JP5974109B2 - チップ供給装置 - Google Patents

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Description

本明細書に開示する技術は、基板にチップを実装する実装機にチップを供給するチップ供給装置に関する。
特開2010−268015号公報に、基板にチップを実装する実装機にチップを供給するチップ供給装置が開示されている。そのチップ供給装置は、実装機の作業ヘッドがチップを受け取ることが可能な位置で、ウエハシートを保持するウエハテーブルを備えている。なお、本明細書でいうウエハシートとは、中央に開口を有するウエハ保持板に、所望のチップ形状にダイシングされたウエハが貼着されたダイシングシートを装着したものをいう。
チップ供給装置において、異なるサイズのウエハからチップを供給したい場合がある。従来技術のチップ供給装置では、ウエハのサイズが異なる場合でも、ウエハ保持板の外形形状を全て同一のトレイ形状としておくことで、同一のウエハテーブルによってウエハシートを保持可能としている。従来技術のチップ供給装置では、ウエハ保持板の外形形状が異なり、従ってウエハシートのサイズが異なる場合には、同一のウエハテーブルによってウエハシートを保持することができない。ウエハシートのサイズが異なる場合であっても、同一のウエハテーブルで保持することが可能な技術が期待されている。
本明細書は、基板にチップを実装する実装機にチップを供給するチップ供給装置を開示する。そのチップ供給装置は、実装機の作業ヘッドがチップを受け取ることが可能な位置で、ウエハシートを保持するウエハテーブルを備えている。そのチップ供給装置では、ウエハテーブルが、フレームと、フレームの前部中央に固定されており、ウエハシートの前端と当接するストッパと、フレームに支持されており、ウエハシートの両側端をクランプする一対のクランプ機構を備えている。そのチップ供給装置では、一対のクランプ機構のフレームに対する左右方向の位置が、多段階に変更可能である。
上記のチップ供給装置では、ウエハシートの前端がストッパと当接し、ウエハシートの両側端が一対のクランプ機構によりクランプされることで、ウエハシートがウエハテーブルに対して前後方向と左右方向に位置決めされて保持される。上記のチップ供給装置では、一対のクランプ機構のフレームに対する左右方向の位置を変更することによって、同一のウエハテーブルで異なるサイズのウエハシートを保持することができる。
チップ供給装置10の外観を示す図である。 チップ供給装置10を実装機Mに組付けた状態を側方から見た断面図である。 ウエハテーブル38が6インチのウエハシートWを保持した状態を示す図である。 ウエハテーブル38が8インチのウエハシートWを保持した状態を示す図である。 ウエハテーブル38が12インチのウエハシートWを保持した状態を示す図である。 ウエハテーブル38を下面側から見た図である。 図6のA−Aの詳細を示す拡大図である。 図6のB−Bの詳細を示す拡大図である。
上記のチップ供給装置は、フレームが、前方フレームプレートと、後方フレームプレートと、側方フレームプレートを備えており、クランプ機構が、前方フレームプレートと後方フレームプレートによって支持されており、クランプ機構の前端近傍に前方係合部が形成されており、後端近傍に後方係合部が形成されており、前方フレームプレートに前方係合部と係合可能な前方被係合部が複数形成されており、前方被係合部の位置に対応する位置に、後方フレームプレートに後方係合部と係合可能な後方被係合部が複数形成されているように構成することができる。
上記のチップ供給装置によれば、簡素な構成によって、一対のクランプ機構のフレームに対する左右方向の位置を多段階に変更可能とすることができる。
上記のチップ供給装置は、クランプ機構が、メインプレートと、前方フレームプレートの後面と当接する前方ブロックと、後方フレームプレートの前面と当接する後方ブロックと、前方ブロックと後方ブロックの間に配置されており、メインプレートに固定された中間ブロックを備えており、前方ブロックおよび後方ブロックの一方が、メインプレートに対して前後方向にスライド可能に支持されており、中間ブロックと弾性体を介して接続されており、前方ブロックおよび後方ブロックの他方が、メインプレートに対して固定されており、弾性体が圧縮される方向に、メインプレートをフレームに対して移動させることで、前方係合部と前方被係合部の係合が解除され、かつ後方係合部と後方被係合部の係合が解除されるように構成することができる。
上記のチップ供給装置では、オペレータがメインプレートを把持して、弾性体が圧縮される方向に、メインプレートをフレームに対して移動させることで、前方係合部と前方被係合部の係合が解除され、かつ後方係合部と後方被係合部の係合が解除される。この状態のまま、オペレータがメインプレートをフレームに対して左右方向に移動させることで、クランプ機構を異なる位置でロックすることができる。工具を用いることなく、簡易な作業で、ウエハテーブルのサイズ換えを行うことができる。
上記のチップ供給装置は、前方被係合部および後方被係合部の少なくとも一方に、弾性体を介してフレームに支持されたガタツキ防止プレートが設けられているように構成することができる。
上記のチップ供給装置によれば、ガタツキ防止プレートが設けられた箇所の係合部と被係合部の間でガタツキが発生することを防ぐことができる。
上記のチップ供給装置は、メインプレートの上面に、識別マークが設けられているように構成することができる。
上記のチップ供給装置によれば、ウエハシートを撮像するためのカメラを用いて識別マークを撮像し、画像処理によってその位置を検出することで、クランプ機構のフレームに対する左右方向の位置を認識することができる。
図1に示すチップ供給装置10は、実装機に対してチップを供給する。実装機は、上流側の生産装置から搬入される基板に対して、チップ供給装置10から供給されるチップを実装し、チップが実装された基板を下流側の生産装置へ搬出する。チップ供給装置10は、マガジン収容部12と、ウエハ搬送部14を備えている。なお、以下ではチップ供給装置10を実装機に組付けた状態で、チップ供給装置10から見て実装機が位置する方向を前方といい、その反対方向を後方という。また、以下で左右方向、上下方向という場合、チップ供給装置10から見て実装機が位置する方向を前方とした場合の左右方向、上下方向を意味する。
図2はチップ供給装置10を実装機Mに組付けた状態を示している。図2に示すように、チップ供給装置10を実装機Mに組付けた状態では、ウエハ搬送部14の前方の部分は、実装機Mの内部に配置される。
チップ供給装置10のマガジン収容部12は、ハウジング20と、マガジン22と、マガジン昇降機構24を備えている。
ハウジング20は、マガジン22とマガジン昇降機構24を収容する。ハウジング20の前面には、マガジン22に収容されたウエハシートWを搬出する搬出口26が形成されている。本実施例のウエハシートWは、中央に略円形の開口を有するウエハ保持板に、所望のチップ形状にダイシングされたウエハが貼着されたダイシングシートを装着したものをいう。また、ハウジング20の後面には、オペレータにより開閉される開閉蓋20aが形成されている。
マガジン22は、ウエハシートWを収容する複数のウエハシート収容部28を備えている。複数のウエハシート収容部28は、高さ方向に積層されている。各ウエハシート収容部28には、ウエハシートWが収容されている。マガジン22は、前面および後面が開口した角筒形状に形成されている。チップ供給装置10のオペレータは、ハウジング20の開閉蓋20aを開いて、マガジン22の後面よりウエハシート収容部28にウエハシートWを補給することができる。
マガジン昇降機構24は、ボールねじ30と、ボールねじ30を回転させるモータ32を有している。ボールねじ30と係合するナット(図示しない)は、マガジン22に固定されている。このため、モータ32によりボールねじ30を回転させると、マガジン22がハウジング20内を上下方向に移動する。マガジン22を上下方向に移動させることで、マガジン22の任意のウエハシート収容部28を、ハウジング20の搬出口26の高さに一致させることができる。これによって、ウエハシート収容部28から搬出口26を通ってウエハ搬送部14にウエハシートWを搬出することができる。
ウエハ搬送部14は、ステージ34と、ステージ34を昇降するステージ昇降機構36と、ウエハテーブル38と、作業ヘッド40等を備えている。
ステージ昇降機構36は、ステージ34を上下方向に移動させる。ステージ昇降機構36は、ボールねじ42と、ボールねじ42を回転させるモータ44を有している。ボールねじ42と係合するナット(図示しない)は、ステージ34に固定されている。このため、モータ44によりボールねじ42を回転させると、ステージ34が上下方向に移動する。
ウエハテーブル38は、ステージ34に対して、前後方向にスライド可能に支持されている。ウエハテーブル38は、マガジン22から搬出されたウエハシートWを保持することができる。ウエハテーブル38は、アクチュエータ(図示せず)を駆動することで、ウエハ搬送部14の後方に位置するウエハシート供給位置38aと、ウエハ搬送部14の前方に位置するチップ供給位置38bの間で移動可能である。また、ウエハテーブル38は、ステージ34に対して、鉛直軸周りに回動可能である。ウエハテーブル38は、モータ(図示せず)を駆動することで、ステージ34に対する鉛直軸周りの角度を調整可能である。
作業ヘッド40は、ステージ34に対して、前後方向と、左右方向に移動可能に支持されている。作業ヘッド40は、アクチュエータ(図示せず)を駆動することで、ステージ34に対して、前後方向および左右方向に相対移動する。作業ヘッド40は、ウエハ引き出し機構46と、吸着ノズル48と、カメラ50を搭載している。ウエハ引き出し機構46は、マガジン収容部12のウエハシート収容部28からウエハシートWを引き出して、ウエハシート供給位置38aにあるウエハテーブル38に搬送する。吸着ノズル48は、ウエハテーブル38がウエハシート供給位置38aにある状態で、ウエハシートWから所望のチップを吸着することができる。カメラ50は、ウエハテーブル38がウエハシート供給位置38aにある状態で、ウエハテーブル38に保持されたウエハシートWを上面から撮像する。カメラ50が撮像した画像から、吸着ノズル48や後述する吸着ノズルNが吸着対象とするチップの位置および姿勢や、ウエハテーブル38の状態を認識することができる。
ウエハテーブル38のチップ供給位置38bの上方では、ウエハ搬送部14の上部が開口している。このため、ウエハテーブル38がチップ供給位置38bにある状態では、実装機Mからウエハテーブル38に保持されたウエハシートWにアクセスすることができる。実装機Mは、実装ヘッドHを備えている。実装ヘッドHは、吸着ノズルNとカメラCを有している。吸着ノズルNは、ウエハテーブル38がチップ供給位置38bにある状態で、ウエハシートWから所望のチップを吸着することができる。吸着ノズルNは、カメラ50が撮像した画像から認識されるチップの位置および姿勢に基づいて動作するが、カメラCが撮像した画像からチップの位置および姿勢を認識して動作させてもよい。実装ヘッドHは実装機Mの内部で前後方向および左右方向に移動可能であり、吸着ノズルNが吸着したチップを基板に実装することができる。
なお、ステージ34には、ウエハ搬送部14の吸着ノズル48や実装機Mの吸着ノズルNがチップを吸着する際にウエハテーブル38の下方からウエハシートWを突き上げることでダイシングシートからのチップの剥離を容易にする突き上げ機構や、突き上げ機構のポッドを交換するポッドチェンジャや、吸着ノズル48を交換するノズルチェンジャなども搭載されている。
本実施例のウエハテーブル38は、6インチ、8インチ、あるいは12インチといった、様々なサイズのウエハシートを保持することができる。図3は、ウエハテーブル38が6インチのウエハシートWを保持する場合を示している。図4は、ウエハテーブル38が8インチのウエハシートWを保持する場合を示している。図5は、ウエハテーブル38が12インチのウエハシートWを保持する場合を示している。
図3から図5に示すように、ウエハテーブル38は、フレーム60と、ストッパ62と、一対のクランプ機構64,66を備えている。
フレーム60は、中央に開口を有する長方形の枠形状に形成されている。フレーム60は、前方フレームプレート60aと、後方フレームプレート60bと、一対の側方フレームプレート60c,60dを備える。前方フレームプレート60aの中央部の上面には、ストッパ62が設けられている。ウエハシートWの前端がストッパ62と当接することによって、ウエハシートWがウエハテーブル38に対して前後方向に位置決めされる。
クランプ機構64,66は、それぞれメインプレート68,70と、サブプレート72,74を備えている。また、一方のクランプ機構64は、サイドプレート76を備えており、他方のクランプ機構66は、サイドストッパ78を備えている。
メインプレート68、70は、フレーム60の開口を前後方向に掛け渡すように、前方フレームプレート60aと後方フレームプレート60bによって支持されている。メインプレート68、70の前方側では、メインプレート68,70は前方フレームプレート60aの上面と重なるように伸びている。メインプレート68,70の後方側では、メインプレート68,70は後方フレームプレート60bの上面と重なるように伸びている。メインプレート68、70は、フレーム60に対して左右方向にスライド可能に支持されている。メインプレート68、70は、保持するウエハシートWの大きさに応じて予め設定された位置で、フレーム60に対してロックされる。ウエハ引き出し機構46によって引き出されたウエハシートWは、両側端がメインプレート68,70の上面に載置された状態で、前端がストッパ62と当接するまで前方へ移動させられる。
サイドストッパ78は、メインプレート70とサブプレート74の間に配置されている。サイドストッパ78は、メインプレート70に対して固定されている。サイドストッパ78は、ウエハシートWの前方への移動を案内するとともに、ウエハシートWの側端の位置決めをする。サイドプレート76は、メインプレート68とサブプレート72の間に配置されている。サイドプレート76は、メインプレート68に対して左右方向にスライド可能に支持されており、エアシリンダの駆動によって左右方向にスライドする。ウエハテーブル38では、ウエハシートWがメインプレート68,70上を前方に向けて移動し、ウエハシートWの前端がストッパ62と当接すると、サイドプレート76をサイドストッパ78に向けてスライドさせる。これによって、ウエハシートWがサイドストッパ78とサイドプレート76により左右から挟持されて、ウエハシートWがウエハテーブル38に対して左右方向に位置決めされる。
サブプレート72、74は、メインプレート68、70に対して上下方向に移動可能に支持されており、エアシリンダの駆動によって上下方向に移動する。ウエハテーブル38では、ウエハシートWの前端がストッパ62と当接し、さらにサイドストッパ78とサイドプレート76によりウエハシートWが左右から挟持されると、サブプレート72,74をメインプレート68,70に向けて移動させる。これによって、ウエハシートWの側端部がメインプレート68、70とサブプレート72,74により上下から挟持される。これによって、ウエハシートWの側端部がクランプされて、ウエハシートWがウエハテーブル38に保持される。
なお、メインプレート68,70の上面には、識別マーク68a、70aが設けられている。ウエハ搬送部14のカメラ50や、実装機MのカメラCが撮像した画像において、識別マーク68a、70aの位置を検出することで、ウエハテーブル38が保持可能なウエハシートWのサイズを認識することができる。
以下では図6−図8を参照しながら、ウエハテーブル38が保持するウエハシートWのサイズを変更する際のサイズ換えについて、クランプ機構64を例として説明する。クランプ機構66についても、クランプ機構64と同様である。図6はウエハテーブル38を下面側から見た図である。また、図7は図6のA−A部の拡大図であり、図8は図6のB−B部の拡大図である。
図7に示すように、メインプレート68の下面側の前方には、前方フレームプレート60aの後面と当接する前方ブロック80が設けられている。前方ブロック80は、メインプレート68に対して固定されている。前方ブロック80には、前方フレームプレート60aの下面側に形成された係合溝82と係合する係合爪84が形成されている。係合爪84は、先端に向かうにつれて幅が狭くなる台形形状に形成されており、係合溝82も奥に向かうにつれて幅が狭くなる台形形状に形成されている。これによって、係合爪84の係合溝82への係合および離脱を容易に行うことができる。係合爪84が係合溝82に係合すると、メインプレート68の前方側は前方フレームプレート60aに対して左右方向の移動が禁止される。図7に示すように、係合溝82は、ウエハテーブル38が保持するウエハシートWのサイズに応じた位置に、複数形成されている。
図8に示すように、メインプレート68の下面側の後方には、後方フレームプレート60bの前面と当接する後方ブロック86と、後方ブロック86とばね88を介して連結した中間ブロック90が設けられている。中間ブロック90は、前方ブロック80と後方ブロック86の間の位置で、メインプレート68に対して固定されている。後方ブロック86は、メインプレート68に対して前後方向にスライド可能に支持されている。後方ブロック86には、後方フレームプレート60bの下面に重なるように伸びるフランジ92が形成されている。また、メインプレート68の下面側の後端には、後方フレームプレート60bの外側に形成された位置決め溝94と係合する位置決めピン96が固定されている。図8に示すように、位置決め溝94は、ウエハテーブル38が保持するウエハシートWのサイズに応じた位置に、複数形成されている。後方フレームプレート60bで位置決め溝94が形成されている位置と、前方フレームプレート60aで係合溝82が形成されている位置は、互いに対応している。
クランプ機構64をフレーム60に取り付けた状態では、ばね88は圧縮されており、後方ブロック86と中間ブロック90に、互いを離反する方向の弾性復元力が作用する。これによって、後方ブロック86は後方フレームプレート60bの前面に対して押し付けられるとともに、前方ブロック80は前方フレームプレート60aの後面に対して押し付けられる。これにより、係合爪84が係合溝82に確実に係合し、かつ位置決めピン96が位置決め溝94に確実に係合して、クランプ機構64がフレーム60に対してロックされる。
クランプ機構64をフレーム60に対して左右方向にスライドさせる場合には、まず、オペレータがメインプレート68を把持して、フレーム60に対してメインプレート68を後方に引き下げる。これにより、ばね88が圧縮して、メインプレート68全体が後方にスライドし、前方ブロック80の係合爪84が係合溝82から離脱するとともに、位置決めピン96が位置決め溝94から離脱する。この状態を維持したまま、オペレータがメインプレート68をフレーム60に対して左右方向にスライドさせる。所望の係合溝82および位置決め溝94の位置までメインプレート68が移動させられて、オペレータがメインプレート68を後方に引き下げる力を弱めると、ばね88の弾性復元力により、前方ブロック80の係合爪84が係合溝82に係合するとともに、位置決めピン96が位置決め溝94に係合する。これによって、クランプ機構64のフレーム60に対する左右方向の位置を、段階的に変更することができる。
なお、後方フレームプレート60bの下面側には、ガタツキ防止プレート98が設けられている。ガタツキ防止プレート98は、後方フレームプレート60bに対して、左右方向にわずかに(具体的には、位置決め溝94の幅よりも小さい範囲で)スライド可能に支持されている。ガタツキ防止プレート98には、位置決め溝94と略同じ形状のガイド溝100が形成されている。ガタツキ防止プレート98は、ばね102を介して、後方フレームプレート60bに固定されたブロック104に接続されている。ばね102は圧縮された状態で取り付けられており、ガタツキ防止プレート98を左右方向の外側に向けて付勢する。位置決めピン96が位置決め溝94に係合する際には、位置決めピン96がガイド溝100と当接しながら押し込まれて、ガタツキ防止プレート98はばね102からの付勢に抗して左右方向の内側にスライドする。位置決めピン96が位置決め溝94に係合した状態では、ばね102に付勢されたガタツキ防止プレート98によって、位置決めピン96が位置決め溝94に対して左右方向の外側に向けて押圧される。これによって、位置決めピン96の位置決め溝94内でのガタツキが防止される。
以上のように、本実施例によれば、オペレータが工具を用いることなく、クランプ機構の左右方向の位置を変更することができる。ウエハテーブル38のサイズ換え作業を、極めて容易に行うことができる。
本実施例によれば、どのようなサイズのウエハシートWについても、ウエハテーブル38に対して、前端中央を基準として位置決めがなされる。これにより、どのようなサイズのウエハシートWについても、実装機Mに最も近い位置で保持することができる。実装機Mの実装ヘッドHの移動距離を小さくすることができる。
なお、ウエハシートWとして、サイズの異なるウエハを同一のトレイ形状のウエハ保持板に装着することで、ウエハテーブル38のサイズを変更することなく、異なるサイズのウエハを扱うように構成することもできる。
本発明の代表的かつ非限定的な具体例について、図面を参照して詳細に説明した。この詳細な説明は、本発明の好ましい例を実施するための詳細を当業者に示すことを単純に意図しており、本発明の範囲を限定することを意図したものではない。また、開示された追加的な特徴ならびに発明は、さらに改善されたチップ供給装置を提供するために、他の特徴や発明とは別に、又は共に用いることができる。
また、上記の詳細な説明で開示された特徴や工程の組み合わせは、最も広い意味において本発明を実施する際に必須のものではなく、特に本発明の代表的な具体例を説明するためにのみ記載されるものである。さらに、上記の代表的な具体例の様々な特徴、ならびに、独立及び従属クレームに記載されるものの様々な特徴は、本発明の追加的かつ有用な実施形態を提供するにあたって、ここに記載される具体例のとおりに、あるいは列挙された順番のとおりに組合せなければならないものではない。
本明細書及び/又はクレームに記載された全ての特徴は、実施例及び/又はクレームに記載された特徴の構成とは別に、出願当初の開示ならびにクレームされた特定事項に対する限定として、個別に、かつ互いに独立して開示されることを意図するものである。さらに、全ての数値範囲及びグループ又は集団に関する記載は、出願当初の開示ならびにクレームされた特定事項に対する限定として、それらの中間の構成を開示する意図を持ってなされている。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。

Claims (5)

  1. 基板にチップを実装する実装機にチップを供給するチップ供給装置であり、
    実装機の作業ヘッドがチップを受け取ることが可能な位置で、ウエハシートを保持するウエハテーブルを備えており、
    ウエハテーブルが、
    フレームと、
    フレームの前部中央に固定されており、ウエハシートの前端と当接するストッパと、
    フレームに支持されており、ウエハシートの両側端をクランプする一対のクランプ機構を備えており、
    一対のクランプ機構のフレームに対する左右方向の位置が、多段階に変更可能であるチップ供給装置。
  2. フレームが、前方フレームプレートと、後方フレームプレートと、一対の側方フレームプレートを備えており、
    一対のクランプ機構のそれぞれが、前方フレームプレートと後方フレームプレートによって支持されており、
    一対のクランプ機構のそれぞれの前端近傍に前方係合部が形成されており、後端近傍に後方係合部が形成されており、
    前方フレームプレートに前方係合部と係合可能な前方被係合部が複数形成されており、
    前方被係合部の位置と対応する位置で、後方フレームプレートに後方係合部と係合可能な後方被係合部が複数形成されている請求項1のチップ供給装置。
  3. 一対のクランプ機構のそれぞれが、
    メインプレートと、
    前方フレームプレートの後面と当接する前方ブロックと、
    後方フレームプレートの前面と当接する後方ブロックと、
    前方ブロックと後方ブロックの間に配置されており、メインプレートに固定された中間ブロックを備えており、
    前方ブロックおよび後方ブロックの一方が、メインプレートに対して前後方向にスライド可能に支持されており、中間ブロックと弾性体を介して接続されており、
    前方ブロックおよび後方ブロックの他方が、メインプレートに対して固定されており、
    弾性体が圧縮される方向に、メインプレートをフレームに対して移動させることで、前方係合部と前方被係合部の係合が解除され、かつ後方係合部と後方被係合部の係合が解除される請求項2のチップ供給装置。
  4. 前方被係合部および後方被係合部の少なくとも一方に、弾性体を介してフレームに支持されたガタツキ防止プレートが設けられている請求項3のチップ供給装置。
  5. メインプレートの上面に、識別マークが設けられている請求項1から4の何れか一項のチップ供給装置。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9887111B2 (en) * 2014-03-24 2018-02-06 Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. Die mounting system and die mounting method
US9352471B1 (en) * 2015-01-21 2016-05-31 Applied Materials, Inc. Substrate gripper apparatus and methods
TW201714718A (zh) * 2015-10-21 2017-05-01 Els System Technology Co Ltd 定心裝置及具有該定心裝置的處理設備
CN106611737B (zh) * 2015-10-26 2020-11-10 北京北方华创微电子装备有限公司 一种压环装置
JP2017112227A (ja) * 2015-12-16 2017-06-22 株式会社ディスコ 加工装置
CN110164813B (zh) * 2019-04-22 2021-01-26 湖北华威科智能股份有限公司 一种适用于多尺寸规格的晶圆夹持进给装置
CN112687581B (zh) * 2020-12-10 2024-02-02 宁波市甬粤芯微电子科技有限公司 一种芯片光刻加工设备及芯片加工工艺

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07283293A (ja) * 1994-04-06 1995-10-27 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JP2005268274A (ja) * 2004-03-16 2005-09-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転テーブル機構
JP2011211055A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Lintec Corp エキスパンド装置
JP2012043930A (ja) * 2010-08-18 2012-03-01 Fuji Mach Mfg Co Ltd ウェハ供給装置およびチップボンディング装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5046909A (en) * 1989-06-29 1991-09-10 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for handling semiconductor wafers
IL119213A (en) * 1996-09-06 2000-08-31 Orbot Instr Ltd Universal chuck for holding plates of various sizes
US6986636B2 (en) * 2000-06-09 2006-01-17 Brooks Automation, Inc. Device for positioning disk-shaped objects
CN100337164C (zh) * 2002-12-06 2007-09-12 精工爱普生株式会社 成像装置
US7886449B2 (en) * 2007-02-20 2011-02-15 Electro Scientific Industries, Inc. Flexure guide bearing for short stroke stage
US8296937B2 (en) * 2008-08-19 2012-10-30 Silverbrook Research Pty Ltd Wafer positioning system
TW201013835A (en) * 2008-09-26 2010-04-01 Gudeng Prec Industral Co Ltd Sheet clamping apparatus
JP5410388B2 (ja) * 2010-09-02 2014-02-05 富士機械製造株式会社 チップ保持装置,チップ供給装置およびチップ搭載機
JP5582646B2 (ja) * 2010-11-04 2014-09-03 富士機械製造株式会社 部品実装機の廃棄テープ回収装置
US8567837B2 (en) * 2010-11-24 2013-10-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Reconfigurable guide pin design for centering wafers having different sizes

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07283293A (ja) * 1994-04-06 1995-10-27 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JP2005268274A (ja) * 2004-03-16 2005-09-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転テーブル機構
JP2011211055A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Lintec Corp エキスパンド装置
JP2012043930A (ja) * 2010-08-18 2012-03-01 Fuji Mach Mfg Co Ltd ウェハ供給装置およびチップボンディング装置

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