JP5964739B2 - Thermal head and thermal printer equipped with the same - Google Patents

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Description

本発明は、サーマルヘッドおよびこれを備えるサーマルプリンタに関する。   The present invention relates to a thermal head and a thermal printer including the same.

従来、ファクシミリあるいはビデオプリンタ等の印画デバイスとして、種々のサーマルヘッドが提案されている。例えば、基板と、基板上に設けられた複数の発熱部と、基板上に設けられており、一端部が発熱部と電気的に接続され、駆動ICに電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極とを備えたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, various thermal heads have been proposed as printing devices such as facsimiles and video printers. For example, a substrate, a plurality of heat generating portions provided on the substrate, and other connection terminals provided on the substrate, one end portion of which is electrically connected to the heat generating portion and electrically connected to the driving IC One having an individual electrode at the end is known (for example, see Patent Document 1).

特開昭63−128954号公報Japanese Patent Laid-Open No. 63-128954

近年、サーマルヘッドの小型化に伴って、サーマルヘッドに搭載される駆動ICの小型化が進んでおり、それに起因して、駆動ICの端子と電気的に接続される接続端子も小さくなっている。それにより、接続端子にめっき層を設けた場合に、接続端子の一部にめっき層が形成されない、いわゆるめっき未着が生じる可能性がある。   In recent years, along with miniaturization of thermal heads, drive ICs mounted on thermal heads have been miniaturized, and as a result, connection terminals electrically connected to the terminals of the drive ICs have also become smaller. . Thereby, when a plating layer is provided on the connection terminal, there is a possibility that a plating layer is not formed on a part of the connection terminal, so-called unplated.

本発明の一実施形態に係るサーマルヘッドは、基板と、該基板上に設けられた複数の発熱部と、前記基板上に設けられており、一端部が前記発熱部と電気的に接続され、駆動ICと電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極とを備えている。また、前記接続端子にめっき層が設けられているとともに、前記発熱部と前記接続端子との間に位置する前記個別電極における一部の領域に前記めっき層が設けられている。また、平面視して、前記領域に設けられた前記めっき層の面積が、前記接続端子に設けられた前記めっき層の面積よりも大きい。 A thermal head according to an embodiment of the present invention is provided with a substrate, a plurality of heat generating portions provided on the substrate, and the substrate, and one end portion is electrically connected to the heat generating portion, And an individual electrode having a connection terminal electrically connected to the drive IC at the other end. In addition, a plating layer is provided on the connection terminal, and the plating layer is provided in a partial region of the individual electrode located between the heat generating portion and the connection terminal. Further, in plan view, the area of the plating layer provided in the region is larger than the area of the plating layer provided in the connection terminal.

また、本発明の一実施形態に係るサーマルプリンタは、上記のいずれかに記載のサーマルヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、前記発熱部上に前記記録媒体を押圧するプラテンローラと、を備える。   A thermal printer according to an embodiment of the present invention, the thermal head according to any one of the above, a transport mechanism that transports a recording medium onto the heat generating portion, and presses the recording medium onto the heat generating portion. A platen roller.

本発明によれば、めっき未着が生じる可能性を低減することができる。   According to the present invention, it is possible to reduce the possibility of non-plating.

本発明のサーマルヘッドの一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of the thermal head of this invention. 図1のサーマルヘッドのI−I線断面図である。It is the II sectional view taken on the line of the thermal head of FIG. 図1に示すサーマルヘッドの駆動IC近傍の拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view near the drive IC of the thermal head shown in FIG. 1. 図3に示すII−II線断面図である。It is the II-II sectional view taken on the line shown in FIG. 本発明のサーマルプリンタの一実施形態の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of one Embodiment of the thermal printer of this invention. 本発明のサーマルヘッドの他の実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows other embodiment of the thermal head of this invention. 図6に示すサーマルヘッドの駆動IC近傍の拡大平面図である。FIG. 7 is an enlarged plan view in the vicinity of a driving IC of the thermal head shown in FIG. 6. 本発明のサーマルヘッドのさらに他の実施形態の駆動IC近傍の拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view of the vicinity of a drive IC of still another embodiment of the thermal head of the present invention. 本発明のサーマルヘッドのさらに他の実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows other embodiment of the thermal head of this invention. (a)は図9に示すIII−III線断面図、(b)はその変形例を示す拡大平面図である。(A) is the III-III sectional view taken on the line shown in FIG. 9, (b) is an enlarged plan view which shows the modification. 本発明のサーマルヘッドのさらに他の実施形態の駆動IC近傍の拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view of the vicinity of a drive IC of still another embodiment of the thermal head of the present invention.

<第1の実施形態>
以下、本発明のサーマルヘッドの一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図1,2に示すように、本実施形態のサーマルヘッドX1は、放熱体1と、放熱体1上に配置されたヘッド基体3と、ヘッド基体3に接続されたフレキシブルプリント配線板5(以下、FPC5という)とを備えている。なお、図1では、FPC5の図示を省略し、FPC5が配置される領域を一点鎖線で示す。
<First Embodiment>
Hereinafter, an embodiment of a thermal head of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the thermal head X <b> 1 of this embodiment includes a radiator 1, a head substrate 3 disposed on the radiator 1, and a flexible printed wiring board 5 connected to the head substrate 3 (hereinafter referred to as “head”). And FPC5). In FIG. 1, illustration of the FPC 5 is omitted, and a region where the FPC 5 is arranged is indicated by a one-dot chain line.

放熱体1は、板状に形成されており、平面視して長方形状を有している。放熱体1は、例えば、銅、鉄またはアルミニウム等の金属材料で形成されており、後述するようにヘッド基体3の発熱部9で発生した熱のうち、印画に寄与しない熱の一部を放熱する機能を有している。また、放熱体1の上面には、両面テープあるいは接着剤等(不図示)によってヘッド基体3が接着されている。   The radiator 1 is formed in a plate shape and has a rectangular shape in plan view. The radiator 1 is made of, for example, a metal material such as copper, iron, or aluminum, and radiates a part of the heat generated in the heat generating portion 9 of the head base 3 that does not contribute to printing as will be described later. It has a function to do. The head base 3 is bonded to the upper surface of the radiator 1 by a double-sided tape or an adhesive (not shown).

ヘッド基体3は、平面視で長方形状の基板7と、基板7上に設けられ、基板7の長手方向に沿って配列された複数の発熱部9と、発熱部9の配列方向に沿って基板7上に並べて配置された複数の駆動IC11とを備えている。   The head substrate 3 includes a rectangular substrate 7 in plan view, a plurality of heat generating portions 9 provided on the substrate 7 and arranged along the longitudinal direction of the substrate 7, and a substrate along the arrangement direction of the heat generating portions 9. 7 and a plurality of driving ICs 11 arranged side by side.

基板7は、アルミナセラミックス等の電気絶縁性材料あるいは単結晶シリコン等の半導体材料等によって形成されている。   The substrate 7 is formed of an electrically insulating material such as alumina ceramic or a semiconductor material such as single crystal silicon.

基板7の上面には、蓄熱層13が形成されている。蓄熱層13は、基板7の上面全体に形成された下地部13aと、複数の発熱部9の配列方向に沿って帯状に延び、断面が略半楕円形状の隆起部13bとを有している。隆起部13bは、印画する記録媒体を、発熱部9上に形成された後述する保護層25に良好に押し当てるように機能する。   A heat storage layer 13 is formed on the upper surface of the substrate 7. The heat storage layer 13 includes a base portion 13a formed on the entire top surface of the substrate 7, and a raised portion 13b extending in a band shape along the arrangement direction of the plurality of heat generating portions 9 and having a substantially semi-elliptical cross section. . The raised portion 13b functions to favorably press the recording medium to be printed onto a protective layer 25 (described later) formed on the heat generating portion 9.

また、蓄熱層13は、例えば、熱伝導性の低いガラスで形成されており、発熱部9で発生する熱の一部を一時的に蓄積することで、発熱部9の温度を上昇させるのに要する時間を短くし、サーマルヘッドX1の熱応答特性を高めるように機能する。蓄熱層13は、例えば、ガラス粉末に適当な有機溶剤を混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって基板7の上面に塗布し、これを焼成することで形成される。   In addition, the heat storage layer 13 is made of, for example, glass having low thermal conductivity, and temporarily accumulates part of the heat generated in the heat generating part 9 to increase the temperature of the heat generating part 9. It functions to shorten the time required and improve the thermal response characteristics of the thermal head X1. The heat storage layer 13 is formed, for example, by applying a predetermined glass paste obtained by mixing a glass powder with an appropriate organic solvent onto the upper surface of the substrate 7 by screen printing or the like known in the art, and baking it.

図2に示すように、蓄熱層13の上面には、電気抵抗層15が設けられている。電気抵抗層15は、蓄熱層13と、後述する共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21との間に介在し、図1に示すように、平面視において、これらの共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21と同形状の領域(以下、介在領域という)と、共通電極17と個別電極19との間から露出した複数の領域(以下、露出領域という)とを有している。なお、図1では、電気抵抗層15の介在領域は、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21で隠れている。   As shown in FIG. 2, an electrical resistance layer 15 is provided on the upper surface of the heat storage layer 13. The electrical resistance layer 15 is interposed between the heat storage layer 13 and a common electrode 17, an individual electrode 19 and an IC-FPC connection electrode 21 described later. As shown in FIG. A region having the same shape as the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 (hereinafter referred to as an intervening region) and a plurality of regions exposed from between the common electrode 17 and the individual electrode 19 (hereinafter referred to as an exposed region). Have. In FIG. 1, the intervening region of the electrical resistance layer 15 is hidden by the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21.

電気抵抗層15の各露出領域は、上記の発熱部9を形成している。そして、複数の露出領域が、図1に示すように、蓄熱層13の隆起部13b上に列状に配置されて発熱部9を構成している。複数の発熱部9は、説明の便宜上、図1で簡略化して記載しているが、例えば、600dpi〜2400dpi(dot per inch)等の密度で配置される。   Each exposed region of the electrical resistance layer 15 forms the heat generating portion 9 described above. As shown in FIG. 1, the plurality of exposed regions are arranged in a row on the raised portion 13 b of the heat storage layer 13 to constitute the heat generating portion 9. The plurality of heat generating portions 9 are illustrated in a simplified manner in FIG. 1 for convenience of explanation, but are arranged at a density of 600 dpi to 2400 dpi (dot per inch), for example.

電気抵抗層15は、例えば、TaN系、TaSiO系、TaSiNO系、TiSiO系
、TiSiCO系またはNbSiO系等の電気抵抗の比較的高い材料によって形成されている。そのため、後述する共通電極17と個別電極19との間に電圧が印加され、発熱部9に電圧が印加されたときに、ジュール発熱によって発熱部9が発熱する。
The electric resistance layer 15 is made of a material having a relatively high electric resistance, such as TaN, TaSiO, TaSiNO, TiSiO, TiSiCO, or NbSiO. Therefore, when a voltage is applied between the common electrode 17 and the individual electrode 19 which will be described later and a voltage is applied to the heat generating portion 9, the heat generating portion 9 generates heat due to Joule heat generation.

図1,2に示すように、電気抵抗層15の上面には、共通電極17、複数の個別電極19および複数のIC−FPC接続電極21が設けられている。これらの共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21は、導電性を有する材料で形成されており、例えば、アルミニウム、金、銀および銅のうちのいずれか一種の金属またはこれらの合金によって形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a common electrode 17, a plurality of individual electrodes 19, and a plurality of IC-FPC connection electrodes 21 are provided on the upper surface of the electrical resistance layer 15. The common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 are formed of a conductive material. For example, any one of aluminum, gold, silver, and copper, or an alloy thereof Is formed by.

共通電極17は、複数の発熱部9とFPC5とを接続するためのものである。図1に示すように、共通電極17は、基板7の一方の長辺に沿って延びる主配線部17aと、基板7の一方および他方の短辺のそれぞれに沿って延び、一端部が主配線部17aに接続された2つの副配線部17bと、主配線部17aから各発熱部9に向かって個別に延び、先端部が各発熱部9に接続された複数のリード部17cとを有している。そして、共通電極17は、副配線部17bの他端部がFPC5に接続されることにより、FPC5と各発熱部9との間を電気的に接続している。   The common electrode 17 is for connecting the plurality of heat generating portions 9 and the FPC 5. As shown in FIG. 1, the common electrode 17 extends along the main wiring portion 17a extending along one long side of the substrate 7 and one and the other short sides of the substrate 7, with one end portion being the main wiring. Two sub wiring parts 17b connected to the part 17a, and a plurality of lead parts 17c extending individually from the main wiring part 17a toward each heat generating part 9 and having tip portions connected to the heat generating parts 9. ing. The common electrode 17 is electrically connected between the FPC 5 and each heat generating portion 9 by connecting the other end portion of the sub wiring portion 17b to the FPC 5.

複数の個別電極19は、各発熱部9と駆動IC11とを接続するためのものである。図1,2に示すように、各個別電極19は、一端部が発熱部9に接続され、他端部が駆動IC11の配置領域に配置されるように、各発熱部9から駆動IC11の配置領域に向かって個別に帯状に延びている。そして、各個別電極19の他端部が駆動IC11に接続されることにより、各発熱部9と駆動IC11との間が電気的に接続されている。より詳細には、個別電極19は、複数の発熱部9を複数の群に分け、各群の発熱部9を、各群に対応して設けられた駆動IC11に電気的に接続している。また、他端部に駆動IC11と電気的に接続される接続端子4を有している。なお、以下、個別電極19に設けられた駆動IC11と接続される接続端子4を駆動IC用端子4と称する場合がある。   The plurality of individual electrodes 19 are for connecting each heat generating part 9 and the drive IC 11. As shown in FIGS. 1 and 2, each individual electrode 19 is arranged from each heat generating part 9 to the driving IC 11 so that one end is connected to the heat generating part 9 and the other end is arranged in the arrangement region of the driving IC 11. It individually extends in a strip shape toward the region. Then, the other end portion of each individual electrode 19 is connected to the drive IC 11, so that each heat generating portion 9 and the drive IC 11 are electrically connected. More specifically, the individual electrode 19 divides a plurality of heat generating portions 9 into a plurality of groups, and electrically connects the heat generating portions 9 of each group to a drive IC 11 provided corresponding to each group. In addition, the other end portion has a connection terminal 4 electrically connected to the drive IC 11. Hereinafter, the connection terminal 4 connected to the drive IC 11 provided on the individual electrode 19 may be referred to as a drive IC terminal 4.

なお、本実施形態では、上記のように共通電極17のリード部17cと個別電極19とが発熱部9に接続されており、リード部17cと個別電極19とが対向して配置されている。発熱部9に接続される電極配線が対になって形成されている。   In the present embodiment, the lead portion 17c and the individual electrode 19 of the common electrode 17 are connected to the heat generating portion 9 as described above, and the lead portion 17c and the individual electrode 19 are arranged to face each other. The electrode wirings connected to the heat generating part 9 are formed in pairs.

複数のIC−FPC接続電極21は、駆動IC11とFPC5とを接続するためのものであり、一端部および他端部に接続端子6,8が設けられている。なお、一端部に設けられた駆動IC11と電気的に接続するための接続端子6を駆動IC用端子6と称する場合があり、他端部に設けられたFPC5のプリント配線5bと電気的に接続するための接続端子8をFPC用端子8と称する場合がある。   The plurality of IC-FPC connection electrodes 21 are for connecting the driving IC 11 and the FPC 5, and connection terminals 6 and 8 are provided at one end and the other end. The connection terminal 6 for electrical connection with the drive IC 11 provided at one end may be referred to as the drive IC terminal 6 and is electrically connected with the printed wiring 5b of the FPC 5 provided at the other end. The connection terminal 8 for doing so may be referred to as an FPC terminal 8.

図1,2に示すように、各IC−FPC接続電極21は、一端部が駆動IC11の配置領域に配置され、他端部が基板7の他方の長辺の近傍に配置されるように、帯状に延びている。そして、複数のIC−FPC接続電極21は、一端部が駆動IC11に接続されるとともに、他端部がFPC5に接続されることにより、駆動IC11とFPC5との間を電気的に接続している。 各駆動IC11に接続された複数のIC−FPC接続電極21は、異なる機能を有する複数の配線で構成されている。具体的には、複数のIC−FPC接続電極21は、例えば、駆動IC11を動作させるための電源電流を供給するためのIC電源配線と、駆動IC11および駆動IC11に接続された個別電極19を0〜1Vのグランド電位に保持するためのグランド電極配線と、後述する駆動IC11内のスイッチング素子のオン・オフ状態を制御するように駆動IC11を動作させるための電気信号を供給するためのIC制御配線とで構成されている。そして、IC電源配線、グランド電極配線、およびIC制御配線は、図示しないが、駆動IC11側に駆動IC用端子6を備え
ている。
As shown in FIGS. 1 and 2, each IC-FPC connection electrode 21 is arranged such that one end is arranged in the arrangement region of the drive IC 11 and the other end is arranged in the vicinity of the other long side of the substrate 7. It extends in a band shape. The plurality of IC-FPC connection electrodes 21 have one end connected to the drive IC 11 and the other end connected to the FPC 5 to electrically connect the drive IC 11 and the FPC 5. . The plurality of IC-FPC connection electrodes 21 connected to each driving IC 11 are composed of a plurality of wirings having different functions. Specifically, the plurality of IC-FPC connection electrodes 21 include, for example, an IC power supply wiring for supplying a power supply current for operating the drive IC 11, and the drive IC 11 and the individual electrode 19 connected to the drive IC 11. A ground electrode wiring for holding a ground potential of ˜1 V and an IC control wiring for supplying an electric signal for operating the driving IC 11 so as to control an on / off state of a switching element in the driving IC 11 to be described later It consists of and. The IC power supply wiring, the ground electrode wiring, and the IC control wiring are provided with a drive IC terminal 6 on the drive IC 11 side, although not shown.

駆動IC11は、図1,2に示すように、複数の発熱部9の各群に対応して配置されているとともに、個別電極19の他端部とIC−FPC接続電極21の一端部とに接続されている。駆動IC11は、各発熱部9の通電状態を制御するためのものであり、内部に複数のスイッチング素子を有しており、各スイッチング素子がオン状態のときに通電状態となり、各スイッチング素子がオフ状態のときに不通電状態となる公知のものを用いることができる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the drive IC 11 is arranged corresponding to each group of the plurality of heat generating units 9, and is connected to the other end of the individual electrode 19 and one end of the IC-FPC connection electrode 21. It is connected. The drive IC 11 is for controlling the energization state of each heat generating part 9, and has a plurality of switching elements inside, and is energized when each switching element is on, and each switching element is off. A well-known thing which becomes a non-energized state at the time of a state can be used.

各駆動IC11は、各駆動IC11に接続された各個別電極19に対応するように、内部に複数のスイッチング素子(不図示)が設けられている。そして、図2に示すように、各駆動IC11は、各スイッチング素子(不図示)に接続された一方の端子11aが個別電極19に接続されており、各スイッチング素子に接続されている他方の端子11bがIC−FPC接続電極21の上記のグランド電極配線に接続されている。これにより、駆動IC11の各スイッチング素子がオン状態のときに、各スイッチング素子に接続された個別電極19とIC−FPC接続電極21のグランド電極配線とが電気的に接続される。   Each drive IC 11 is provided with a plurality of switching elements (not shown) therein so as to correspond to each individual electrode 19 connected to each drive IC 11. As shown in FIG. 2, each driving IC 11 has one terminal 11a connected to each switching element (not shown) connected to the individual electrode 19, and the other terminal connected to each switching element. 11 b is connected to the ground electrode wiring of the IC-FPC connection electrode 21. Thereby, when each switching element of the drive IC 11 is in the ON state, the individual electrode 19 connected to each switching element and the ground electrode wiring of the IC-FPC connection electrode 21 are electrically connected.

上記の電気抵抗層15、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21は、例えば、各々を構成する材料層を蓄熱層13上に、例えばスパッタリング法等の従来周知の薄膜成形技術によって順次積層した後、積層体を従来周知のフォトエッチング等を用いて所定のパターンに加工することにより形成される。なお、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21は、同じ工程によって同時に形成することができる。   The electric resistance layer 15, the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 are formed by, for example, forming a material layer on each of the heat storage layers 13 by a conventionally known thin film forming technique such as sputtering. After sequentially laminating, the laminated body is formed by processing into a predetermined pattern using a conventionally known photoetching or the like. In addition, the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 can be simultaneously formed by the same process.

図1,2に示すように、基板7の上面に形成された蓄熱層13上には、発熱部9、共通電極17の一部および個別電極19の一部を被覆する保護層25が形成されている。なお、図1では、説明の便宜上、保護層25の形成領域を一点鎖線で示し、これらの図示を省略している。図示例では、保護層25は、蓄熱層13の上面の左側の領域を覆うように設けられている。これにより、発熱部9、共通電極17の主配線部17a、副配線部17bの一部、リード部17cおよび個別電極19上に、保護層25が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a protective layer 25 is formed on the heat storage layer 13 formed on the upper surface of the substrate 7 to cover the heat generating portion 9, a part of the common electrode 17 and a part of the individual electrode 19. ing. In FIG. 1, for convenience of explanation, the formation region of the protective layer 25 is indicated by a one-dot chain line, and illustration of these is omitted. In the example of illustration, the protective layer 25 is provided so that the area | region on the left side of the upper surface of the thermal storage layer 13 may be covered. Thereby, the protective layer 25 is formed on the heat generating portion 9, the main wiring portion 17 a of the common electrode 17, a part of the sub wiring portion 17 b, the lead portion 17 c and the individual electrode 19.

保護層25は、発熱部9、共通電極17および個別電極19の被覆した領域を、大気中に含まれている水分等の付着による腐食、あるいは印画する記録媒体との接触による摩耗から保護するためのものである。保護層25は、SiN、SiO、SiON、SiC、あるいはダイヤモンドライクカーボン等を用いて形成することができ、保護層25を単層で構成してもよいし、これらの層を積層して構成してもよい。このような保護層25はスパッタリング法等の薄膜形成技術あるいはスクリーン印刷等の厚膜形成技術を用いて作製することができる。   The protective layer 25 protects the area covered with the heat generating portion 9, the common electrode 17 and the individual electrode 19 from corrosion due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere, or wear due to contact with the recording medium to be printed. belongs to. The protective layer 25 can be formed using SiN, SiO, SiON, SiC, diamond-like carbon, or the like. The protective layer 25 may be formed of a single layer or may be formed by stacking these layers. May be. Such a protective layer 25 can be produced using a thin film forming technique such as sputtering or a thick film forming technique such as screen printing.

また、図1,2に示すように、基板7の上面に形成された蓄熱層13上には、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21を部分的に被覆する被覆層27が設けられている。なお、図1では、説明の便宜上、被覆層27の形成領域を一点鎖線で示し、これらの図示を省略している。図示例では、被覆層27は、蓄熱層13の上面の保護層25よりも右側の領域を部分的に覆うように設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a covering layer 27 that partially covers the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 is formed on the heat storage layer 13 formed on the upper surface of the substrate 7. Is provided. In FIG. 1, for convenience of explanation, the formation region of the coating layer 27 is indicated by a one-dot chain line, and illustration thereof is omitted. In the illustrated example, the coating layer 27 is provided so as to partially cover a region on the right side of the protective layer 25 on the upper surface of the heat storage layer 13.

被覆層27は、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21の被覆した領域を、大気との接触による酸化、あるいは大気中に含まれている水分等の付着による腐食から保護するためのものである。なお、被覆層27は、共通電極17および個別電極19の保護をより確実にするため、図2に示すように保護層25の端部に重なるようにして形成されている。被覆層27は、例えば、エポキシ樹脂、あるいはポリイミド樹脂等の
樹脂材料で形成することができる。また、被覆層27は、例えば、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。
The covering layer 27 protects the region covered with the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 from oxidation due to contact with the atmosphere or corrosion due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere. belongs to. The covering layer 27 is formed so as to overlap the end portion of the protective layer 25 as shown in FIG. 2 in order to ensure the protection of the common electrode 17 and the individual electrode 19. The covering layer 27 can be formed of a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin, for example. The covering layer 27 can be formed using a thick film forming technique such as a screen printing method.

なお、図1,2に示すように、後述するFPC5を接続する共通電極17の副配線部17bおよびIC−FPC接続電極21の端部は、被覆層27から露出しており、FPC5が接続されるように構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the sub-wiring portion 17b of the common electrode 17 and the end of the IC-FPC connection electrode 21 connecting the FPC 5 described later are exposed from the coating layer 27, and the FPC 5 is connected. It is comprised so that.

また、被覆層27は、駆動IC11と接続される個別電極19の駆動IC用端子4およびIC−FPC接続電極21の駆動IC用端子6を露出させるための開口部(不図示)が形成されており、開口部を介してこれらの配線が駆動IC11に接続されている。また、駆動IC11は、個別電極19およびIC−FPC接続電極21に接続された状態で、駆動IC11自体の保護、および駆動IC11とこれらの配線との接続部の保護のため、エポキシ樹脂あるいはシリコーン樹脂等の樹脂からなる被覆部材29によって被覆されることで封止されている。   The covering layer 27 has openings (not shown) for exposing the drive IC terminals 4 of the individual electrodes 19 connected to the drive IC 11 and the drive IC terminals 6 of the IC-FPC connection electrodes 21. These wirings are connected to the driving IC 11 through the opening. In addition, the drive IC 11 is connected to the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 to protect the drive IC 11 itself and to protect the connection portion between the drive IC 11 and these wirings. It is sealed by being covered with a covering member 29 made of resin.

FPC5は、図1,2に示すように、基板7の長手方向に沿って延びており、上記のように共通電極17の副配線部17bおよび各IC−FPC接続電極21に接続されている。FPC5は、絶縁性の樹脂層の内部に複数のプリント配線が配線された周知のものであり、各プリント配線がコネクタ31を介して外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されるようになっている。このようなプリント配線は、一般に、例えば、銅箔等の金属箔、薄膜成形技術によって形成された導電性薄膜、または厚膜印刷技術によって形成された導電性厚膜によって形成されている。また、金属箔、あるいは導電性薄膜等によって形成されたプリント配線は、例えば、これらをフォトエッチング等により部分的にエッチングすることによってパターニングされている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the FPC 5 extends along the longitudinal direction of the substrate 7 and is connected to the sub-wiring portion 17 b of the common electrode 17 and each IC-FPC connection electrode 21 as described above. The FPC 5 is a well-known one in which a plurality of printed wirings are wired inside an insulating resin layer, and each printed wiring is electrically connected to an external power supply device, a control device, or the like via a connector 31. It has become. Such a printed wiring is generally formed of, for example, a metal foil such as a copper foil, a conductive thin film formed by a thin film forming technique, or a conductive thick film formed by a thick film printing technique. Moreover, the printed wiring formed by metal foil or a conductive thin film is patterned by, for example, partially etching these by photoetching or the like.

より詳細には、図1,2に示すように、FPC5は、絶縁性の樹脂層5aの内部に形成された各プリント配線5bがヘッド基体3側の端部で露出し、導電性接合材料である半田材料、または電気絶縁性の樹脂中に導電性粒子が混入された異方性導電材料(ACF)等からなる接合材32(図2参照)によって、共通電極17の副配線部17bの端部および各IC−FPC接続電極21の端部に接続されている。   More specifically, as shown in FIGS. 1 and 2, the FPC 5 is made of a conductive bonding material in which each printed wiring 5b formed inside the insulating resin layer 5a is exposed at the end on the head base 3 side. An end of the sub-wiring portion 17b of the common electrode 17 is formed by a bonding material 32 (see FIG. 2) made of a certain solder material or anisotropic conductive material (ACF) in which conductive particles are mixed in an electrically insulating resin. And the end of each IC-FPC connection electrode 21.

そして、FPC5の各プリント配線5bがコネクタ31を介して図示しない外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されると、共通電極17は、20〜24Vの正電位に保持された電源装置のプラス側端子に電気的に接続され、個別電極19は、駆動IC11およびIC−FPC接続電極21のグランド電極配線を介して、0〜1Vのグランド電位に保持された電源装置のマイナス側端子に電気的に接続されるようになっている。そのため、駆動IC11のスイッチング素子がオン状態のとき、発熱部9に電圧が印加され、発熱部9が発熱するようになっている。   When each printed wiring 5b of the FPC 5 is electrically connected to an external power supply device and control device (not shown) via the connector 31, the common electrode 17 is held at a positive potential of 20 to 24V. The individual electrode 19 is electrically connected to the negative terminal of the power supply device held at the ground potential of 0 to 1 V via the ground electrode wiring of the drive IC 11 and the IC-FPC connection electrode 21. It is designed to be electrically connected. For this reason, when the switching element of the driving IC 11 is in the on state, a voltage is applied to the heat generating portion 9 and the heat generating portion 9 generates heat.

また、同様に、FPC5の各プリント配線5bがコネクタ31を介して外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されると、IC−FPC接続電極21の上記のIC電源配線は、共通電極17と同様、正電位に保持された電源装置のプラス側端子に電気的に接続されるようになっている。これにより、駆動IC11が接続されたIC−FPC接続電極21のIC電源配線とグランド電極配線との電位差によって、駆動IC11に駆動IC11を動作させるための電源電流が供給される。また、IC−FPC接続電極21の上記のIC制御配線は、駆動IC11の制御を行う外部の制御装置に電気的に接続される。これにより、制御装置から送信された電気信号が駆動IC11に供給されるようになっている。電気信号によって、駆動IC11内の各スイッチング素子のオン・オフ状態を制御するように駆動IC11を動作させることで、各発熱部9を選択的に発熱させることができる。   Similarly, when each printed wiring 5b of the FPC 5 is electrically connected to an external power supply device, a control device or the like via the connector 31, the IC power supply wiring of the IC-FPC connection electrode 21 is a common electrode. As in FIG. 17, it is electrically connected to the positive terminal of the power supply device held at a positive potential. As a result, the power supply current for operating the drive IC 11 is supplied to the drive IC 11 by the potential difference between the IC power supply wiring and the ground electrode wiring of the IC-FPC connection electrode 21 to which the drive IC 11 is connected. The IC control wiring of the IC-FPC connection electrode 21 is electrically connected to an external control device that controls the driving IC 11. As a result, the electrical signal transmitted from the control device is supplied to the drive IC 11. By operating the drive IC 11 so as to control the on / off state of each switching element in the drive IC 11 by an electrical signal, each heat generating portion 9 can be selectively heated.

FPC5と放熱体1との間には、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂またはガラスエポキシ樹脂等の樹脂からなる補強板33が設けられている。補強板33は、FPC5の下面に両面テープあるいは接着剤等(不図示)によって接着されることにより、FPC5を補強するように機能している。また、補強板33が放熱体1の上面に両面テープあるいは接着剤等(不図示)によって接着されることにより、FPC5が放熱体1上に固定されている。   A reinforcing plate 33 made of a resin such as a phenol resin, a polyimide resin, or a glass epoxy resin is provided between the FPC 5 and the radiator 1. The reinforcing plate 33 functions to reinforce the FPC 5 by being bonded to the lower surface of the FPC 5 with a double-sided tape or an adhesive (not shown). Further, the FPC 5 is fixed on the radiator 1 by bonding the reinforcing plate 33 to the upper surface of the radiator 1 with a double-sided tape or an adhesive (not shown).

以下、図3,4を用いて、めっき層2,10について説明する。図3は、駆動IC11の近傍を拡大して示す拡大平面図であり、図4は、図3に示すII−II線断面図である。なお、図4において被覆層および被覆部材は省略して示している。   Hereinafter, the plating layers 2 and 10 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is an enlarged plan view showing the vicinity of the drive IC 11 in an enlarged manner, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line II-II shown in FIG. In FIG. 4, the covering layer and the covering member are omitted.

めっき層2は、個別電極19の駆動IC用端子4近傍の領域に設けられている。めっき層10は、個別電極19の駆動IC用端子4と、IC−FPC接続電極21の駆動IC用端子6と、IC−FPC接続電極21のFPC用端子8とに設けられている。そして、めっき層10を介して、個別電極19およびIC−FPC接続電極21と、駆動IC11とが電気的に接続されており、IC−FPC接続電極21と、FPC5とが電気的に接続されている。なお、駆動IC用端子4,6の全面にわたってめっき層10が設けられているため、平面視したときに、駆動IC用端子4,6はめっき層10により隠されている。   The plating layer 2 is provided in a region near the drive IC terminal 4 of the individual electrode 19. The plating layer 10 is provided on the drive IC terminal 4 of the individual electrode 19, the drive IC terminal 6 of the IC-FPC connection electrode 21, and the FPC terminal 8 of the IC-FPC connection electrode 21. The individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 and the drive IC 11 are electrically connected via the plating layer 10, and the IC-FPC connection electrode 21 and the FPC 5 are electrically connected. Yes. Since the plating layer 10 is provided over the entire surface of the drive IC terminals 4 and 6, the drive IC terminals 4 and 6 are hidden by the plating layer 10 when viewed in plan.

ここで、サーマルヘッドは、小型化の要求のもと駆動ICの小型化および高密度化が進んでおり、それに伴って、個別電極に設けられた駆動IC用端子が小さくなっており、駆動IC用端子にめっき層を形成した場合に、個別電極に対してめっきをする領域である駆動IC用端子の面積が小さく、めっき未着が生じる場合があった。   Here, in the thermal head, miniaturization and high density of the driving IC are progressing in response to a demand for miniaturization, and accordingly, the terminal for the driving IC provided on the individual electrode is reduced. When the plating layer is formed on the terminal for use, there is a case where the area of the terminal for driving IC which is a region where the individual electrode is plated is small and plating is not deposited.

これに対して、本実施形態に係るサーマルヘッドX1は、個別電極19における、駆動IC用端子4にめっき層10が設けられているとともに、発熱部9と駆動IC用端子4との間に位置する領域にめっき層2が設けられている。そして、平面視して、個別電極19に設けられためっき層2の面積が、駆動IC用端子4に設けられためっき層10の面積よりも大きい構成となっている。そのため、面積の小さい駆動IC用端子4と電気的に導通している個別電極19上にめっき層2が設けられることとなる。それゆえ、電気的に独立した各個別電極19の面積に対するめっき層2,10の面積を大きくすることができ、各個別電極19にめっき未着が生じる可能性を低減することができる。   On the other hand, in the thermal head X1 according to this embodiment, the plating layer 10 is provided on the drive IC terminal 4 in the individual electrode 19, and the thermal head X1 is positioned between the heat generating portion 9 and the drive IC terminal 4. The plating layer 2 is provided in the area to be performed. In plan view, the area of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19 is larger than the area of the plating layer 10 provided on the drive IC terminal 4. Therefore, the plating layer 2 is provided on the individual electrode 19 that is electrically connected to the drive IC terminal 4 having a small area. Therefore, it is possible to increase the area of the plating layers 2 and 10 with respect to the area of each individual electrode 19 that is electrically independent, and to reduce the possibility that plating is not deposited on each individual electrode 19.

面積の大きいめっき層2と、面積の小さいめっき層10とを電気的に接続すると、理由は明確ではないが、以下の現象により面積の小さいめっき層10のめっき未着が抑制できると考えられる。   If the plating layer 2 having a large area and the plating layer 10 having a small area are electrically connected, the reason is not clear, but it is considered that the non-plating of the plating layer 10 having a small area can be suppressed by the following phenomenon.

無電解めっき反応では、めっきされる領域である駆動IC用端子4、およびめっき層2に対応する個別電極19の領域に電子が生成される。そして生成された電子によりめっきが成長してめっきされることとなる。めっき層2に対応する個別電極19の領域には、面積に比例して多くの電子が生成されることとなる。   In the electroless plating reaction, electrons are generated in the regions of the drive IC terminals 4 and the individual electrodes 19 corresponding to the plating layer 2 that are the regions to be plated. Then, plating is grown and plated by the generated electrons. In the region of the individual electrode 19 corresponding to the plating layer 2, many electrons are generated in proportion to the area.

駆動IC用端子4およびめっき層2に対応する個別電極19の領域は、同じ個別電極19上に設けられているため、電気的に導通しており、めっき層2に対応する個別電極19の領域にて生成された電子が、駆動IC用端子4に流れることとなる。そのため、駆動IC用端子4に電子が供給さることとなり、めっき層10が形成され、駆動IC用端子4にめっき未着が生じる可能性を低減することとなる。   Since the region of the individual electrode 19 corresponding to the drive IC terminal 4 and the plating layer 2 is provided on the same individual electrode 19, the region of the individual electrode 19 corresponding to the plating layer 2 is electrically conductive. The electrons generated in the above flow into the driving IC terminal 4. For this reason, electrons are supplied to the drive IC terminal 4, the plating layer 10 is formed, and the possibility that the plating is not deposited on the drive IC terminal 4 is reduced.

また、個別電極19にめっき層2が設けられていることから、サーマルヘッドX1の作
製時あるいは組み立て時等に被覆層27が欠落した場合においても、個別電極19が露出する可能性を低減することができる。それにより、個別電極19に破損が生じる可能性を低減することができる。
In addition, since the plating layer 2 is provided on the individual electrode 19, the possibility that the individual electrode 19 is exposed even when the coating layer 27 is missing when the thermal head X1 is manufactured or assembled is reduced. Can do. As a result, the possibility that the individual electrode 19 is damaged can be reduced.

さらに、めっき層2が、駆動IC用端子4近傍に設けられていることから、被覆層27が欠落する可能性の高い駆動IC11を搭載する工程において、被覆層27が欠落した場合においても、個別電極19が露出する可能性を低減することができる。なお、めっき層2が駆動IC用端子4の近傍に配置されているとは、例えば、めっき層2が駆動IC用端子4から0.01〜1mm程度離間した状態で配置されていることを示す。   Further, since the plating layer 2 is provided in the vicinity of the drive IC terminal 4, even when the cover layer 27 is missing in the process of mounting the drive IC 11 with a high possibility that the cover layer 27 is missing, The possibility that the electrode 19 is exposed can be reduced. The plating layer 2 being disposed in the vicinity of the drive IC terminal 4 indicates, for example, that the plating layer 2 is disposed at a distance of about 0.01 to 1 mm from the drive IC terminal 4. .

また、サーマルヘッドX1は、図3に示すように、平面視して、個別電極19に設けられためっき層2の面積が、駆動IC用端子4に設けられためっき層10の面積よりも大きい構成となっている。それにより、めっき層10にて必要な無電解めっきを行う際に生じる電子の生成量を、めっき層2に対応する個別電極19の領域にて確保することができる。そのため、駆動IC用端子4に十分な量の電子が供給されることとなり、駆動IC用端子4にめっき未着が生じる可能性を低減することができる。   Further, in the thermal head X1, as shown in FIG. 3, the area of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19 is larger than the area of the plating layer 10 provided on the drive IC terminal 4 in plan view. It has a configuration. Thereby, the amount of electrons generated when the electroless plating necessary for the plating layer 10 is performed can be ensured in the region of the individual electrode 19 corresponding to the plating layer 2. Therefore, a sufficient amount of electrons is supplied to the drive IC terminal 4, and the possibility that plating is not deposited on the drive IC terminal 4 can be reduced.

平面視して、個別電極19に設けられためっき層2の面積は、個別電極19に設けられためっき層10の面積の5〜100倍あることが好ましい。それにより、駆動IC用端子4にめっき未着が生じる可能性をさらに低減することができる。   In plan view, the area of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19 is preferably 5 to 100 times the area of the plating layer 10 provided on the individual electrode 19. As a result, the possibility of unplated plating on the drive IC terminals 4 can be further reduced.

また、サーマルヘッドX1は、図4に示すように、駆動IC用端子4に設けられためっき層10の厚みW2が、個別電極19に設けられためっき層2の厚みW1よりも大きい構成となっている。そのため、駆動IC11の第1接続端子11aとめっき層10との接続信頼性を向上させることができる。同様に、IC−FPC接続電極21の駆動IC用端子6に設けられためっき層10の厚みW3が、個別電極19に設けられためっき層2の厚みW1よりも大きいため、駆動IC11の第2接続端子11bとめっき層10との接続信頼性を向上させることができる。さらにまた、IC−FPC接続電極21のFPC用端子4に設けられためっき層10の厚みW4が、個別電極19に設けられためっき層2の厚みW1よりも大きいため、FPC5のプリント配線5b(図2参照)とめっき層10との接続信頼性を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 4, the thermal head X <b> 1 has a configuration in which the thickness W <b> 2 of the plating layer 10 provided on the drive IC terminal 4 is larger than the thickness W <b> 1 of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19. ing. Therefore, the connection reliability between the first connection terminal 11a of the driving IC 11 and the plating layer 10 can be improved. Similarly, since the thickness W3 of the plating layer 10 provided on the driving IC terminal 6 of the IC-FPC connection electrode 21 is larger than the thickness W1 of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19, the second of the driving IC 11 is used. The connection reliability between the connection terminal 11b and the plating layer 10 can be improved. Furthermore, since the thickness W4 of the plating layer 10 provided on the FPC terminal 4 of the IC-FPC connection electrode 21 is larger than the thickness W1 of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19, the printed wiring 5b ( Connection reliability between the plating layer 10 and the plating layer 10 can be improved.

めっき層2の厚みW1は、1.5〜3.0μmであることが好ましく、めっき層10の厚みW2,W3,W4は、2.0〜3.5μmであることが好ましい。   The thickness W1 of the plating layer 2 is preferably 1.5 to 3.0 μm, and the thicknesses W2, W3 and W4 of the plating layer 10 are preferably 2.0 to 3.5 μm.

めっき層2,10は、Ni、あるいはNiおよびAuにより形成することができる。めっき層2,10は、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21を所定のパターンに加工した後、共通電極17、個別電極19のめっき層2が設けられる領域である駆動IC用端子4,6およびFPC用端子8が露出した状態で、めっき液である硝酸亜鉛溶液に所定時間浸漬することにより、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21に含有されるAlの一部をZnで置換し、置換されたZnを触媒とした無電解Niめっきを行うことにより形成することができる。なお、めっき液に浸漬させる時間を長くすることにより、めっき層2、10の厚みを調整することができ、所定時間めっき液に浸漬させた後、めっき層10のみ露出した状態で、再度めっき液に浸漬させることにより、めっき層10の厚みW2,W3,W4をめっき層2の厚みW1よりも大きくすることができる。   The plating layers 2 and 10 can be formed of Ni or Ni and Au. The plated layers 2 and 10 are regions for driving ICs in which the plated layer 2 of the common electrode 17 and the individual electrode 19 is provided after the common electrode 17, the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 are processed into a predetermined pattern. In a state where the terminals 4 and 6 and the FPC terminal 8 are exposed, it is immersed in a zinc nitrate solution as a plating solution for a predetermined time, so that the Al contained in the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 can be obtained. It can be formed by replacing a part with Zn and performing electroless Ni plating using the substituted Zn as a catalyst. In addition, it is possible to adjust the thickness of the plating layers 2 and 10 by increasing the time of dipping in the plating solution. After dipping in the plating solution for a predetermined time, only the plating layer 10 is exposed and the plating solution is exposed again. The thickness W2, W3, and W4 of the plating layer 10 can be made larger than the thickness W1 of the plating layer 2 by immersing in plating.

また、めっき層2が、発熱部9の配列方向に沿って一列に形成されていることから、無電解めっきをする際に設けるマスクの形状を、一直線上に露出した形状とすることができ、マスク工程を簡易なものとすることができる。   Moreover, since the plating layer 2 is formed in a line along the arrangement direction of the heat generating portions 9, the shape of the mask provided when performing electroless plating can be a shape exposed on a straight line, The mask process can be simplified.

次に、本発明のサーマルプリンタの一実施形態について、図5を参照しつつ説明する。図5は、本実施形態のサーマルプリンタZの概略構成図である。   Next, an embodiment of the thermal printer of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the thermal printer Z of the present embodiment.

図5に示すように、本実施形態のサーマルプリンタZは、上述のサーマルヘッドX1、搬送機構40、プラテンローラ50、電源装置60および制御装置70を備えている。サーマルヘッドX1は、サーマルプリンタZの筐体(不図示)に設けられた取付部材80の取付面80aに取り付けられている。なお、サーマルヘッドX1は、発熱部9の配列方向が、後述する記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向である主走査方向に沿うようにして、取付部材80に取り付けられている。   As shown in FIG. 5, the thermal printer Z of the present embodiment includes the thermal head X <b> 1, the transport mechanism 40, the platen roller 50, the power supply device 60, and the control device 70 described above. The thermal head X1 is attached to an attachment surface 80a of an attachment member 80 provided in a housing (not shown) of the thermal printer Z. The thermal head X1 is attached to the attachment member 80 so that the arrangement direction of the heat generating portions 9 is along a main scanning direction which is a direction orthogonal to the conveyance direction S of the recording medium P described later.

搬送機構40は、感熱紙、インクが転写される受像紙等の記録媒体Pを図5の矢印S方向に搬送して、サーマルヘッドX1の複数の発熱部9上に位置する保護層25上に搬送するためのものであり、搬送ローラ43,45,47,49を有している。搬送ローラ43,45,47,49は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体43a,45a,47a,49aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材43b,45b,47b,49bにより被覆して構成することができる。なお、図示しないが、記録媒体Pがインクが転写される受像紙等の場合は、記録媒体PとサーマルヘッドX1の発熱部9との間に、記録媒体Pとともにインクフィルムを搬送するようになっている。   The transport mechanism 40 transports a recording medium P such as thermal paper or image receiving paper onto which ink is transferred in the direction of arrow S in FIG. 5 and on the protective layer 25 positioned on the plurality of heat generating portions 9 of the thermal head X1. It is for conveying and has conveying rollers 43, 45, 47, and 49. The transport rollers 43, 45, 47, and 49 are formed by, for example, covering cylindrical shaft bodies 43a, 45a, 47a, and 49a made of metal such as stainless steel with elastic members 43b, 45b, 47b, and 49b made of butadiene rubber or the like. Can be configured. Although not shown, when the recording medium P is an image receiving paper to which ink is transferred, an ink film is conveyed together with the recording medium P between the recording medium P and the heat generating portion 9 of the thermal head X1. Yes.

プラテンローラ50は、記録媒体PをサーマルヘッドX1の発熱部9上に押圧するためのものであり、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向に沿って延びるように配置され、記録媒体Pを発熱部9上に押圧した状態で回転可能となるように両端部が支持されている。プラテンローラ50は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体50aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材50bにより被覆して構成することができる。   The platen roller 50 is for pressing the recording medium P onto the heat generating portion 9 of the thermal head X1, and is disposed so as to extend along a direction orthogonal to the conveyance direction S of the recording medium P. Both ends are supported so as to be rotatable while being pressed on the heat generating portion 9. The platen roller 50 can be configured by, for example, covering a cylindrical shaft body 50a made of metal such as stainless steel with an elastic member 50b made of butadiene rubber or the like.

電源装置60は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を発熱させるための電流および駆動IC11を動作させるための電流を供給するためのものである。制御装置70は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を選択的に発熱させるために、駆動IC11の動作を制御する制御信号を駆動IC11に供給するためのものである。   The power supply device 60 is for supplying a current for generating heat from the heat generating portion 9 of the thermal head X1 and a current for operating the drive IC 11 as described above. The control device 70 is for supplying a control signal for controlling the operation of the drive IC 11 to the drive IC 11 in order to selectively generate heat in the heat generating portion 9 of the thermal head X1 as described above.

本実施形態のサーマルプリンタZは、図5に示すように、プラテンローラ50によって記録媒体をサーマルヘッドX1の発熱部9上に押圧しつつ、搬送機構40によって記録媒体Pを発熱部9上に搬送しながら、電源装置60および制御装置70によって発熱部9を選択的に発熱させることで、記録媒体Pに所定の印画を行うことができる。なお、記録媒体Pが受像紙等の場合は、記録媒体Pとともに搬送されるインクフィルム(不図示)のインクを記録媒体Pに熱転写することによって、記録媒体Pへの印画を行うことができる。   As shown in FIG. 5, the thermal printer Z of the present embodiment conveys the recording medium P onto the heat generating portion 9 by the transport mechanism 40 while pressing the recording medium onto the heat generating portion 9 of the thermal head X1 by the platen roller 50. However, it is possible to perform predetermined printing on the recording medium P by selectively causing the heat generating unit 9 to generate heat by the power supply device 60 and the control device 70. When the recording medium P is an image receiving paper or the like, printing on the recording medium P can be performed by thermally transferring ink of an ink film (not shown) conveyed together with the recording medium P to the recording medium P.

<第2の実施形態>
図6,7を用いて第2の実施形態に係るサーマルヘッドX2について説明する。サーマルヘッドX2は、隣接する駆動IC11間を電気的に接続するIC接続電極23を備えている点でサーマルヘッドX1と異なり、その他の点は同様である。なお、同一の部材については、同一の符号を付するものとし、以下同様とする。
<Second Embodiment>
A thermal head X2 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. The thermal head X2 is different from the thermal head X1 in that it includes an IC connection electrode 23 that electrically connects adjacent drive ICs 11, and the other points are the same. In addition, about the same member, the same code | symbol shall be attached | subjected and so on.

サーマルヘッドX2は、共通電極17と、個別電極19と、IC−FPC接続電極21と、IC接続電極23とを備えている。   The thermal head X <b> 2 includes a common electrode 17, an individual electrode 19, an IC-FPC connection electrode 21, and an IC connection electrode 23.

IC接続電極23は、隣接する駆動IC11を電気的に接続するためのものであり、図6,7に示すように、IC電源配線23aとIC信号配線23bとを備えている。IC電源配線23aは、基板7の長手方向の両端部で基板7の右側の長辺の近傍に配置された端
部電源配線部23aEと、隣接する駆動IC11間に配置された中間電源配線部23aMとを有している。また、IC接続電極23は、一端部および他端部に、駆動IC11の端子(不図示)に接続される駆動IC用端子4を有している。
The IC connection electrode 23 is for electrically connecting adjacent drive ICs 11 and includes an IC power supply wiring 23a and an IC signal wiring 23b as shown in FIGS. The IC power supply wiring 23a is provided at both ends in the longitudinal direction of the substrate 7 at the end power supply wiring portion 23aE disposed near the right long side of the substrate 7 and the intermediate power supply wiring portion 23aM disposed between the adjacent drive ICs 11. And have. The IC connection electrode 23 has a drive IC terminal 4 connected to a terminal (not shown) of the drive IC 11 at one end and the other end.

図6に示すように、端部電源配線部23aEは、一端部が駆動IC11の配置領域に配置され、IC−FPC接続電極21の周囲を回り込むようにして、他端部が基板7の右側の長辺の近傍に配置されている。端部電源配線部23aEは、一端部が駆動IC11に接続されているとともに、他端部がFPC5に接続されている。これにより、駆動IC11とFPC5との間が電気的に接続されている。   As shown in FIG. 6, the end power supply wiring portion 23 a </ i> E has one end portion disposed in the region where the drive IC 11 is disposed, wraps around the IC-FPC connection electrode 21, and the other end portion on the right side of the substrate 7. It is arranged near the long side. The end power supply wiring portion 23aE has one end connected to the drive IC 11 and the other end connected to the FPC 5. Thereby, the drive IC 11 and the FPC 5 are electrically connected.

中間電源配線部23aMは、一端部が隣接する駆動IC11の一方の配置領域に配置され、他端部が隣接する駆動IC11の他方の配置領域に配置されている。中間電源配線部23aMは、一端部が隣接する駆動IC11の一方に接続され、他端部が隣接する駆動IC11の他方に接続されている。これにより、駆動IC11とFPC5との間が電気的に接続されている。   The intermediate power supply wiring portion 23aM is arranged in one arrangement region of the adjacent driving IC 11 with one end portion and arranged in the other arrangement region of the adjacent driving IC 11 in the other end portion. The intermediate power supply wiring portion 23aM has one end connected to one of the adjacent drive ICs 11 and the other end connected to the other of the adjacent drive ICs 11. Thereby, the drive IC 11 and the FPC 5 are electrically connected.

端部電源配線部23aEと中間電源配線部23aMとは、これらの双方が接続された駆動IC11の内部で電気的に接続されている。また、隣接する中間電源配線部23aM同士は、これらの双方が接続された駆動IC11の内部で電気的に接続されている。   The end power supply wiring portion 23aE and the intermediate power supply wiring portion 23aM are electrically connected inside the drive IC 11 to which both of them are connected. The adjacent intermediate power supply wiring portions 23aM are electrically connected inside the drive IC 11 to which both of them are connected.

このように、IC電源配線23aを各駆動IC11と接続することにより、IC電源配線23aが各駆動IC11とFPC5との間を電気的に接続している。これにより、後述するようにFPC5から端部電源配線部23aEおよび中間電源配線部23aMを介して各駆動IC11に電流を供給する。   Thus, by connecting the IC power supply wiring 23a to each drive IC 11, the IC power supply wiring 23a electrically connects each drive IC 11 and the FPC 5. Thereby, as will be described later, a current is supplied from the FPC 5 to each drive IC 11 via the end power supply wiring portion 23aE and the intermediate power supply wiring portion 23aM.

IC信号配線23bは、図6,7に示すように、基板7の長手方向の両端部で基板7の右側の長辺の近傍に配置された端部信号配線部23bEと、隣接する駆動IC11間に配置された中間信号配線部23bMとを有している。   As shown in FIGS. 6 and 7, the IC signal wiring 23 b is connected between the end signal wiring portion 23 b E arranged in the vicinity of the long side on the right side of the substrate 7 at both ends in the longitudinal direction of the substrate 7 and the adjacent driving IC 11. And an intermediate signal wiring portion 23bM.

図7に示すように、端部信号配線部23bEは、端部電源配線部23aEと同様、一端部が駆動IC11の配置領域に配置され、IC−FPC接続電極21の周囲を回り込むようにして、他端部が基板7の右側の長辺の近傍に配置されている。端部信号配線部23bEは、一端部が駆動IC11に接続されているとともに、他端部がFPC5に接続されている。   As shown in FIG. 7, the end signal wiring portion 23bE is arranged in the region where the driving IC 11 is disposed and the periphery of the IC-FPC connection electrode 21 is arranged like the end power supply wiring portion 23aE. The other end is arranged in the vicinity of the long side on the right side of the substrate 7. The end signal wiring portion 23bE has one end connected to the drive IC 11 and the other end connected to the FPC 5.

中間信号配線部23bMは、一端部が隣接する駆動IC11の一方の配置領域に配置され、中間電源配線部23aMの周囲を回り込むようにして、他端部が隣接する駆動IC11の他方の配置領域に配置されている。中間信号配線部23bMは、一端部が隣接する駆動IC11の一方に接続され、他端部が隣接する駆動IC11の他方に接続されている。   The intermediate signal wiring portion 23bM is arranged in one arrangement region of the adjacent driving IC 11 with one end portion thereof, and wraps around the periphery of the intermediate power supply wiring portion 23aM so that the other end portion is arranged in the other arrangement region of the driving IC 11 adjacent thereto. Has been placed. The intermediate signal wiring portion 23bM has one end connected to one of the adjacent drive ICs 11 and the other end connected to the other of the adjacent drive ICs 11.

端部信号配線部23bEと中間信号配線部23bMとは、これらの双方が接続された駆動IC11の内部で電気的に接続されている。また、隣接する中間信号配線部23bM同士は、これらの双方が接続された駆動ICの内部で電気的に接続されている。   The end signal wiring portion 23bE and the intermediate signal wiring portion 23bM are electrically connected inside the driving IC 11 to which both of them are connected. Further, the adjacent intermediate signal wiring portions 23bM are electrically connected inside the drive IC to which both of them are connected.

このように、IC信号配線23bを各駆動IC11と接続することにより、IC信号配線23bが各駆動IC11とFPC5との間を電気的に接続している。これにより、後述するようにFPC5から端部信号配線部23bEを介して駆動IC11に供給された制御信号を、中間信号配線部23bMを介して、隣接する駆動IC11へ供給するように構成されている。   Thus, by connecting the IC signal wiring 23b to each driving IC 11, the IC signal wiring 23b electrically connects each driving IC 11 and the FPC 5. Thus, as described later, the control signal supplied from the FPC 5 to the drive IC 11 via the end signal wiring portion 23bE is supplied to the adjacent drive IC 11 via the intermediate signal wiring portion 23bM. .

上記のIC接続電極23は、他の共通電極17、個別電極19、およびIC−FPC接続電極21と同様の方法により形成される。   The IC connection electrode 23 is formed by the same method as the other common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21.

図6,7に示すように、サーマルヘッドX2は、個別電極19の一部の領域にめっき層2が設けられている。そのため、個別電極19の駆動IC用端子4にめっき未着が生じる可能性を低減することができる。   As shown in FIGS. 6 and 7, the thermal head X <b> 2 is provided with the plating layer 2 in a partial region of the individual electrode 19. Therefore, it is possible to reduce the possibility that plating is not deposited on the drive IC terminal 4 of the individual electrode 19.

また、IC接続電極23は、一端部に設けられた駆動IC用端子4および他端部に設けられた駆動IC用端子4との間に、めっき層2が設けられている。それにより、めっき層10とめっき層2とをIC接続電極23により電気的に導通することができる。   Further, the IC connection electrode 23 is provided with the plating layer 2 between the drive IC terminal 4 provided at one end and the drive IC terminal 4 provided at the other end. Thereby, the plating layer 10 and the plating layer 2 can be electrically connected by the IC connection electrode 23.

そのため、IC接続電極23の駆動IC用端子4にめっき未着が生じる可能性を低減することができる。つまり、サーマルヘッドX3は、駆動IC用端子4にめっき未着が生じることなくめっき層10を設けることができる。特に、IC接続電極23にめっき層2が設けられていることから、面積の小さい駆動IC用端子4にめっき未着が生じることを有効に抑えることができる。   Therefore, it is possible to reduce the possibility that plating is not deposited on the drive IC terminal 4 of the IC connection electrode 23. That is, the thermal head X3 can be provided with the plating layer 10 without causing plating to be deposited on the drive IC terminal 4. In particular, since the plating layer 2 is provided on the IC connection electrode 23, it is possible to effectively prevent the plating IC from being deposited on the drive IC terminal 4 having a small area.

また、図7に示すように、平面視して、IC接続電極23に設けられためっき層2の面積が、個別電極19に設けられためっき層2の面積よりも大きい構成となっている。そのため、駆動IC用端子4の面積が小さいIC接続電極23においても、めっきを生成するための電子を供給することができ、めっき未着が生じる可能性を有効に抑えることができる。   As shown in FIG. 7, the area of the plating layer 2 provided on the IC connection electrode 23 is larger than the area of the plating layer 2 provided on the individual electrode 19 in plan view. For this reason, even in the IC connection electrode 23 in which the area of the drive IC terminal 4 is small, electrons for generating plating can be supplied, and the possibility that plating is not deposited can be effectively suppressed.

なお、個別電極19の一部の領域およびIC接続電極23の一部の領域にめっき層2を設けた例を示したが、IC接続電極23の一部の領域のみにめっき層2を設けてもよい。   In addition, although the example which provided the plating layer 2 in the one part area | region of the individual electrode 19 and the one part area | region of the IC connection electrode 23 was shown, the plating layer 2 was provided only in the one part area | region of the IC connection electrode 23. Also good.

<第3の実施形態>
図8を用いて第3の実施形態に係るサーマルヘッドX3について説明する。
<Third Embodiment>
A thermal head X3 according to the third embodiment will be described with reference to FIG.

サーマルヘッドX3は、個別電極19の発熱部9の近傍の領域にめっき層12が設けられており、めっき層12が、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21よりも熱伝導率の低い材料により形成されている。その他の構成は、サーマルヘッドX1と同様であり説明を省略する。   The thermal head X <b> 3 is provided with a plating layer 12 in a region of the individual electrode 19 in the vicinity of the heat generating portion 9, and the plating layer 12 is more thermally conductive than the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21. It is made of a low material. Other configurations are the same as those of the thermal head X1, and the description thereof is omitted.

めっき層12は、個別電極19の発熱部9の近傍に設けられている。そして、めっき層12は、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21よりも熱伝導率の低い材料により形成されている。そのため、めっき層12を設けない構成に比べて、個別電極19の熱伝導率を相対的に低くすることができる。そのため、発熱部9により発生した熱が個別電極19を通じて放熱される熱量を低減することができ、印画効率を向上させることができる。なお、発熱部9の近傍とは、例えば、発熱部9から0.01〜1mm程度離間した領域を示す。   The plating layer 12 is provided in the vicinity of the heat generating portion 9 of the individual electrode 19. The plating layer 12 is formed of a material having a lower thermal conductivity than the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21. Therefore, compared with the structure which does not provide the plating layer 12, the thermal conductivity of the individual electrode 19 can be made relatively low. Therefore, the amount of heat that is generated by the heat generating part 9 and dissipated through the individual electrodes 19 can be reduced, and the printing efficiency can be improved. In addition, the vicinity of the heat generating part 9 indicates a region separated from the heat generating part 9 by about 0.01 to 1 mm, for example.

めっき層12を構成する元素としては、例えば、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21をAlで形成する場合、Niを例示することができる。また、個別電極19またはIC接続電極23上に設けられためっき層10も同様の材料を用いて作製することができる。Alの熱伝導率は237W/mK、Niの熱伝導率は90W/mKであることから、個別電極19の熱伝導率を低減することができる。   As an element which comprises the plating layer 12, when forming the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 with Al, Ni can be illustrated, for example. Moreover, the plating layer 10 provided on the individual electrode 19 or the IC connection electrode 23 can also be produced using the same material. Since the thermal conductivity of Al is 237 W / mK and the thermal conductivity of Ni is 90 W / mK, the thermal conductivity of the individual electrode 19 can be reduced.

なお、めっき層10をNi、あるいはNiおよびAuを用いて形成し、めっき層12を熱伝導率の低いZnあるいはSn等の材料により形成してもよい。   The plating layer 10 may be formed using Ni or Ni and Au, and the plating layer 12 may be formed of a material such as Zn or Sn having a low thermal conductivity.

<第4の実施形態>
図9,10を用いてサーマルヘッドX4について説明する。
<Fourth Embodiment>
The thermal head X4 will be described with reference to FIGS.

サーマルヘッドX4は、共通電極17および個別電極19が、発熱部9に接続された薄電極部17d,19dと、薄電極部17d,19dよりも厚みの厚い厚電極部17e,19eを備えている。そして、厚電極部17e,19e上にめっき層12が設けられている。なお、めっき層12は、サーマルヘッドX3と同様のものであるため、説明を省略する。   In the thermal head X4, the common electrode 17 and the individual electrode 19 include thin electrode portions 17d and 19d connected to the heat generating portion 9, and thick electrode portions 17e and 19e that are thicker than the thin electrode portions 17d and 19d. . A plating layer 12 is provided on the thick electrode portions 17e and 19e. In addition, since the plating layer 12 is the same as that of the thermal head X3, description is abbreviate | omitted.

サーマルヘッドX4は、共通電極17および個別電極19が、薄電極部17d,19dと、厚電極部17e,19eとを備えている。発熱部9に薄電極部17d,19dが接続されていることで、発熱部9に生じた熱を、共通電極17および個別電極19が放熱する熱量を小さくすることができる。さらに、厚電極部17e,19eを有することで、共通電極17および個別電極19の電気抵抗を低減することができる。   In the thermal head X4, the common electrode 17 and the individual electrode 19 include thin electrode portions 17d and 19d and thick electrode portions 17e and 19e. Since the thin electrode portions 17d and 19d are connected to the heat generating portion 9, the amount of heat radiated by the common electrode 17 and the individual electrodes 19 from the heat generated in the heat generating portion 9 can be reduced. Furthermore, the electrical resistance of the common electrode 17 and the individual electrode 19 can be reduced by having the thick electrode portions 17e and 19e.

薄電極部17d,19dは、発熱部9に接続されており、厚みは0.1〜0.4μmであることが好ましい。このような厚みであることにより、発熱部9に生じた熱が薄電極部17d、19dに伝わりにくくなり、熱応答特性の高いサーマルヘッドX4とすることができる。   The thin electrode portions 17d and 19d are connected to the heat generating portion 9, and the thickness is preferably 0.1 to 0.4 μm. With such a thickness, heat generated in the heat generating portion 9 is not easily transmitted to the thin electrode portions 17d and 19d, and the thermal head X4 having high thermal response characteristics can be obtained.

厚電極部17e,19eは、薄電極部17d,19dに接続されており、厚みは0.5〜2.0μmであることが好ましい。このような厚みであることにより、共通電極17および個別電極19の電気抵抗を下げることができる。そのため、共通電極17および個別電極19の電気容量を増加させることができる。   The thick electrode portions 17e and 19e are connected to the thin electrode portions 17d and 19d, and the thickness is preferably 0.5 to 2.0 μm. With such a thickness, the electric resistance of the common electrode 17 and the individual electrode 19 can be lowered. Therefore, the electric capacitance of the common electrode 17 and the individual electrode 19 can be increased.

このような共通電極17および個別電極19は、例えば、次のように作製することができる。まず、厚電極部17e,19eをスパッタリングにより形成した後に、厚電極部17e,19eの一部をエッチングすることにより薄電極部17d,19dを形成すればよい。また、薄電極部17d,19dをスパッタリング等の薄膜形成技術により形成し、厚電極部17e,19eを印刷等の厚膜形成技術のように形成してもよく、厚電極部17e,19eを形成した後に、厚電極部17e,19eを被覆するように薄電極部17d,19dを設けてもよい。   Such a common electrode 17 and individual electrode 19 can be manufactured as follows, for example. First, after forming the thick electrode portions 17e and 19e by sputtering, the thin electrode portions 17d and 19d may be formed by etching a part of the thick electrode portions 17e and 19e. Further, the thin electrode portions 17d and 19d may be formed by a thin film forming technique such as sputtering, and the thick electrode portions 17e and 19e may be formed as in a thick film forming technique such as printing, and the thick electrode portions 17e and 19e are formed. After that, the thin electrode portions 17d and 19d may be provided so as to cover the thick electrode portions 17e and 19e.

図10(a)に示すように、サーマルヘッドX4は、厚電極部17e,19eの上にめっき層12が設けられている。そのため、薄電極部17d,19dにて、発熱部9の熱が共通電極17および個別電極19に伝わることを抑えることができる。さらに、厚電極部17e,19eの熱伝導率を低減することができ、共通電極17および個別電極19を通じて放熱される熱量を低減することができる。そのため、サーマルヘッドX4の印画効率を向上させることができる。   As shown in FIG. 10A, in the thermal head X4, the plating layer 12 is provided on the thick electrode portions 17e and 19e. Therefore, it is possible to suppress the heat of the heat generating portion 9 from being transmitted to the common electrode 17 and the individual electrodes 19 in the thin electrode portions 17d and 19d. Furthermore, the thermal conductivity of the thick electrode portions 17e and 19e can be reduced, and the amount of heat radiated through the common electrode 17 and the individual electrode 19 can be reduced. Therefore, the printing efficiency of the thermal head X4 can be improved.

めっき層12は、図10(a)に示すように、厚電極部17e,19eの発熱部9側に設けることが好ましい。つまり、厚電極部17e,19eと薄電極部17d,19dとの接合部近傍に設けることが好ましい。それにより、厚電極部17e,19eに伝熱される熱量を低減することができる。   As shown in FIG. 10A, the plating layer 12 is preferably provided on the heat generating portion 9 side of the thick electrode portions 17e and 19e. That is, it is preferable to provide in the vicinity of the junction between the thick electrode portions 17e and 19e and the thin electrode portions 17d and 19d. Thereby, the amount of heat transferred to the thick electrode portions 17e, 19e can be reduced.

また、図9に示すように、サーマルヘッドX4は、平面視して、発熱部9の配列方向における端部に位置するめっき層2eの面積が、発熱部9の配列方向における中央部に位置するめっき層2cの面積よりも大きい。   Further, as shown in FIG. 9, in the thermal head X <b> 4, the area of the plating layer 2 e located at the end in the arrangement direction of the heat generating parts 9 is located in the center in the arrangement direction of the heat generating parts 9 in plan view. It is larger than the area of the plating layer 2c.

それにより、サーマルヘッドX4は、発熱部9の配列方向において、端部に位置する個別電極19から放熱する熱量が、中央部に位置する個別電極19から放熱する熱量よりも小さい構成となる。その結果、発熱部9の配列方向において、サーマルヘッドX4の中央部の温度と端部の温度とを近づけることができる。   Thus, the thermal head X4 has a configuration in which the amount of heat radiated from the individual electrode 19 located at the end is smaller than the amount of heat radiated from the individual electrode 19 located at the center in the arrangement direction of the heat generating portions 9. As a result, the temperature at the center of the thermal head X4 and the temperature at the end can be made closer to each other in the arrangement direction of the heat generating units 9.

そのため、発熱部9の配列方向における温度分布を均一なものに近づけることができ、発熱部9の配列方向において、記録媒体の搬送しやすさ、あるいは印画濃度等を均一なものに近づけることができる。   Therefore, the temperature distribution in the arrangement direction of the heat generating units 9 can be made closer to a uniform one, and the ease of transporting the recording medium or the print density can be made closer to a uniform one in the arrangement direction of the heat generating units 9. .

また、発熱部9の配列方向における中央部に位置するめっき層2cの面積と、発熱部9の配列方向における端部に位置するめっき層2eの面積とを、漸次変化させてもよい。具体的には、発熱部9の配列方向における両端部に位置するめっき層2(2e)の面積が、発熱部9の配列方向における中央部に向かうにつれて徐々に小さくなる構成としてもよい。このような構成とすることにより、発熱部9の配列方向における温度分布をさらに均一なものに近づけることができる。   Further, the area of the plating layer 2c located at the center in the arrangement direction of the heat generating portions 9 and the area of the plating layer 2e located at the end in the arrangement direction of the heat generating portions 9 may be gradually changed. Specifically, the area of the plating layer 2 (2e) located at both ends in the arrangement direction of the heat generating portions 9 may be configured to gradually decrease toward the central portion in the arrangement direction of the heat generating portions 9. By adopting such a configuration, the temperature distribution in the arrangement direction of the heat generating portions 9 can be made more uniform.

なお、サーマルヘッドX4では、厚電極部17e,19e上にめっき層12を設ける例を示したが、薄電極部17d,19d上にめっき層12を設けてもよい。その場合においても、薄電極部17d,19vに伝熱される熱量を低減することができ、効率のよい印画を行うことができる。   In the thermal head X4, the example in which the plating layer 12 is provided on the thick electrode portions 17e and 19e has been described. However, the plating layer 12 may be provided on the thin electrode portions 17d and 19d. Even in this case, the amount of heat transferred to the thin electrode portions 17d and 19v can be reduced, and efficient printing can be performed.

図10(b)を用いて、サーマルヘッドX4の変形例であるサーマルヘッドX5について説明する。サーマルヘッドX5は、平面視して、薄電極部17d,19dが他の部位よりも幅の狭い狭小部17d2,19d2を有している。また、狭小部17d2,19d2と、発熱部9または厚電極部17e,19eとを接続する接続部17d1,19d1を有している。   A thermal head X5, which is a modification of the thermal head X4, will be described with reference to FIG. In the thermal head X5, the thin electrode portions 17d and 19d have narrow portions 17d2 and 19d2 that are narrower than other portions in plan view. Moreover, it has the connection parts 17d1 and 19d1 which connect the narrow parts 17d2 and 19d2 and the heat generating part 9 or the thick electrode parts 17e and 19e.

サーマルヘッドX5は、薄電極部17d,19dが他の部位よりも幅の狭い狭小部17d2,19d2を有していることから、発熱部9に生じた熱が、薄電極部17d,19dに伝熱することをさらに低減することができる。   In the thermal head X5, since the thin electrode portions 17d and 19d have narrow portions 17d2 and 19d2 which are narrower than other portions, heat generated in the heat generating portion 9 is transmitted to the thin electrode portions 17d and 19d. Heating can be further reduced.

また、図示していないが、狭小部17d2,19d2上にめっき層12を設けてもよい。それにより、狭小部17d2,19d2の熱伝導率をさらに低減することができ、サーマルヘッドX5が効率のよい駆動を行うことができる。   Although not shown, the plating layer 12 may be provided on the narrow portions 17d2 and 19d2. Accordingly, the thermal conductivity of the narrow portions 17d2 and 19d2 can be further reduced, and the thermal head X5 can be driven efficiently.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。例えば、第1の実施形態であるサーマルヘッドX1を用いたサーマルプリンタZを示したが、これに限定されるものではなく、サーマルヘッドX2〜X6をサーマルプリンタZに用いてもよい。また、複数の実施形態であるサーマルヘッドX1〜X6を組み合わせてもよい。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible unless it deviates from the meaning. For example, although the thermal printer Z using the thermal head X1 according to the first embodiment is shown, the present invention is not limited to this, and the thermal heads X2 to X6 may be used for the thermal printer Z. Moreover, you may combine the thermal heads X1-X6 which are some embodiment.

例えば、図11に示すサーマルヘッドX6は、サーマルヘッドX1およびサーマルヘッドX3を組み合わせたものである。サーマルヘッドX6によれば、個別電極19にめっき層2,12を設けたことにより、駆動IC用端子4上に設けられためっき層10にめっき未着が生じる可能性を低減することができる。さらに、個別電極19の発熱部9の近傍の領域上にめっき層12を、個別電極19を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料により形成したため、個別電極19の熱伝導率を低減させることができ、サーマルヘッドX6の印画効率を向上させることができる。   For example, the thermal head X6 shown in FIG. 11 is a combination of the thermal head X1 and the thermal head X3. According to the thermal head X6, the provision of the plating layers 2 and 12 on the individual electrode 19 can reduce the possibility that the plating layer 10 provided on the drive IC terminal 4 will not be plated. Furthermore, since the plating layer 12 is formed of a material having a lower thermal conductivity than the material forming the individual electrode 19 on the region of the individual electrode 19 in the vicinity of the heat generating portion 9, the thermal conductivity of the individual electrode 19 can be reduced. And the printing efficiency of the thermal head X6 can be improved.

また、サーマルヘッドX1では、蓄熱層13に隆起部13bが形成され、隆起部13b
上に電気抵抗層15が形成されているが、これに限定されるものではない。例えば、蓄熱層13に隆起部13bを形成せず、電気抵抗層15の発熱部9を、蓄熱層13の下地部13b上に配置してもよい。または、蓄熱層13を形成せず、基板7上に電気抵抗層15を配置してもよい。
Further, in the thermal head X1, the raised portion 13b is formed in the heat storage layer 13, and the raised portion 13b.
Although the electrical resistance layer 15 is formed on the top, it is not limited to this. For example, the heat generating portion 9 of the electric resistance layer 15 may be disposed on the base portion 13 b of the heat storage layer 13 without forming the raised portion 13 b in the heat storage layer 13. Alternatively, the electric resistance layer 15 may be disposed on the substrate 7 without forming the heat storage layer 13.

また、サーマルヘッドX1では、電気抵抗層15上に共通電極17および個別電極19が形成されているが、共通電極17および個別電極19の双方が発熱部9(電気抵抗体)に接続されている限り、これに限定されるものではない。例えば、蓄熱層13上に共通電極17および個別電極19を形成し、共通電極17と個別電極19との間の領域のみに電気抵抗層15を形成することにより、発熱部9を構成してもよい。   In the thermal head X1, the common electrode 17 and the individual electrode 19 are formed on the electric resistance layer 15, but both the common electrode 17 and the individual electrode 19 are connected to the heat generating portion 9 (electric resistance body). As long as it is not limited to this. For example, even if the heat generating portion 9 is configured by forming the common electrode 17 and the individual electrode 19 on the heat storage layer 13 and forming the electric resistance layer 15 only in the region between the common electrode 17 and the individual electrode 19. Good.

なお、めっき層2を個別電極19の一部の領域の上に設ける例を示したが、これに限定されるのもではなく、個別電極19の半分以上の領域にわたってめっき層2が設けられる構成としてもよい。上記構成とすることにより、被覆層27が欠落した場合においても、個別電極19が露出する可能性を低減することができ、個別電極19が破損する可能性を抑えることができる。   In addition, although the example which provides the plating layer 2 on the one part area | region of the individual electrode 19 was shown, it is not limited to this, The structure by which the plating layer 2 is provided over the area | region more than half of the individual electrode 19 It is good. By setting it as the said structure, even when the coating layer 27 is missing, possibility that the individual electrode 19 will be exposed can be reduced, and possibility that the individual electrode 19 will be damaged can be suppressed.

また、外部基板としてFPCを設けた例を示したが、可堯性のあるFPCでなく、硬質なプリント配線板を用いてもよい。硬質なプリント配線板としては、ガラスエポキシ基板あるいはポリイミド基板等の樹脂により形成された基板を例示することができる。   Moreover, although the example which provided FPC as an external board | substrate was shown, you may use a hard printed wiring board instead of flexible FPC. As a hard printed wiring board, the board | substrate formed with resin, such as a glass epoxy board | substrate or a polyimide board | substrate, can be illustrated.

また、駆動IC11をヘッド基体3上に設けた例を示したが、ヘッド基体3上に設けなくてもよい。例えば、外部基板に駆動IC11を設け、駆動IC11とヘッド基体3とをワイヤボンディングにより電気的に接続してもよい。   Further, although the example in which the drive IC 11 is provided on the head base 3 has been shown, it may not be provided on the head base 3. For example, the driving IC 11 may be provided on the external substrate, and the driving IC 11 and the head base 3 may be electrically connected by wire bonding.

さらにまた、電気抵抗層15を薄膜形成することにより、発熱部9の薄い薄膜ヘッドを例示して示したが、これに限定されるものではない。例えば、各種電極をパターニングした後に、電気抵抗層15を厚膜形成することにより、発熱部9の厚い厚膜ヘッドに本発明を用いてもよい。   Furthermore, the thin film head of the heat generating portion 9 is illustrated by forming the electric resistance layer 15 as a thin film. However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention may be used for a thick film head of the heat generating portion 9 by forming a thick film of the electric resistance layer 15 after patterning various electrodes.

X1〜X6 サーマルヘッド
Z サーマルプリンタ
1 放熱体
2 めっき層
3 ヘッド基体
4 駆動IC用端子(個別電極側)
5 フレキシブルプリント配線板
6 駆動IC用端子(IC−FPC接続電極側)
7 基板
8 FPC用端子
9 発熱部
10 めっき層
11 駆動IC
12 めっき層
17 共通電極
19 個別電極
21 IC−FPC接続電極
23 IC接続電極
25 保護層
27 被覆層
X1 to X6 Thermal head Z Thermal printer 1 Radiator 2 Plating layer 3 Head base 4 Driver IC terminal (individual electrode side)
5 Flexible printed wiring board 6 Terminal for drive IC (IC-FPC connection electrode side)
7 Substrate 8 FPC terminal 9 Heating part 10 Plating layer 11 Drive IC
12 Plating Layer 17 Common Electrode 19 Individual Electrode 21 IC-FPC Connection Electrode 23 IC Connection Electrode 25 Protective Layer 27 Covering Layer

Claims (9)

基板と、
該基板上に設けられた複数の発熱部と、
前記基板上に設けられており、一端部が前記発熱部と電気的に接続され、駆動ICと電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極と、を備え、
前記接続端子にめっき層が設けられているとともに、前記発熱部と前記接続端子との間に位置する前記個別電極における一部の領域に前記めっき層が設けられており、
平面視して、前記領域に設けられた前記めっき層の面積が、前記接続端子に設けられた前記めっき層の面積よりも大きいことを特徴とするサーマルヘッド。
A substrate,
A plurality of heat generating portions provided on the substrate;
An individual electrode provided on the substrate, having one end portion electrically connected to the heat generating portion and a connection terminal electrically connected to the driving IC at the other end portion;
A plating layer is provided on the connection terminal, and the plating layer is provided on a part of the individual electrode located between the heat generating portion and the connection terminal ,
The thermal head , wherein an area of the plating layer provided in the region is larger than an area of the plating layer provided in the connection terminal in plan view .
基板と、
該基板上に設けられた複数の発熱部と、
前記基板上に設けられており、一端部が前記発熱部と電気的に接続され、駆動ICと電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極と、を備え、
前記接続端子にめっき層が設けられているとともに、前記発熱部と前記接続端子との間に位置する前記個別電極における一部の領域に前記めっき層が設けられており、
前記接続端子に設けられた前記めっき層の厚みが、前記領域に設けられた前記めっき層の厚みよりも大きいことを特徴とするサーマルヘッド。
A substrate,
A plurality of heat generating portions provided on the substrate;
An individual electrode provided on the substrate, having one end portion electrically connected to the heat generating portion and a connection terminal electrically connected to the driving IC at the other end portion;
A plating layer is provided on the connection terminal, and the plating layer is provided on a part of the individual electrode located between the heat generating portion and the connection terminal,
A thermal head, wherein a thickness of the plating layer provided on the connection terminal is larger than a thickness of the plating layer provided on the region.
基板と、
該基板上に設けられた複数の発熱部と、
前記基板上に設けられており、一端部が前記発熱部と電気的に接続され、駆動ICと電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極と、を備え、
前記接続端子にめっき層が設けられているとともに、前記発熱部と前記接続端子との間に位置する前記個別電極における一部の領域に前記めっき層が設けられており、
前記めっき層が、前記個別電極よりも熱伝導率の低い材料により形成されていることを特徴とするサーマルヘッド。
A substrate,
A plurality of heat generating portions provided on the substrate;
An individual electrode provided on the substrate, having one end portion electrically connected to the heat generating portion and a connection terminal electrically connected to the driving IC at the other end portion;
A plating layer is provided on the connection terminal, and the plating layer is provided on a part of the individual electrode located between the heat generating portion and the connection terminal,
A thermal head in which the plating layer, characterized in that it is formed by a material having a low thermal conductivity than the individual electrodes.
前記個別電極が、前記発熱部に接続された薄電極部と、該薄電極部よりも厚みの厚い厚電極部とを備えており、
前記めっき層が前記厚電極部に設けられている、請求項に記載のサーマルヘッド。
The individual electrode includes a thin electrode part connected to the heat generating part, and a thick electrode part thicker than the thin electrode part,
The thermal head according to claim 3 , wherein the plating layer is provided on the thick electrode portion.
平面視して、前記発熱部の配列方向における端部に位置する前記めっき層の面積が、前
記発熱部の配列方向における中央部に位置する前記めっき層の面積よりも大きい、請求項に記載のサーマルヘッド。
In plan view, the area of the plating layer located on the end in the arrangement direction of the heat generating portion is greater than the area of the plating layer positioned at the center in the arrangement direction of the heat generating portion, according to claim 4 Thermal head.
基板と、A substrate,
該基板上に設けられた複数の発熱部と、A plurality of heat generating portions provided on the substrate;
前記基板上に設けられており、一端部が前記発熱部と電気的に接続され、駆動ICと電気的に接続される接続端子を他端部に有する個別電極と、An individual electrode provided on the substrate, having one end electrically connected to the heat generating portion and a connection terminal electrically connected to the driving IC at the other end;
複数の前記駆動ICと、隣接する駆動IC同士を前記接続端子を介して電気的に接続するIC接続電極と、を備え、A plurality of drive ICs, and IC connection electrodes that electrically connect adjacent drive ICs via the connection terminals,
前記接続端子にめっき層が設けられているとともに、前記発熱部と前記接続端子との間に位置する前記個別電極における一部の領域に前記めっき層が設けられており、A plating layer is provided on the connection terminal, and the plating layer is provided on a part of the individual electrode located between the heat generating portion and the connection terminal,
前記接続端子同士の間に位置する前記IC接続電極における一部の領域に前記めっき層が設けられていることを特徴とするサーマルヘッド。The thermal head, wherein the plating layer is provided in a partial region of the IC connection electrode located between the connection terminals.
前記個別電極は、前記接続端子近傍の領域に前記めっき層が設けられている、請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the individual electrode is provided with the plating layer in a region near the connection terminal. 前記個別電極は、前記発熱部近傍の領域に前記めっき層が設けられている、請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the individual electrode is provided with the plating layer in a region near the heat generating portion. 請求項1乃至のうちいずれか1項に記載のサーマルヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、前記発熱部上に前記記録媒体を押圧するプラテンローラと、を備えることを特徴とするサーマルプリンタ。 Further comprising a thermal head according a conveying mechanism for conveying the recording medium on the heat generating portion, and a platen roller for pressing the recording medium on the heating unit, to any one of claims 1 to 8 A thermal printer characterized by
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