であって、前記下部クラッド層上にダミー層を有する光導波路。
- 前記コアパターンのテーパの厚い側に、薄い側より大きい面積のダミー層を有する請求項7に記載の光導波路。
- 前記コアパターンのテーパの厚い側の後端よりも後ろのコアパターンが無い部分に、前記ダミー層を有する請求項7に記載の光導波路。
- 前記ダミー層がクラッド層である請求項7~9のいずれかに記載の光導波路。
- 厚み方向にテーパを有するコアパターンが、幅方向にもテーパを有する形状である請求項1又は7に記載の光導波路。
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