JP5976077B2 - 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置 - Google Patents

内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5976077B2
JP5976077B2 JP2014231960A JP2014231960A JP5976077B2 JP 5976077 B2 JP5976077 B2 JP 5976077B2 JP 2014231960 A JP2014231960 A JP 2014231960A JP 2014231960 A JP2014231960 A JP 2014231960A JP 5976077 B2 JP5976077 B2 JP 5976077B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
voltage
supply voltage
internal power
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014231960A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016095713A (ja
Inventor
小川 暁
暁 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Powerchip Technology Corp
Original Assignee
Powerchip Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Powerchip Technology Corp filed Critical Powerchip Technology Corp
Priority to JP2014231960A priority Critical patent/JP5976077B2/ja
Priority to US14/718,101 priority patent/US9275749B1/en
Priority to TW104117471A priority patent/TWI559308B/zh
Priority to CN201510314289.9A priority patent/CN106205716B/zh
Publication of JP2016095713A publication Critical patent/JP2016095713A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5976077B2 publication Critical patent/JP5976077B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/30Power supply circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4074Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/22Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management 
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/01Details
    • H03K3/012Modifications of generator to improve response time or to decrease power consumption
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K5/00Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
    • H03K5/22Circuits having more than one input and one output for comparing pulses or pulse trains with each other according to input signal characteristics, e.g. slope, integral
    • H03K5/24Circuits having more than one input and one output for comparing pulses or pulse trains with each other according to input signal characteristics, e.g. slope, integral the characteristic being amplitude
    • H03K5/2472Circuits having more than one input and one output for comparing pulses or pulse trains with each other according to input signal characteristics, e.g. slope, integral the characteristic being amplitude using field effect transistors
    • H03K5/2481Circuits having more than one input and one output for comparing pulses or pulse trains with each other according to input signal characteristics, e.g. slope, integral the characteristic being amplitude using field effect transistors with at least one differential stage

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Continuous-Control Power Sources That Use Transistors (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、例えば半導体記憶装置又は半導体装置のための内部電源電圧発生回路、それを備えた半導体記憶装置、及び半導体装置に関する。
FN(Fowler−Nordheim)トンネル効果を利用する例えばフラッシュメモリなどの不揮発性記憶装置は、データの書き込み(プログラム)又は消去のために所定の高電圧(HV)を必要としている。この場合において、チャージポンプ回路の効率性の問題のために、外部電源電圧VCCを減圧させることが非常に難しい。従って、外部電源電圧VCCから内部電源電圧VDDを発生して、記憶装置の周辺回路で用いるが、このときに、当該内部電源電圧VDDを周辺のMOSトランジスタの適当な動作電圧範囲に調整する必要がある。例えばNAND型フラッシュメモリでは、通常2V〜2.3Vの内部電源電圧VDDを発生させる(例えば、特許文献1参照)。
特開2014−010877号公報 特開平8−190437号公報 特開2005−174351号公報 特開2005−024502号公報 特開2009−503705号公報
図13は従来例に係る内部電源電圧調整回路40の構成を示す回路図である(例えば、特許文献2〜4など参照)。図13において、内部電源電圧発生回路40は、差動増幅器51と、駆動トランジスタであるPチャンネルMOSトランジスタP1と、位相補償回路54とを備えて構成される。
図13の内部電源電圧調整回路40において、基準電圧VDDREFは差動増幅器51の反転入力端子に入力され、外部電源電圧VCCに接続されたPチャンネルMOSトランジスタP1から出力される内部電源電圧VDDが差動増幅器51の非反転入力端子に入力され、差動増幅器51の出力端子からの制御電圧(比較結果電圧)が接続点55を介して、PチャンネルMOSトランジスタP1のゲートに印加される。なお、接続点55には、抵抗Rp及びキャパシタCpの直列回路を備える位相補償回路54が接続され、その電圧をDRVPとする。以上のように構成された内部電源電圧調整回路40は、基準電圧VDDREFに基づいて、外部電源電圧VCCから所定の内部電源電圧VDDを発生して保持して不揮発性記憶装置内の各回路(負荷回路)53に電源電流iVddで供給する。
通常のNAND型フラッシュメモリの読み出しモードはSDR(Single Data Rate)を用いるが、昨今では、DDR(Double Data Rate)を用いて読み出しを行うフラッシュメモリ製品が導入されてきており、将来、大きな市場となることが予想される。すなわち、従来のSDRを用いるNAND型フラッシュメモリでは、従来の内部電源電圧発生回路を用いて発生された内部電源電圧VDDを用いて動作しても、読み出し特性の性能は十分であるが、DDRを用いるNAND型フラッシュメモリの場合では、以下のようにデータの読み出しを行うことができないことが考えられる。
すなわち、DDR動作を行った場合の負荷電流iVDDのスイングは、高速のデータレートのためにSDR動作のときに比較して非常に大きくなる。言い換えれば、負荷電源電流iVDDが流れたときに、内部電源電圧VDDが大きくドロップしてレベル回復が遅くなる。ここで、例えば、負荷電流iVDDが短時間で変化した場合、内部電源電圧発生回路は内部電源電圧VDDを保持するように動作することができないことが予想される。現在の内部電源電圧発生器の応答速度は1μs程度であるが、DDR動作では、10ns程度の応答速度が要求される。
本発明の目的は以上の問題点を解決し、例えばDDRでデータの読み出しを行う半導体記憶装置であっても、従来技術に比較して高速でデータの読み出しを行うことができる内部電源電圧発生回路を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、上記内部電源電圧発生回路を備えた半導体記憶装置及び半導体装置を提供することにある。
第1の発明に係る内部電源電圧発生回路は、負荷回路に供給する内部電源電圧を所定の第1の基準電圧と比較して比較結果を示す制御電圧を出力端子から出力する差動増幅器と、上記制御電圧に応じて外部電源電圧を駆動して内部電源電圧を出力する駆動トランジスタとを含み、上記内部電源電圧が上記第1の基準電圧となるように調整する内部電源電圧発生回路において、
上記差動増幅器の出力端子にスイッチ回路を介して接続されかつ上記制御電圧の電荷を充電する充電キャパシタと、上記充電キャパシタに所定の初期電圧を調整して印加する初期電圧調整回路と、上記充電キャパシタを放電する電荷リセット回路とを含むチャージシェア回路と、
上記内部電源電圧が所定の第2の基準電圧よりも低下したときに上記スイッチ回路をオンすることにより上記差動増幅器の出力端子に上記初期電圧を有する充電キャパシタを接続し、上記制御電圧の電荷を所定の転送期間上記充電キャパシタに転送した後、上記スイッチ回路をオフし、所定のリセット期間上記電荷リセット回路により上記充電キャパシタの電荷を放電する制御手段とを備えたことを特徴とする。
上記内部電源電圧発生回路において、上記初期電圧調整回路は、所定の微小電流を生成し、上記微小電流に対応する電流を、上記外部電源電圧から低下した所定の初期電圧を生成する回路に流して当該初期電圧を生成することを特徴とする。
また、上記内部電源電圧発生回路において、上記初期電圧調整回路は、外部電源電圧に接続されかつ互いに直列に接続された所定段数の第1のトランジスタを含み、上記外部電源電圧から、上記所定段数に上記第1のトランジスタのしきい値を乗算してなる値を減算した電圧を上記初期電圧として発生することを特徴とする。
さらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記初期電圧調整回路は、外部電源電圧に接続されかつ互いに直列に接続された所定段数の第2のトランジスタと、複数の分圧抵抗と、基準電流源とを直列に接続してなる回路を含み、上記複数の分圧抵抗のうちのいずれか1つの分圧抵抗の一端からの電圧を選択的に上記初期電圧として発生する充電回路であることを特徴とする。
またさらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記電荷リセット回路は、上記充電キャパシタと接地との間に接続された第3のトランジスタを含み、上記リセット期間において、上記第3のトランジスタをオンすることにより上記充電キャパシタの電荷を放電することを特徴とする。
また、上記内部電源電圧発生回路において、上記電荷リセット回路は、上記リセット期間において、所定の放電用小電流を流し、上記放電用小電流に対応する電流を上記充電キャパシタから流して上記充電キャパシタの電荷を放電することで上記充電キャパシタの電圧をプルダウンさせるプルダウン回路であることを特徴とする。
さらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記電荷リセット回路は、上記リセット期間において、上記充電キャパシタを上記充電回路に接続することにより当該充電キャパシタの電荷を当該充電回路に放電することで、当該充電キャパシタの電位を上記初期電圧に低下させることを特徴とする。
ここで、上記第2の基準電圧は上記第1の基準電圧に等しいことを特徴とする。
またさらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、上記制御電圧を所定の電圧にプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止するオーバーシュート防止回路をさらに備えたことを特徴とする。
上記内部電源電圧発生回路において、上記オーバーシュート防止回路は、上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、外部電源電圧からトランジスタ回路を介して所定の電圧だけ低下させた電圧に上記制御電圧をプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止することを特徴とする。
また、上記内部電源電圧発生回路において、上記オーバーシュート防止回路は、上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、外部電源電圧を別の充電キャパシタに充電して得た充電電圧に上記制御電圧を所定の期間接続してチャージシェアすることにより上記制御電圧をプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止することを特徴とする。
さらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記制御手段は、
上記内部電源電圧を上記第2の基準電圧と比較して比較結果信号を出力するコンパレータと、
上記コンパレータからの比較結果信号に基づいて上記スイッチ回路のオン又はオフの制御を行う制御信号を発生するタイミング信号発生回路とを備えたことを特徴とする。
またさらに、上記内部電源電圧発生回路において、上記第2の基準電圧は上記第1の基準電圧以下であり、上記第3の基準電圧は上記第2の基準電圧以上であることを特徴とする。
ここで、上記第1の基準電圧と第2の基準電圧と第3の基準電圧とは互いに等しい電圧であることを特徴とする。
第2の発明に係る半導体記憶装置は、上記内部電源電圧発生回路を備えたことを特徴とする。
上記半導体記憶装置において、上記半導体記憶装置は、データの書き込み信号又はデータの読み出し信号に基づいて、クロックのサイクル速度よりも早い速度でそれぞれデータの書き込み又はデータの読み出しを行い、
上記制御手段は、上記データの書き込み信号及び上記データの読み出し信号に同期して上記チャージシェア回路を動作させることを特徴とする。
また、上記半導体記憶装置において、上記クロックのサイクル速度よりも早い速度は、クロックサイクルの倍速であるDDR(Double Data Rate)であることを特徴とする。
第3の発明に係る半導体装置は、上記内部電源電圧発生回路を備えたことを特徴とする。
従って、本発明に係る内部電源電圧発生回路によれば、上記内部電源電圧が所定の基準電圧よりも低下したときに上記スイッチ回路をオンすることにより上記差動増幅器の出力端子に上記初期電圧を有する充電キャパシタを接続し、上記制御電圧の電荷を所定の転送期間上記充電キャパシタに転送して、チャージシェアにより上記制御電圧を高速に立ち下げ、上記駆動トランジスタの駆動能力を増大させることにより当該内部電源電圧の低下を防止する。これにより、例えばDDRでデータの読み出しを行う半導体記憶装置であっても、従来技術に比較して高速でデータの読み出しを行うことができる内部電源電圧発生回路を提供することができる。
本発明の実施形態1に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。 図1の内部電源電圧発生回路11の構成を示す回路図である。 図2の内部電源電圧発生回路11の動作を示す各信号のタイミングチャートである。 本発明の実施形態2に係る内部電源電圧発生回路11Aの構成を示す回路図である。 図4の内部電源電圧発生回路11Aの動作を示す各信号のタイミングチャートである。 本発明の実施形態3に係る内部電源電圧発生回路11Bの構成を示す回路図である。 図6の内部電源電圧発生回路11Bの動作を示す各信号のタイミングチャートである。 本発明の実施形態4に係る内部電源電圧発生回路11Cの構成を示す回路図である。 図8の充電基準電圧VCREFを発生する充電基準電圧発生回路120の構成を示す回路図である。 本発明の実施形態5に係る内部電源電圧発生回路11Dの構成を示す回路図である。 図10の内部電源電圧発生回路11Dの動作を示す各信号のタイミングチャートである。 本発明の実施形態6に係るDDR型フラッシュメモリのための内部電源電圧発生回路の動作を示すタイミングチャートである。 従来例に係る内部電源電圧調整回路40の構成を示す回路図である。
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同様の構成要素については同一の符号を付している。
実施形態1.
図1は本発明の実施形態1に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。実施形態1に係る不揮発性記憶装置は例えばフラッシュメモリであって、例えばDDR動作を行っても高速で動作することができる内部電源電圧VDDを発生する内部電源電圧発生回路11を提供することを特徴としている。
図1において、不揮発性記憶装置は、
(1)データを記憶する例えばフラッシュメモリアレイであるメモリセルアレイ20と、
(2)コントロールロジック35からの制御信号により、メモリセルアレイ20からデータをページ単位で書き込み又は読み出して入出力バッファ31に出力するページバッファ21と、
(3)指定アドレスに応答してメモリセルアレイ20のブロック及びワード線を指定するためのロウデコーダ22と、
(4)コントロールロジック35からの信号に基づいて当該不揮発性記憶装置のステータスを一時的に記憶して入出力バッファ31に出力し、レディ/ビジー信号(R/B信号)を発生してR/B信号端子42に出力するステータスレジスタ23と、
(5)入出力端子41を介して入出力されるデータを一時的に記憶する入出力バッファ31と、
(6)入出力バッファ31からのコマンドを復号化して符号化されたコマンドデータをコントロールロジック35に出力するコマンドデコーダ32と、
(7)入出力バッファ31からの指定アドレスを一時的に記憶するアドレスバッファ33と、
(8)外部電源電圧VCCに基づき電源オン時に当該半導体チップの動作をリセットするためのリセット信号を出力するパワーオンリセット回路36と、
(9)外部電源電圧端子44を介して印加される外部電源電圧VCCに基づいて所定の基準電圧VDDREFと所定の基準電圧VREFを発生する基準電圧発生回路10と、
(10)基準電圧VDDREFに基づいて内部電源電圧VDDを発生して各回路を供給する内部電源電圧発生回路11と、
(11)基準電圧VREFに基づいてデータの書き込み(プログラム)及び消去に必要な高電圧(HV)及び中間電圧(MV)を発生して出力する高電圧及び中間電圧発生及び制御回路12と、
(12)コマンドデコーダ32からのコマンドデータ、制御信号端子43を介して入力される制御信号、もしくはパワーオンリセット回路36からのリセット信号に基づいて、当該不揮発性記憶装置内の各回路(基準電圧発生回路10、内部電源電圧発生回路11、及び高電圧及び中間電圧発生及び制御回路12を含む)に対して所定の制御を行うコントロールロジック35と、
を備えて構成される。
図2は図1の内部電源電圧発生回路11の構成を示す回路図である。図2の内部電源電圧発生回路11は、差動増幅器51、駆動トランジスタであるPチャンネルMOSトランジスタP1及び位相補償回路54からなる図13の内部電源電圧調整回路40に加えて、コンパレータ52、動作制御回路を構成するタイミング信号発生回路50、及びチャージシェア回路60をさらに備えたことを特徴としている。
図2の内部電源電圧調整回路40において、基準電圧VDDREFは差動増幅器51の反転入力端子に入力され、外部電源電圧VCCに接続されたPチャンネルMOSトランジスタP1から出力される内部電源電圧VDDが差動増幅器51の非反転入力端子に入力され、差動増幅器51の出力端子からの制御電圧(比較結果電圧)が接続点55を介して、PチャンネルMOSトランジスタP1のゲートに印加される。なお、接続点55には、抵抗Rp及びキャパシタCpの直列回路を備える位相補償回路54が接続され、その電圧をDRVPとする。以上のように構成された内部電源電圧調整回路40は、基準電圧VDDREFに基づいて、外部電源電圧VCCから所定の内部電源電圧VDDを発生して保持して不揮発性記憶装置内の各回路(負荷回路)53に電源電流iVDDで供給する。
コンパレータ52は基準電圧VDDREFを内部電源電圧VDDと比較して、VDDREF>VDDとなるときにハイレベルの比較結果信号COMP_OUTをタイミング信号発生回路50に出力する一方、VDDREF≦VDDとなるときにローレベルの比較結果信号COMP_OUTをタイミング信号発生回路50に出力する。タイミング信号発生回路50は上記比較結果信号COMP_OUTに基づいて、図3に示すように、制御信号CSEN,PUVCENB,PDVCEN,PDVCEN2を発生して出力する。
チャージシェア回路60は上記接続点55に接続され、タイミング信号発生回路50からの制御信号CSEN,PUVCENB,PDVCEN,PDVCEN2に基づいて動作し、上記接続点55の電圧DRVPを制御することにより、内部電源電圧VDDを制御する。チャージシェア回路60は、
(1)伝送ゲート61及びインバータ62を備え、制御信号CSENに基づいて、接続点55との接続をオン/オフするスイッチ回路65と、
(2)接続点55からスイッチ回路65及び接続点56を介して接続され、電荷を蓄積する充電キャパシタCcと、
(3)制御信号PDVCENに基づいて、所定のリセット期間において充電キャパシタCcに充電された電荷をリセット(放電)する電荷リセット回路64と、
(4)制御信号PUVCENB,PDVCEN2に基づいて、外部電源電圧VCCを用いて充電キャパシタCcの初期電圧(上記制御電圧の電荷を転送する前の、スイッチ回路65及び電荷リセット回路64が閉じているときの接続点56の電圧)を調整する初期電圧調整回路63と、
を備えて構成される。
初期電圧調整回路63は、3個のPチャンネルMOSトランジスタP11〜P13と、3個のNチャンネルMOSトランジスタN2〜N4と、例えば10kΩ〜100kΩなど、NチャンネルMOSトランジスタN4のソース・ドレイン間抵抗に比較して非常に大きな抵抗値を有する微小電流発生用抵抗Rfとを備えて構成される。NチャンネルMOSトランジスタN3及びN4とによりカレントミラー回路(各トランジスタN3,N4のサイズ比は1:1であってもよいし、その他の比であってもよい)を構成しており、外部電源電圧VCCから抵抗Rfを介して、例えば数μA程度の微小電流Ifを流し、微小電流Ifに対応する電流をPチャンネルMOSトランジスタP11〜P13の回路に流すことにより、接続点56の初期電圧を調整して設定する。当該初期電圧は、外部電源電圧VCCから、それぞれゲート及びドレインを接続してなるPチャンネルMOSトランジスタP12,P13の段数N(図2の例ではN=2)に当該PチャンネルMOSトランジスタP12,P13のしきい値電圧Vtpを乗算した値を減算して得た電圧となる。当該初期電圧は、外部電源電圧VCCよりも低い電圧であって、0Vを超える電圧である。
以上のように構成されたチャージシェア回路60によれば、タイミング信号発生回路50からの制御信号CSEN,PUVCENB,PDVCEN,PDVCEN2に基づいて動作し、充電キャパシタCcへの充電で接続点55の電圧に係る電荷を共用することで、上記接続点55の電圧を制御することにより、内部電源電圧VDDを制御する。
図3は図2の内部電源電圧発生回路11の動作を示す各信号のタイミングチャートである。なお、図3の制御信号EN_CHARGESHAREは、例えばNAND型フラッシュメモリのDDR動作のための制御信号であって、実施形態6において詳細後述する。
図3において、充電キャパシタCcは初期電圧調整回路63により所定の上記初期電圧(VCC−2Vtp)に予め設定されている。内部電源電圧VDDが所定の基準電圧VDDREF(例えば2V)よりも低下したとき(時刻t1)、
(1)所定時間幅Tp1のハイレベルパルスの制御信号CSEN、
(2)所定時間幅Tp1のローレベルパルスの制御信号PDVCEN2、及び
(3)時間幅(Tp1+Tp2)のハイレベルパルスの制御信号PUVCENB、
を発生して出力する。これにより、スイッチ回路65がオンとなり、充電キャパシタCcは、接続点55の制御電圧DRVPから転送される電荷を充電して(転送期間Tp1)、その充電キャパシタCcの電圧(接続点56の電圧)VCは上記初期電圧から上昇した後、時刻t1から所定時間Tp1後の時刻t2においてスイッチ回路65がオフとなり、かつ電荷リセット回路64のNチャンネルMOSトランジスタN1がオンとなることで充電キャパシタCcの電圧VCが接地電位に低下する。次いで、時刻t2から所定時間Tp2後の時刻t3において初期電圧調整回路63からの電荷供給により、電圧VCが所定の初期電圧に向けて上昇を開始する。そして、負荷電流iVDDが低下し、時刻t4で内部電源電圧VDDが基準電圧VREFを超えると、内部電源電圧VDDも元の電圧に回復することになる。
なお、時間幅Tp1,Tp2の関係は、Tp1=Tp2であってもよいし、Tp1>Tp2又はTp1<Tp2であってもよい。
以上のチャージシェア回路60の動作において、充電キャパシタCcには予め内部電源電圧VDDより低い所定の初期電圧に充電されているので、スイッチ回路65のオン時において、図3の121で示すように、接続点55の電圧DRVPを急激に高速で立ち下げることができる。この電圧DRVPが下がると内部電源VDDを調節・駆動している駆動トランジスタP1の駆動能力が上がる。これにより、負荷電流iVDDが急激に上昇しても、図3に示すように内部電源電圧VDDが急激に低下することを防止して、所定の電圧で保持できる。
また、差動増幅器51及びPチャンネルMOSトランジスタP1を備えた内部電源電圧調整回路40を変更することなく、負荷電流iVDDに対する応答速度を大幅に高速化できる。
実施形態2.
図4は本発明の実施形態2に係る内部電源電圧発生回路11Aの構成を示す回路図である。実施形態2に係る内部電源電圧発生回路11Aは、図4に示すように、実施形態1に係る内部電源電圧発生回路11に比較して以下の点が異なる。
(1)図2の位相補償回路54に代えて、オーバーシュート防止回路70を備える。
図4において、オーバーシュート防止回路70は、2個のPチャンネルMOSトランジスタP14〜P15を備えて構成される。
図5は図4の内部電源電圧発生回路11Aの動作を示す各信号のタイミングチャートである。図5において、オーバーシュート防止回路70は、比較結果信号COMP_OUTがハイレベルからローレベルになったときに(時刻t4)、接続点55の電圧DRVPを最小低下電圧から所定の引き上げ電圧(図4の例では、VCC−Vtp;ここで、VtpはPチャンネルMOSトランジスタP15のしきい値電圧))に引き上げた(プルアップ)後、当該電圧を元の電圧値に復帰させることで、制御電圧DRVPで動作するPチャンネルトランジスタP1の動作を適切に抑え、内部電源電圧VDDのオーバーシュートを防止することができる。時刻t4において、図3の制御電圧DRVPのように応答速度が遅くゆっくり電圧が上昇する場合内部電源電圧VDDにオーバーシュートが起きる恐れがあるので、図5のように時刻t4において制御電圧DRVPを高速に引き上げることにより駆動トランジスタP1の駆動力を落として内部電源電圧VDDのオーバーシュートを抑えることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、実施形態1の作用効果に加えて、オーバーシュート防止回路70を備えることで、内部電源電圧VDDのオーバーシュートを防止することができる。
以上の実施形態1及び2においては、チャージシェア回路60あるいはオーバーシュート防止回路70の動作のオン・オフを決めるコンパレータ52の基準電圧VDDREFは、内部電源電圧を調整・駆動する内部電源電圧調整回路40の差動増幅器51の基準電圧VDDREFと同じ電圧を使用している。これは理想的であるが、しかし、本実施形態のようにタイミング制御されているとはいえ、実際は電圧誤差やタイミング誤差、ノイズ等のために発振の恐れも出てくるので、これらの基準電圧に差を設けるのが安全である。内部電源電圧調整回路40の差動増幅器51の基準電圧を第1の基準電圧、チャージシェア回路60のコンパレータ52の基準電圧を第2の基準電圧、オーバーシュート防止回路70のコンパレータ(追加で設ける必要がある)の基準電圧を第3の基準電圧とすると、上記動作の要請から、第2の基準電圧は第1の基準電圧より低く、第3の基準電圧は第2の基準電圧以上に設定される。例えば、第2の基準電圧は第1の基準電圧より0〜0.1Vだけ低く、第3の基準電圧は第1の基準電圧近傍例えば±0〜0.05Vに設定される。また、本件は以降の実施形態にも適用されうるのはもちろんである。
実施形態3.
図6は本発明の実施形態3に係る内部電源電圧発生回路11Bの構成を示す回路図である。実施形態3に係る内部電源電圧発生回路11Bは、図6に示すように、実施形態1に係る内部電源電圧発生回路11に比較して以下の点が異なる。
(1)電荷リセット回路64に代えて、プルダウン回路80を備える。
(2)タイミング信号発生回路50に代えて、さらに制御信号PDVCEN3を発生するタイミング信号発生回路50Aを備える。
図6において、プルダウン回路80は、例えば数mA〜数十mA程度の放電用小電流Im(>If)を流すための小電流発生用抵抗Rmと、3個のNチャンネルMOSトランジスタN5〜N7とを備えて構成される。
図7は図6の内部電源電圧発生回路11Bの動作を示す各信号のタイミングチャートである。NチャンネルMOSトランジスタN6及びN7はカレントミラー回路を構成しており、制御信号PDVCEN3は時刻t2から所定期間Tp2の間ハイレベルとなるパルス信号であり、当該期間(時刻t2〜t3)においてプルダウン回路80がオンになることにより、小電流Imに対応するNチャンネルMOSトランジスタN6の電流を充電キャパシタCcからグランドに向けて流して放電することで接続点56の電圧を徐々にプルダウンさせる(図7の123)。
なお、時間幅Tp1,Tp2の関係は、Tp1=Tp2であってもよいし、Tp1>Tp2又はTp1<Tp2であってもよい。
以上説明したように、実施形態3によれば、実施形態1の作用効果を有するとともに、電荷リセット回路64に代えてプルダウン回路80を備えることで、充電キャパシタCcの電荷を放電させることができる。
実施形態4.
図8は本発明の実施形態4に係る内部電源電圧発生回路11Cの構成を示す回路図である。実施形態4に係る内部電源電圧発生回路11Cは、図8に示すように、実施形態1に係る内部電源電圧発生回路11に比較して以下の点が異なる。
(1)チャージシェア回路60に代えて、チャージシェア回路60Aを備える。ここで、チャージシェア回路60Aは、電荷リセット回路64及び初期電圧調整回路63に代えて充電回路90を備える。
(2)タイミング信号発生回路50に代えて、制御信号CSEN,VCSETを発生するタイミング信号発生回路50Bを備える。
図8において、充電回路90は、
(1)ボルテージフォロワー回路(バッファ回路)を構成する差動増幅器91と、
(2)接続点56と差動増幅器91との間に挿入され、伝送ゲート92及びインバータ93とを備えるスイッチ回路94とを備えて構成される。
差動増幅器91の出力端子はその反転入力端子に接続されており、所定の充電基準電圧VCREF(例えば、後述の図9の充電基準電圧発生回路120により発生される)は差動増幅器91の非反転入力端子に入力された後、スイッチ回路94及び接続点56を介して充電キャパシタCcに印加される。例えば、図3の時刻t1前及び時刻t2以降にスイッチ回路94をオンすることで、接続点56の電圧を、実施形態1の初期電圧に代えて上記充電基準電圧VCREF(例えば、VCC−2Vtp程度の相当電圧;当該基準充電電圧は、外部電源電圧VCCよりも低い電圧であって、0Vを超える電圧である。)に設定することで、実施形態1の電荷リセット回路64と同様に、充電キャパシタCcの電荷を転送することにより接続点55の電圧DRVPを急激に高速で立ち下げることができる。これにより、負荷電流iVDDが急激に上昇しても、図3に示すように内部電源電圧VDDが急激に低下することを防止して、所定の電圧で保持できる。
図9は図8の充電基準電圧VCREFを発生する充電基準電圧発生回路120の構成を示す回路図である。図9において、外部電源電圧VCCと接地電圧との間に、2段のPチャンネルMOSトランジスタP21、P22(複数N段の直列回路であってもよい)と、分圧抵抗R1,R2,R3と、基準電流源110との直列回路とが挿入される。各分圧抵抗R1,R2,R3の両端に伝送ゲート111〜114が接続されて、充電基準電圧VCREFの出力回路となる。当該直列回路においては、基準電流Irefが流されており、伝送ゲート111〜114のうちのいずれか1つをオンにすることで下記のように電圧を選択して充電基準電圧VCREFとして出力できる。
(1)伝送ゲート111をオンしたとき、外部電源電圧VCCから、PチャンネルMOSトランジスタP21,P22の段数Nに応じた電圧N×しきい値電圧Vtpを減算してなる電圧(VCC−N×Vtp)が充電基準電圧VCREFとして出力される。
(2)伝送ゲート112をオンしたとき、電圧(VCC−N×Vtp)から抵抗R1の降下電圧Iref×R1を減算してなる電圧(VCC−N×Vtp−Iref×R1)が充電基準電圧VCREFとして出力される。
(3)伝送ゲート113をオンしたとき、電圧(VCC−N×Vtp)から抵抗R1,R2の降下電圧Iref×(R1+R2)を減算してなる電圧(VCC−N×Vtp−Iref×(R1+R2))が充電基準電圧VCREFとして出力される。
(4)伝送ゲート114をオンしたとき、電圧(VCC−N×Vtp)から抵抗R1,R2,R3の降下電圧Iref×(R1+R2+R3)を減算してなる電圧(VCC−N×Vtp−Iref×(R1+R2+R3))が充電基準電圧VCREFとして出力される。
実施形態5.
図10は本発明の実施形態5に係る内部電源電圧発生回路11Dの構成を示す回路図である。実施形態5に係る内部電源電圧発生回路11Dは、図10に示すように、実施形態1に係る内部電源電圧発生回路11に比較して以下の点が異なる。
(1)オーバーシュート防止回路100をさらに備える。
(2)タイミング信号発生回路50に代えて、さらに制御信号PUENを発生するタイミング信号発生回路50Cを備える。
図10において、オーバーシュート防止回路100は、
(1)制御信号PUENに基づいてオン/オフするPチャンネルMOSトランジスタP16と、
(2)充電キャパシタCsと、
(3)伝送ゲート101及びインバータ102を備えたスイッチ回路103とを備えて構成される。
図11は図10の内部電源電圧発生回路11Dの動作を示す各信号のタイミングチャートである。図11において、時刻t1から時刻t4までの動作は実施形態1と同様であるが、時刻t4において、タイミング信号発生回路50Cは、所定の期間Tqのハイレベルパルスである制御信号PUENを発生し、これにより、オーバーシュート防止回路100をオンさせて、予め外部電源電圧VCCにより充電された充電キャパシタCsの当該充電電圧VCPUを、当該期間Tqにおいて接続点55の制御電圧DRVPに接続し、内部電源電圧VDDのオーバーシュートを防止できる(図11の124)。制御信号PUENの発生時において、充電電圧VCPUは若干低下し、制御電圧DRVPは若干上昇する(図11の125)。制御電圧DRVPの上昇により駆動トランジスタP1の動作が抑えられ、内部電源電圧VDDがオーバーシュートするのが防止される。
なお、時間幅Tp1,Tp2の関係は、Tp1=Tp2であってもよいし、Tp1>Tp2又はTp1<Tp2であってもよい。
以上説明したように、本実施形態では、実施形態1の作用効果を有するとともに、実施形態2に係るオーバーシュート防止回路70の代わりに、オーバーシュート防止回路100を備えることで、内部電源電圧VDDのオーバーシュートを防止することができる。
実施形態6.
図12は本発明の実施形態6に係るDDR型フラッシュメモリのための内部電源電圧発生回路の動作を示すタイミングチャートである。図12の制御信号EN_CHARGESHAREは、図2のタイミング信号発生回路50等で発生される、例えばNAND型フラッシュメモリのDDR動作のための制御信号であって、DDRを用いたデータの書き込み信号DDR_DIN及びデータの読み出し信号DDR_DOUTに同期して発生される。当該制御信号EN_CHARGESHAREは例えば実施形態1に示した図1のコントロールロジック35、もしくは例えば各実施形態のタイミング信号発生回路50〜50Cにより発生され、その動作タイミングは例えば図3の通りである。従って、各実施形態1〜5の回路をDDR型フラッシュメモリに対して適用することができる。
ここで、実施形態1〜5においては、実際にチャージシェア回路60やオーバーシュート防止回路70等が動作開始するのは、負荷電流iVDDが増大して内部電源電圧VDDが低下するのがトリガーではあるが、これはDDRに限らず通常の動作で普通に起きていることであり、それらと区別してDDR動作時に発生する大負荷電流に対処するために動作させるために上記制御信号EN_CHARGESHAREを使用する。
従って、DDR動作以外に同様に大負荷電流を流す動作があれば、それに対応するタイミング制御信号をタイミング信号発生回路50等に入れることで、本発明の内部電源電圧発生回路を動作するようにできる。
なお、DDRを用いたデータの書き込み又は読み出しでは、クロックの立ち上がり及び立ち下がりの両方を使うことで、クロックの立ち上がり又は立ち下がりでデータ転送する通常のメモリのデータ転送速度(クロックのサイクル速度)(Single Data Rate;SDR)の倍速(Double Data Rate)でデータを転送する。本発明はこれに限らず、上記クロックのサイクル速度よりも早い速度でデータを転送する半導体記憶装置にも適用できる。
以上の実施形態においては、フラッシュメモリなどの半導体不揮発性記憶装置のための内部電源電圧発生回路について説明しているが、本発明はこれに限らず、DRAM、SDRAMなどの半導体揮発性記憶装置などの種々の半導体記憶装置、及びプロセッサなどを備えた半導体集積回路などの半導体装置に適用することができる。また、フラッシュメモリはNAND型に限らず、NOR型フラッシュメモリにも適用できる。
以上詳述したように、本発明に係る内部電源電圧発生回路によれば、チャージシェア回路を備えることにより、例えばDDRでデータの読み出しを行う半導体記憶装置であっても、従来技術に比較して高速でデータの読み出しを行うことができる電源電圧発生回路を提供することができる。
10…基準電圧発生回路、
11,11A,11B,11C,11D…内部電源電圧発生回路、
12…高電圧及び中間電圧発生及び制御回路、
20…メモリセルアレイ、
21…ページバッファ、
22…ロウデコーダ、
23…ステータスレジスタ、
31…入出力バッファ、
32…コマンドデコーダ、
33…アドレスバッファ、
35…コントロールロジック、
36…パワーオンリセット回路、
40…内部電源電圧調整回路、
41…入出力端子、
42…R/B信号端子、
43…制御信号端子、
44…外部電源電圧端子、
50,50A,50B…タイミング信号発生回路、
51…差動増幅器、
52…コンパレータ、
53…各回路、
54…位相補償回路、
55,56…接続点、
60…チャージシェア回路、
61…伝送ゲート、
62…インバータ、
63…初期電圧調整回路、
64…電荷リセット回路、
65…スイッチ回路、
70…オーバーシュート防止回路、
80…プルダウン回路、
90…充電回路、
91…差動増幅器、
92…伝送ゲート、
93…インバータ、
94…スイッチ回路、
100…オーバーシュート防止回路、
101…伝送ゲート、
102…インバータ、
103…スイッチ回路、
110…基準電流源、
111〜114…伝送ゲート、
120…充電基準電圧発生回路、
Cc…充電キャパシタ、
Rf…微小電流発生用抵抗、
Rm…小電流発生用抵抗、
R1〜R3…分圧抵抗、
P1,P11〜P16,P21〜P22…PチャンネルMOSトランジスタ、
N1〜N7…NチャンネルMOSトランジスタ。

Claims (18)

  1. 負荷回路に供給する内部電源電圧を所定の第1の基準電圧と比較して比較結果を示す制御電圧を出力端子から出力する差動増幅器と、上記制御電圧に応じて外部電源電圧を駆動して内部電源電圧を出力する駆動トランジスタとを含み、上記内部電源電圧が上記第1の基準電圧となるように調整する内部電源電圧発生回路において、
    上記差動増幅器の出力端子にスイッチ回路を介して接続されかつ上記制御電圧の電荷を充電する充電キャパシタと、上記充電キャパシタに所定の初期電圧を調整して印加する初期電圧調整回路と、上記充電キャパシタを放電する電荷リセット回路とを含むチャージシェア回路と、
    上記内部電源電圧が所定の第2の基準電圧よりも低下したときに上記スイッチ回路をオンすることにより上記差動増幅器の出力端子に上記初期電圧を有する充電キャパシタを接続し、上記制御電圧の電荷を所定の転送期間上記充電キャパシタに転送した後、上記スイッチ回路をオフし、所定のリセット期間上記電荷リセット回路により上記充電キャパシタの電荷を放電する制御手段とを備えたことを特徴とする内部電源電圧発生回路。
  2. 上記初期電圧調整回路は、所定の微小電流を生成し、上記微小電流に対応する電流を、上記外部電源電圧から低下した所定の初期電圧を生成する回路に流して当該初期電圧を生成することを特徴とする請求項1記載の内部電源電圧発生回路。
  3. 上記初期電圧調整回路は、外部電源電圧に接続されかつ互いに直列に接続された所定段数の第1のトランジスタを含み、上記外部電源電圧から、上記所定段数に上記第1のトランジスタのしきい値を乗算してなる値を減算した電圧を上記初期電圧として発生することを特徴とする請求項2記載の内部電源電圧発生回路。
  4. 上記初期電圧調整回路は、外部電源電圧に接続されかつ互いに直列に接続された所定段数の第2のトランジスタと、複数の分圧抵抗と、基準電流源とを直列に接続してなる回路を含み、上記複数の分圧抵抗のうちのいずれか1つの分圧抵抗の一端からの電圧を選択的に上記初期電圧として発生する充電回路であることを特徴とする請求項1記載の内部電源電圧発生回路。
  5. 上記電荷リセット回路は、上記充電キャパシタと接地との間に接続された第3のトランジスタを含み、上記リセット期間において、上記第3のトランジスタをオンすることにより上記充電キャパシタの電荷を放電することを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  6. 上記電荷リセット回路は、上記リセット期間において、所定の放電用小電流を流し、上記放電用小電流に対応する電流を上記充電キャパシタから流して上記充電キャパシタの電荷を放電することで上記充電キャパシタの電圧をプルダウンさせるプルダウン回路であることを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  7. 上記電荷リセット回路は、上記リセット期間において、上記充電キャパシタを上記充電回路に接続することにより当該充電キャパシタの電荷を当該充電回路に放電することで、当該充電キャパシタの電位を上記初期電圧に低下させることを特徴とする請求項4記載の内部電源電圧発生回路。
  8. 上記第2の基準電圧は上記第1の基準電圧に等しいことを特徴とする請求項1〜7のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  9. 上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、上記制御電圧を所定の電圧にプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止するオーバーシュート防止回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜8のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  10. 上記オーバーシュート防止回路は、上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、外部電源電圧からトランジスタ回路を介して所定の電圧だけ低下させた電圧に上記制御電圧をプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止することを特徴とする請求項9記載の内部電源電圧発生回路。
  11. 上記オーバーシュート防止回路は、上記内部電源電圧が所定の第3の基準電圧よりも増大したときに、外部電源電圧を別の充電キャパシタに充電して得た充電電圧に上記制御電圧を所定の期間接続してチャージシェアすることにより上記制御電圧をプルアップすることで上記内部電源電圧のオーバーシュートを防止することを特徴とする請求項9記載の内部電源電圧発生回路。
  12. 上記制御手段は、
    上記内部電源電圧を上記第2の基準電圧と比較して比較結果信号を出力するコンパレータと、
    上記コンパレータからの比較結果信号に基づいて上記スイッチ回路のオン又はオフの制御を行う制御信号を発生するタイミング信号発生回路とを備えたことを特徴とする請求項1〜11のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  13. 上記第2の基準電圧は上記第1の基準電圧以下であり、上記第3の基準電圧は上記第2の基準電圧以上であることを特徴とする請求項8〜11のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路。
  14. 上記第1の基準電圧と第2の基準電圧と第3の基準電圧とは互いに等しい電圧であることを特徴とする請求項13記載の内部電源電圧発生回路。
  15. 請求項1〜14のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
  16. 上記半導体記憶装置は、データの書き込み信号又はデータの読み出し信号に基づいて、クロックのサイクル速度よりも早い速度でそれぞれデータの書き込み又はデータの読み出しを行い、
    上記制御手段は、上記データの書き込み信号及び上記データの読み出し信号に同期して上記チャージシェア回路を動作させることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  17. 上記クロックのサイクル速度よりも早い速度は、クロックサイクルの倍速であるDDR(Double Data Rate)であることを特徴とする請求項16記載の半導体記憶装置。
  18. 請求項1〜14のうちのいずれか1つに記載の内部電源電圧発生回路を備えたことを特徴とする半導体装置。
JP2014231960A 2014-11-14 2014-11-14 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置 Active JP5976077B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014231960A JP5976077B2 (ja) 2014-11-14 2014-11-14 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置
US14/718,101 US9275749B1 (en) 2014-11-14 2015-05-21 Internal power voltage generating circuit, semiconductor memory device and semiconductor device
TW104117471A TWI559308B (zh) 2014-11-14 2015-05-29 內部電源電壓產生電路、半導體記憶裝置及半導體裝置
CN201510314289.9A CN106205716B (zh) 2014-11-14 2015-06-10 内部电源电压产生电路、半导体存储装置及半导体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014231960A JP5976077B2 (ja) 2014-11-14 2014-11-14 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016095713A JP2016095713A (ja) 2016-05-26
JP5976077B2 true JP5976077B2 (ja) 2016-08-23

Family

ID=55360047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014231960A Active JP5976077B2 (ja) 2014-11-14 2014-11-14 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9275749B1 (ja)
JP (1) JP5976077B2 (ja)
CN (1) CN106205716B (ja)
TW (1) TWI559308B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10192590B1 (en) 2017-10-19 2019-01-29 Globalfoundries Inc. Differential voltage generator

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3803107B2 (ja) * 1994-08-04 2006-08-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置および電源電圧発生回路
JP3705842B2 (ja) * 1994-08-04 2005-10-12 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP2006203248A (ja) * 1994-08-04 2006-08-03 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP3863508B2 (ja) 2003-07-03 2006-12-27 Necエレクトロニクス株式会社 電源電圧検出回路及び半導体集積回路装置
US7248531B2 (en) * 2005-08-03 2007-07-24 Mosaid Technologies Incorporated Voltage down converter for high speed memory
JP4565283B2 (ja) * 2008-06-10 2010-10-20 マイクロン テクノロジー, インク. 電圧調整系
JP2012186784A (ja) * 2010-12-24 2012-09-27 Renesas Electronics Corp 水晶発振装置および半導体装置
US8400212B1 (en) * 2011-09-22 2013-03-19 Sandisk Technologies Inc. High voltage charge pump regulation system with fine step adjustment
JP5518134B2 (ja) * 2012-07-02 2014-06-11 力晶科技股▲ふん▼有限公司 内部電圧トリミング回路及び方法、並びに半導体回路装置
JP2014067240A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Renesas Electronics Corp 半導体装置
US9000837B1 (en) * 2013-11-05 2015-04-07 International Business Machines Corporation Adjustable reference voltage generator for single-ended DRAM sensing devices

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016095713A (ja) 2016-05-26
US9275749B1 (en) 2016-03-01
TWI559308B (zh) 2016-11-21
TW201618107A (zh) 2016-05-16
CN106205716A (zh) 2016-12-07
CN106205716B (zh) 2019-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9830991B2 (en) Non-volatile memory
TWI592936B (zh) 內部電源電壓輔助電路、半導體記憶裝置及半導體裝置
US10818364B2 (en) Voltage generation circuit which is capable of executing high-speed boost operation
JP5890207B2 (ja) 半導体装置
US9985519B2 (en) Voltage generation circuit
US9837131B2 (en) Semiconductor device and output circuit thereof
JP6652457B2 (ja) 昇圧回路
US10074418B2 (en) SRAM module and writing control method thereof
JP2008004204A (ja) 負電位放電回路
JP2011034658A (ja) 半導体記憶装置、ワード線の昇圧方法、及びシステム
JP5976077B2 (ja) 内部電源電圧発生回路、半導体記憶装置及び半導体装置
JP4355625B2 (ja) 高電圧スイッチ回路
JP4324422B2 (ja) ブースト回路
TWI557748B (zh) Voltage generation circuit
CN112204495B (zh) 用于初始化带隙电路的系统及方法
KR100825021B1 (ko) 내부전압 생성기
JP4558033B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP2006216147A (ja) 不揮発性メモリ回路
JP3804765B2 (ja) 充電回路およびそれを用いた半導体記憶装置
KR100799103B1 (ko) 반도체 소자
KR100755061B1 (ko) 전압레벨 검출회로
JP3987856B2 (ja) 電圧検出回路、半導体装置、及び電圧検出回路の制御方法
KR20200004149A (ko) 반도체장치
JP2009105760A (ja) 半導体集積回路装置
WO2016035124A1 (ja) 電圧発生回路

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160301

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160324

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160628

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160719

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5976077

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250