JPH11240190A - Thermal head - Google Patents
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- JPH11240190A JPH11240190A JP4600798A JP4600798A JPH11240190A JP H11240190 A JPH11240190 A JP H11240190A JP 4600798 A JP4600798 A JP 4600798A JP 4600798 A JP4600798 A JP 4600798A JP H11240190 A JPH11240190 A JP H11240190A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/361—Assembling flexible printed circuits with other printed circuits
- H05K3/363—Assembling flexible printed circuits with other printed circuits by soldering
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はワードプロセッサや
ファクシミリ等のプリンタ機構として組み込まれるサー
マルヘッドに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermal head incorporated as a printer mechanism for a word processor, a facsimile or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ワードプロセッサ等のプリンタ機
構として組み込まれるサーマルヘッドは、例えば図4に
示す如く、アルミナセラミックス等から成る絶縁基板2
1の上面に、複数個の発熱素子22を直線状に配列した
発熱素子列と、該発熱素子22の両端に接続される共通
電極配線23及び個別電極配線24と、前記発熱素子2
2を外部からの印画データに基づいて選択的に発熱させ
るドライバーIC25と、一端側上面に前記ドライバー
IC25の端子25aに半田接合するためのIC接続用
金メッキ層27が、他端側上面に図示しない外部配線基
板の配線に半田接合するための外部接続用金メッキ層2
8が被着され、前記ドライバーIC25及び個別電極配
線24を介して前記発熱素子22に電気的に接続される
グランド電極配線26と、をそれぞれ取着した構造を有
しており、かかるサーマルヘッドは、前記ドライバーI
C25の駆動によって共通電極配線23及びグランド電
極配線26間に電源電力を印加し、発熱素子22を個々
に選択的に発熱させるとともに、該発熱した熱を感熱紙
等の感熱記録媒体に伝導させ、感熱記録媒体に所定の印
画を形成することによってサーマルヘッドとして機能す
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a thermal head incorporated as a printer mechanism of a word processor or the like is, for example, as shown in FIG.
1, a heating element array in which a plurality of heating elements 22 are linearly arranged, a common electrode wiring 23 and an individual electrode wiring 24 connected to both ends of the heating element 22, and the heating element 2
2, a driver IC 25 for selectively generating heat based on external printing data, and an IC connection gold-plated layer 27 for soldering to a terminal 25a of the driver IC 25 on one end upper surface, and not shown on the other end upper surface. Gold plating layer for external connection 2 for soldering to wiring of external wiring board
8 and a ground electrode wiring 26 electrically connected to the heating element 22 via the driver IC 25 and the individual electrode wiring 24, respectively. , The driver I
Power is applied between the common electrode wiring 23 and the ground electrode wiring 26 by driving C25, and the heating elements 22 are individually and selectively heated, and the generated heat is transmitted to a heat-sensitive recording medium such as heat-sensitive paper. By forming a predetermined print on the thermosensitive recording medium, it functions as a thermal head.
【0003】そして、このようなサーマルヘッドのドラ
イバーIC25は、大気中に含まれている水分等の接触
による腐食や感熱記録媒体の摺接等から保護するために
エポキシ樹脂等から成る保護樹脂29によって被覆され
る。尚、前記保護樹脂29は、液状に成したエポキシ樹
脂の前駆体をディスペンサー等を用いて絶縁基板上面の
ドライバーIC25が実装されている領域に塗布し、こ
れを高温で加熱・硬化させることによって形成される。The driver IC 25 of such a thermal head is protected by a protective resin 29 made of an epoxy resin or the like in order to protect it from corrosion due to contact with moisture or the like contained in the atmosphere, sliding contact with a thermosensitive recording medium, and the like. Coated. The protective resin 29 is formed by applying a liquid epoxy resin precursor to the region on the upper surface of the insulating substrate where the driver IC 25 is mounted using a dispenser or the like, and heating and curing the region at a high temperature. Is done.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のサーマルヘッドにおいては、保護樹脂29を絶縁基
板21上に形成する際、絶縁基板21上に塗布される液
状前駆体がドライバーIC25の両側に向かって流れ出
すことにより、その塗布幅が不所望に広がってしまうこ
とがあった。このようにして広がった液状前駆体の一部
がグランド電極配線26の他端に設けた外部接続用金メ
ッキ層28の近傍まで流れてきた場合、その付近には前
駆体溜まりZが形成され、外部接続用金メッキ層28が
この前駆体溜まりZ中に埋没してしまう。そのため、外
部配線基板をグランド電極配線26に半田付けしようと
しても前述の前駆体溜まりZが障害となって良好に半田
付けすることができず、また外部配線基板を良好に半田
付けするには、前述の前駆体溜まりZをエッチング等に
よって除去しなければならず、これによってサーマルヘ
ッドの生産性が著しく低下していた。However, in this conventional thermal head, when the protective resin 29 is formed on the insulating substrate 21, the liquid precursor applied on the insulating substrate 21 faces both sides of the driver IC 25. In this case, the coating width sometimes undesirably expands. When a part of the liquid precursor thus spread flows to the vicinity of the external connection gold plating layer 28 provided at the other end of the ground electrode wiring 26, the precursor pool Z is formed in the vicinity thereof, and The connection gold plating layer 28 is buried in the precursor pool Z. Therefore, even if an attempt is made to solder the external wiring board to the ground electrode wiring 26, the above-mentioned precursor pool Z becomes an obstacle and cannot be soldered satisfactorily. The above-mentioned precursor pool Z had to be removed by etching or the like, which significantly reduced the productivity of the thermal head.
【0005】また上述した従来のサーマルヘッドにおい
ては、ドライバーIC25が絶縁基板21上にフェース
ダウンボンディングされており、絶縁基板21の上面と
ドライバーIC25の下面との間には40〜50μm程
度の僅かな隙間が形成される。このため、保護樹脂29
を形成するにあたって液状前駆体をドライバーIC25
の実装領域に塗布した際、液状前駆体を前述の隙間に良
好に流し込むことができず、隙間内には大きな気泡が残
存することとなる。このような気泡に前駆体を硬化させ
る際の熱やサーマルヘッドの使用時の熱などが印加され
ると、気泡の熱膨張によってドライバーIC25の位置
ズレや、グランド電極配線26とドライバーIC25と
の半田接合部の破損が誘発され、これによってもサーマ
ルヘッドの生産性や信頼性が低下していた。In the above-mentioned conventional thermal head, the driver IC 25 is face-down bonded onto the insulating substrate 21, and a slight distance of about 40 to 50 μm is provided between the upper surface of the insulating substrate 21 and the lower surface of the driver IC 25. A gap is formed. Therefore, the protective resin 29
The liquid precursor is used to form the driver IC 25
When the liquid precursor is applied to the mounting region, the liquid precursor cannot be flowed into the above-mentioned gap satisfactorily, and large bubbles remain in the gap. When heat for curing the precursor, heat for using the thermal head, or the like is applied to such bubbles, the thermal expansion of the bubbles causes a displacement of the driver IC 25 or a solder between the ground electrode wiring 26 and the driver IC 25. Breakage of the joint was induced, which also reduced the productivity and reliability of the thermal head.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点に鑑み
案出されたもので、本発明のサーマルヘッドは、絶縁基
板の上面に、複数個の発熱素子を直線状に配列した発熱
素子列と、該発熱素子の各一端に接続される共通電極配
線と、前記発熱素子の各他端に接続される複数個の個別
電極配線と、前記個別電極配線に電気的に接続され、前
記発熱素子列と略平行に配置される矩形状のドライバー
ICと、一端側上面に前記ドライバーICの端子に半田
接合するためのIC接続用金メッキ層が、他端側上面に
外部配線基板の配線に半田接合するための外部接続用金
メッキ層が被着され、前記ドライバーIC及び個別電極
配線を介して発熱素子に電気的に接続されるグランド電
極配線と、前記ドライバーICを被覆する保護樹脂と、
を取着させて成り、前記共通電極配線及びグランド電極
配線間に印加される電源電力によって前記発熱素子を発
熱・駆動させるサーマルヘッドであって、前記グランド
電極配線の表面で、かつ前記IC接続用金メッキ層と外
部接続用金メッキ層との間の領域に、ドライバーICの
長さ方向と略平行に延びる帯状金メッキ層を形成し、該
帯状金メッキ層で前記保護樹脂のエッジの位置を設定し
たことを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above-mentioned disadvantages, and a thermal head according to the present invention has a heating element array in which a plurality of heating elements are linearly arranged on an upper surface of an insulating substrate. A common electrode wiring connected to one end of the heating element, a plurality of individual electrode wirings connected to the other end of the heating element, and the heating element electrically connected to the individual electrode wiring. A rectangular driver IC arranged substantially in parallel with the row, an IC connection gold plating layer on one end upper surface for soldering to a terminal of the driver IC, and solder bonding to an external wiring board wiring on the other end upper surface. An external connection gold plating layer is applied, and a ground electrode wiring electrically connected to a heating element via the driver IC and the individual electrode wiring; and a protective resin covering the driver IC.
A thermal head for generating and driving the heating element by a power supply applied between the common electrode wiring and the ground electrode wiring, the thermal head being provided on the surface of the ground electrode wiring and for the IC connection. In a region between the gold plating layer and the external connection gold plating layer, a band-shaped gold plating layer extending substantially parallel to the length direction of the driver IC is formed, and the position of the edge of the protective resin is set by the band-shaped gold plating layer. It is a feature.
【0007】また本発明のサーマルヘッドは、前記IC
接続用金メッキ層を単一のグランド電極配線上に複数
個、設けるとともに、これらIC接続用金メッキ層をド
ライバーICの長さ方向に沿って一列もしくは千鳥状に
配列し、前記帯状金メッキ層の一部を隣接するIC接続
用金メッキ層間の領域に向かって延在せしめたことを特
徴とするものである。[0007] The thermal head of the present invention is characterized in that the IC
A plurality of connection gold plating layers are provided on a single ground electrode wiring, and these IC connection gold plating layers are arranged in a row or in a staggered manner along the length direction of the driver IC, and a part of the band-shaped gold plating layer is provided. Are extended toward the region between the adjacent gold layers for IC connection.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。図1は本発明の一形態にかかるサー
マルヘッドの平面図、図2は図1のX−X線断面図、図
3は図1のサーマルヘッドに設けられる各種金メッキ層
のパターンを示す要部拡大図であり、1は絶縁基板、2
は発熱素子、3は共通電極配線、4は個別電極配線、5
はドライバーIC、6はグランド電極配線、7はIC接
続用金メッキ層、8は外部接続用金メッキ層、9aは帯
状金メッキ層、10は保護樹脂である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a plan view of a thermal head according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged view of a main part showing patterns of various gold plating layers provided on the thermal head of FIG. FIG. 1 shows an insulating substrate, 2
Is a heating element, 3 is a common electrode wiring, 4 is an individual electrode wiring, 5
Denotes a driver IC, 6 denotes a ground electrode wiring, 7 denotes a gold plating layer for IC connection, 8 denotes a gold plating layer for external connection, 9a denotes a belt-shaped gold plating layer, and 10 denotes a protective resin.
【0009】前記絶縁基板1は、アルミナセラミックス
やガラス等の電気絶縁性材料により矩形状をなすように
形成され、その上面で発熱素子列や共通電極配線3,複
数個の個別電極配線4,複数個のドライバーIC5,複
数個のグランド電極配線6,保護樹脂10等を支持する
ようになっている。The insulating substrate 1 is formed in a rectangular shape from an electrically insulating material such as alumina ceramics or glass, and has a heating element array, a common electrode wiring 3, a plurality of individual electrode wirings 4, It supports a plurality of driver ICs 5, a plurality of ground electrode wirings 6, a protective resin 10, and the like.
【0010】前記絶縁基板1は、例えばアルミナセラミ
ックスから成る場合、アルミナ,シリカ,マグネシア等
のセラミック原料粉末に適当な有機溶媒、有機溶剤を添
加・混合して泥漿状に成すとともに、これを従来周知の
ドクターブレード法等を採用することによってセラミッ
クグリーンシートを得、しかる後、該セラミックグリー
ンシートに打ち抜き加工法を施して矩形状となし、これ
を高温(約1600℃)で焼成することによって製作され
る。When the insulating substrate 1 is made of, for example, alumina ceramics, an appropriate organic solvent or an organic solvent is added to and mixed with a ceramic raw material powder of alumina, silica, magnesia or the like to form a slurry. The ceramic green sheet is obtained by adopting the doctor blade method, etc., and thereafter, the ceramic green sheet is subjected to a punching process to form a rectangular shape, which is fired at a high temperature (about 1600 ° C.). You.
【0011】またこのような絶縁基板1の上面には該基
板1の長さ方向に沿って発熱素子列が取着される。前記
発熱素子列は、複数個の発熱素子2を直線状に配列して
構成されており、これら発熱素子2は1走査線分の画素
に対応するように例えば600dpiの線密度で配列さ
れる。On the upper surface of the insulating substrate 1, a row of heating elements is attached along the longitudinal direction of the substrate 1. The heating element row is configured by arranging a plurality of heating elements 2 in a linear shape, and these heating elements 2 are arranged at a line density of, for example, 600 dpi so as to correspond to pixels of one scanning line.
【0012】前記発熱素子2は、その各々がTa−N
系,Ta−Si−O系,Ti−Si−O系などの電気抵
抗材料により形成されているため、後述する共通電極配
線3及び個別電極配線4を介して外部電源からの電力が
印加されるとジュール発熱を起こし、感熱紙等の感熱記
録媒体に印画を形成するのに必要な温度となる。Each of the heating elements 2 is made of Ta-N
System, Ta-Si-O-based, Ti-Si-O-based, or other electric resistance material, so that power from an external power supply is applied via the common electrode wiring 3 and the individual electrode wiring 4 described later. Then, Joule heat is generated, and the temperature becomes necessary to form a print on a thermal recording medium such as thermal paper.
【0013】尚、前記発熱素子2は、前述の電気抵抗材
料を従来周知のスパッタリング法及びフォトリソグラフ
ィー技術等を採用し、所定厚み、所定パターンに被着さ
せることによって絶縁基板1の上面に形成される。The heating element 2 is formed on the upper surface of the insulating substrate 1 by applying the above-mentioned electric resistance material to a predetermined thickness and a predetermined pattern by employing a conventionally known sputtering method and photolithography technique. You.
【0014】また前記発熱素子2の両端には前記発熱素
子2に電力を印加するための共通電極配線3及び個別電
極配線4が電気的に接続される。前記共通電極配線3
は、発熱素子2の各一端に共通に接続されており、絶縁
基板1の一方の長辺と2つの短辺とに沿ってコの字状に
パターニングされた上、後述する外部配線基板11を介
して外部電源のプラス(+)極側の端子に電気的に接続
される。A common electrode wiring 3 and an individual electrode wiring 4 for applying power to the heating element 2 are electrically connected to both ends of the heating element 2. The common electrode wiring 3
Are connected in common to each end of the heating element 2, are patterned in a U-shape along one long side and two short sides of the insulating substrate 1, and are connected to an external wiring substrate 11 described later. Is electrically connected to a terminal on the positive (+) pole side of the external power supply via the power supply.
【0015】一方、前記個別電極配線4は、発熱素子2
の各他端に個々に接続されており、後述するドライバー
IC5の内部に設けられているスイッチングトランジス
タ等のスイッチ手段(図示せず)やグランド電極配線6
等を介して外部電源のマイナス(−)極側の端子に電気
的に接続される。On the other hand, the individual electrode wirings 4
And switch means (not shown) such as a switching transistor provided inside a driver IC 5 to be described later and a ground electrode wiring 6.
And the like, it is electrically connected to a negative (−) pole side terminal of the external power supply.
【0016】尚、前記外部電源は、例えば、プラス
(+)極側の端子を24Vの電位に、またマイナス
(−)極側の端子を0Vの電位に保持するようになって
おり、これによって共通電極配線3及びグランド電極配
線6間に24Vの電位差を設け、この電位差に相当する
電圧を発熱素子2に印加することによって発熱素子2を
発熱・駆動する。The external power supply is adapted to hold, for example, a positive (+) pole side terminal at a potential of 24 V and a negative (-) pole side terminal at a 0 V potential. A 24V potential difference is provided between the common electrode wiring 3 and the ground electrode wiring 6, and a voltage corresponding to this potential difference is applied to the heating element 2 to generate and drive the heating element 2.
【0017】このような共通電極配線3及び個別電極配
線4は、アルミニウム等の金属を従来周知のスパッタリ
ング法及びフォトリソグラフィー技術等を採用し、所定
厚み、所定パターンに被着させることによって絶縁基板
1の上面に形成される。The common electrode wiring 3 and the individual electrode wiring 4 are made of a metal such as aluminum by using a conventionally well-known sputtering method and photolithography technique or the like to have a predetermined thickness and a predetermined pattern. Formed on the upper surface of the substrate.
【0018】また、前記個別電極配線4の一部上面には
IC接続用金メッキ層7が被着され、該IC接続用金メ
ッキ層7を介してドライバーIC5の出力端子5aに電
気的に接続される。前記ドライバーIC5は、その各々
が矩形状を成しており、長さ方向を発熱素子列と略平行
に配置して一列に並べられる。前記ドライバーIC5
は、その内部にスイッチングトランジスタ等のスイッチ
手段や外部からの印画データを保持するためのラッチ,
1ライン分の印画データをクロック信号に同期してシリ
アル転送するためのシフトレジスタ等を有しており、前
記発熱素子2を個々に選択的に発熱させる作用、より具
体的には、外部よりストローブ信号が供給されている
間、ラッチに格納されている印画データに基づいて、発
熱素子2に印加される電力のオン・オフを個々に制御す
る作用を為す。Further, a gold plating layer 7 for IC connection is applied to a part of the upper surface of the individual electrode wiring 4 and is electrically connected to the output terminal 5a of the driver IC 5 via the gold plating layer 7 for IC connection. . The driver ICs 5 each have a rectangular shape, and are arranged in a row with the length direction arranged substantially parallel to the heating element row. The driver IC5
Is a switch means such as a switching transistor, a latch for holding print data from outside,
A shift register for serially transferring the print data of one line in synchronization with a clock signal, and the like, and an operation of selectively heating the heating elements 2 individually; While the signal is being supplied, an operation of individually controlling the on / off of the power applied to the heating element 2 is performed based on the print data stored in the latch.
【0019】これら複数のドライバーIC5は、従来周
知のフェースダウンボンディング法を採用し、その下面
に設けられた複数個の端子5a,5bを後述するIC接
続用金メッキ層7を介して個別電極配線4やグランド電
極配線6等に半田接合させることによって絶縁基板1の
上面に取着・実装される。尚、この場合、前記絶縁基板
1の上面とドライバーIC5の下面との間には40〜5
0μm程度の隙間が形成されることとなる。The plurality of driver ICs 5 employ a conventionally known face-down bonding method, and a plurality of terminals 5a and 5b provided on the lower surface thereof are connected to individual electrode wirings 4 via an IC connection gold plating layer 7 described later. And is soldered to the ground electrode wiring 6 and the like, and is attached and mounted on the upper surface of the insulating substrate 1. In this case, between the upper surface of the insulating substrate 1 and the lower surface of the driver IC 5, 40 to 5
A gap of about 0 μm is formed.
【0020】また、前記絶縁基板1の上面には、前記ド
ライバーIC5のグランド端子5bに電気的に接続され
るグランド電極配線6が取着される。前記グランド電極
配線6は、一端側上面に前記ドライバーIC5のグラン
ド端子5bに半田接合するためのIC接続用金メッキ層
7が、他端側上面に外部配線基板11の配線(図示せ
ず)に半田接合するための外部接続用金メッキ層8がぞ
れぞれ被着されており、その一端側で前記ドライバーI
C5及び個別電極配線4を介して発熱素子2に電気的に
接続され、他端側で後述する外部配線基板11を介して
電源のマイナス(−)極側の端子に電気的に接続され
る。On the upper surface of the insulating substrate 1, a ground electrode wiring 6 electrically connected to a ground terminal 5b of the driver IC 5 is attached. The ground electrode wiring 6 has an IC connection gold plating layer 7 for soldering to the ground terminal 5b of the driver IC 5 on one end upper surface, and soldering to a wiring (not shown) of the external wiring board 11 on the other end upper surface. An external connection gold plating layer 8 for bonding is respectively attached, and the driver I
It is electrically connected to the heating element 2 via C5 and the individual electrode wiring 4, and is electrically connected at the other end to a terminal on the minus (-) pole side of the power supply via an external wiring board 11 described later.
【0021】また前記グランド電極配線6上に設けたI
C接続用金メッキ層7及び外部接続用金メッキ層8は、
グランド電極配線6をドライバーIC5のグランド端子
5bや外部配線基板11の配線に対して半田接合する
際、その半田濡れ性を良好になすためのものであり、こ
れら金メッキ層7,8が被着されている箇所でのみグラ
ンド電極配線6をドライバーIC5の端子5aや外部配
線基板11の配線に半田接合させる。前記IC接続用金
メッキ層7は、図3に示す如く、個々のグランド電極配
線6上に複数個ずつ、ドライバーIC5の長さ方向に沿
って一列に設けられる。Further, the I provided on the ground electrode wiring 6
The gold plating layer 7 for C connection and the gold plating layer 8 for external connection
When soldering the ground electrode wiring 6 to the ground terminal 5b of the driver IC 5 and the wiring of the external wiring board 11, this is for improving the solder wettability, and these gold plating layers 7, 8 are applied. The ground electrode wiring 6 is soldered to the terminal 5a of the driver IC 5 or the wiring of the external wiring board 11 only at the position where the wiring is provided. As shown in FIG. 3, a plurality of the gold plating layers 7 for IC connection are provided in a row on the individual ground electrode wirings 6 along the length direction of the driver IC 5.
【0022】尚、前記グランド電極配線6は、前述した
共通電極配線3や個別電極配線4と同様に、アルミニウ
ム等の金属を従来周知のスパッタリング法及びフォトリ
ソグラフィー技術等を採用し、所定厚み、所定パターン
に被着させることによって絶縁基板1の上面に形成され
る。The ground electrode wiring 6, like the common electrode wiring 3 and the individual electrode wiring 4, is made of a metal such as aluminum by a conventionally known sputtering method and photolithography technique, and has a predetermined thickness and a predetermined thickness. It is formed on the upper surface of the insulating substrate 1 by being attached to a pattern.
【0023】また前記IC接続用金メッキ層7及び外部
接続用金メッキ層8は、従来周知の電界メッキ法等を採
用し、グランド電極配線6上に2.0〜5.0μmの厚
みに被着させることによって同時に形成される。The gold plating layer 7 for IC connection and the gold plating layer 8 for external connection are adhered to the ground electrode wiring 6 to a thickness of 2.0 to 5.0 μm by using a conventionally known electroplating method or the like. Are formed at the same time.
【0024】そして、前記グランド電極配線6の表面
で、かつ前記IC接続用金メッキ層7と外部接続用金メ
ッキ層8との間の領域には、ドライバーIC5の長さ方
向と略平行に延びる帯状金メッキ層9aが形成される。On the surface of the ground electrode wiring 6 and in the region between the gold plating layer 7 for IC connection and the gold plating layer 8 for external connection, a band-like gold plating extending substantially parallel to the length direction of the driver IC 5 is provided. The layer 9a is formed.
【0025】前記帯状金メッキ層9aは、前述したIC
接続用金メッキ層7や外部接続用金メッキ層8と同一の
厚み(2.0〜5.0μm)で、かつ同質の金(Au)
により、複数個のIC接続用金メッキ層7と外部接続用
金メッキ層8との間に壁を作るように形成されており、
その一部を隣接するIC接続用金メッキ層7−7間の領
域に向かって延在させている。The band-shaped gold plating layer 9a is formed by the above-described IC.
Gold (Au) of the same thickness (2.0-5.0 μm) as the connection gold plating layer 7 and the external connection gold plating layer 8 and of the same quality
Thus, a wall is formed between the plurality of gold plating layers 7 for IC connection and the gold plating layer 8 for external connection,
A part thereof extends toward a region between the adjacent gold plating layers 7-7 for IC connection.
【0026】前記帯状金メッキ層9aは、後述する保護
樹脂10を形成するエポキシ樹脂(液状前駆体)の濡れ
性が悪いことから、保護樹脂10を絶縁基板1上に形成
する際、液状前駆体の流れを良好にせき止めて保護樹脂
10のエッジの位置を設定することができ、液状前駆体
が帯状金メッキ層9aを越えて外部配線基板11との半
田接合部に向かって広がろうとするのを有効に防止する
ことができる。この結果、外部配線基板11の半田付け
を行うにあたって外部接続用金メッキ層8の表面を良好
な状態で露出させておくことができるようになり、サー
マルヘッドの生産性が向上される。The band-shaped gold plating layer 9a has a poor wettability with an epoxy resin (liquid precursor) for forming the protective resin 10, which will be described later. The position of the edge of the protective resin 10 can be set by blocking the flow well, and it is effective that the liquid precursor tries to spread toward the solder joint with the external wiring board 11 beyond the band-shaped gold plating layer 9a. Can be prevented. As a result, the surface of the external connection gold plating layer 8 can be exposed in a good state when soldering the external wiring board 11, and the productivity of the thermal head is improved.
【0027】また前記帯状金メッキ層9aは、その一部
が隣接するIC接続用金メッキ層7−7間の領域に向か
って延在させていることから、保護樹脂10を絶縁基板
1上に形成する際、液状前駆体の一部をこの延在部Aに
沿って隣接するIC接続用金メッキ層7−7間の領域に
流し込み、保護樹脂10の一部を絶縁基板1の上面とド
ライバーIC5の下面との隙間に良好に充填させること
ができる。これにより、絶縁基板1とドライバーIC5
との間には殆ど気泡が存在しなくなり、液状前駆体を硬
化させる際の熱やサーマルヘッドの使用時の熱が印加さ
れてもドライバーIC5を良好に取着・実装させておく
ことができ、これによってもサーマルヘッドの生産性、
並びに信頼性を大幅に向上させることが可能となる。Since a part of the band-shaped gold plating layer 9a extends toward the region between the adjacent IC connection gold plating layers 7-7, the protective resin 10 is formed on the insulating substrate 1. At this time, a part of the liquid precursor is poured into the region between the adjacent gold plating layers 7-7 for IC connection along the extending portion A, and a part of the protective resin 10 is partially removed from the upper surface of the insulating substrate 1 and the lower surface of the driver IC5. Can be satisfactorily filled in the gaps between them. Thereby, the insulating substrate 1 and the driver IC 5
Almost no air bubbles exist between them, and even when heat for curing the liquid precursor or heat for using the thermal head is applied, the driver IC 5 can be attached and mounted well, This also increases the thermal head productivity,
In addition, the reliability can be greatly improved.
【0028】しかも、前記帯状金メッキ層9aは、IC
接続用金メッキ層7及び外部接続用金メッキ層8等と同
じ材質(メッキされた金)により形成されるため、これ
らの金メッキ層7,8,9aは全て同一の工程で同時に
形成することができ、これによってもサーマルヘッドの
生産性が高く維持される。Further, the band-shaped gold plating layer 9a is made of an IC.
Since it is formed of the same material (plated gold) as the connection gold plating layer 7 and the external connection gold plating layer 8, etc., these gold plating layers 7, 8, 9a can all be formed simultaneously in the same process. This also keeps the productivity of the thermal head high.
【0029】更に、図2や図3に示す如く、個別電極配
線4の一部上面にも個々に金メッキ層9bを被着させて
おけば、保護樹脂10を絶縁基板1上に形成する際、液
状前駆体の流れを発熱素子2側でも良好にせき止めるこ
とができ、これによって、保護樹脂10を形成するため
の液状前駆体の使用量を必要最小限に抑えることができ
る。従って個別電極配線4の一部上面にも個々に金メッ
キ層9bを被着させておくことが好ましい。Further, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, if a gold plating layer 9b is individually applied to a part of the upper surface of the individual electrode wiring 4 as well, when the protective resin 10 is formed on the insulating substrate 1, The flow of the liquid precursor can be satisfactorily blocked on the heating element 2 side as well, so that the amount of the liquid precursor used to form the protective resin 10 can be minimized. Therefore, it is preferable that the gold plating layer 9b is also individually applied to the upper surface of a part of the individual electrode wiring 4.
【0030】また更に、前記帯状金メッキ層9aや個別
電極配線4上の金メッキ層9bをIC接続用金メッキ層
7から200〜400μmだけ離れた位置に形成してお
くことにより、個々の金メッキ層7,9a,9bをより
正確にパターニングすることができる。従って帯状金メ
ッキ層9aや金メッキ層9bはIC接続用金メッキ層7
から200〜400μmだけ離れた位置に形成すること
が好ましい。Furthermore, by forming the band-shaped gold-plated layer 9a and the gold-plated layer 9b on the individual electrode wiring 4 at a position separated from the gold-plated layer 7 for IC connection by 200 to 400 μm, the individual gold-plated layers 7, 9a and 9b can be more accurately patterned. Therefore, the band-shaped gold plating layer 9a and the gold plating layer 9b are used as the gold plating layers 7 for IC connection.
Is preferably formed at a position 200 to 400 μm away from the substrate.
【0031】尚、前記帯状金メッキ層9aは、前述した
如く、従来周知の電界メッキ法等を採用し、グランド電
極配線6上に2.0〜5.0μmの厚みに被着させるこ
とによってIC接続用金メッキ層7及び外部接続用金メ
ッキ層8等と同時に形成される。The band-shaped gold plating layer 9a is connected to the ground electrode wiring 6 with a thickness of 2.0 to 5.0 μm by using a conventionally known electrolytic plating method or the like, as described above. It is formed simultaneously with the gold plating layer 7 for external use and the gold plating layer 8 for external connection.
【0032】そして、前述した複数個のドライバーIC
5は保護樹脂10によって共通に被覆される。前記保護
樹脂10は、エポキシ樹脂等から成り、複数個のドライ
バーIC5を大気中に含まれている水分等の接触による
腐食や感熱記録媒体の摺接等から保護することに加え、
印画に際して感熱紙等の感熱記録媒体をその表面で支持
することによって感熱記録媒体を発熱素子2上に案内す
るための案内部材としても機能する。The plurality of driver ICs described above
5 is commonly covered with a protective resin 10. The protective resin 10 is made of an epoxy resin or the like, and in addition to protecting the plurality of driver ICs 5 from corrosion due to contact with moisture or the like contained in the air, sliding contact with the thermosensitive recording medium, and the like,
By supporting a heat-sensitive recording medium such as heat-sensitive paper on its surface during printing, it also functions as a guide member for guiding the heat-sensitive recording medium onto the heating element 2.
【0033】尚、前記保護樹脂10は、例えばエポキシ
樹脂から成る場合、液状に成したエポキシ樹脂の前駆体
をディスペンサー等を用いて複数個のドライバーIC5
上に帯状に塗布し、これを100〜200℃の温度で加
熱・硬化させることによって複数個のドライバーIC5
を共通に被覆するように形成される。When the protective resin 10 is made of, for example, an epoxy resin, a plurality of driver ICs 5 are formed by using a liquid epoxy resin precursor by using a dispenser or the like.
A plurality of driver ICs 5 are applied in a strip shape on the upper side and heated and cured at a temperature of 100 to 200 ° C.
Are formed so as to cover the common.
【0034】そして更に、前記絶縁基板1の後端側に
は、外部配線基板11が半田接合される。前記外部配線
基板11は、フレキシブル印刷配線基板(FPC)等か
ら成り、その一端に取着されるコネクタ12を介してプ
リンタ本体等の外部電気回路に接続され、これによって
絶縁基板1上の発熱素子2やドライバーIC5等にプリ
ンタ本体からの電力や印画データ等の信号を供給するよ
うになっている。Further, on the rear end side of the insulating substrate 1, an external wiring substrate 11 is soldered. The external wiring board 11 is made of a flexible printed wiring board (FPC) or the like, and is connected to an external electric circuit such as a printer body via a connector 12 attached to one end of the external wiring board. 2 and the driver IC 5 are supplied with signals such as electric power and print data from the printer main body.
【0035】かくして上述した本発明のサーマルヘッド
は、ドライバーIC5の駆動に基づき、共通電極配線3
及び個別電極配線4間に印加される電源電力によって発
熱素子2を個々に選択的に発熱させるとともに、該発熱
した熱を感熱紙等の感熱記録媒体に伝導させ、感熱記録
媒体に印画データに対応した所定の印画を形成すること
によってサーマルヘッドとして機能する。Thus, the above-described thermal head of the present invention is driven by the driver IC 5 to drive the common electrode wiring 3
The heat generating elements 2 are selectively and individually heated by the power supply power applied between the individual electrode wirings 4, and the generated heat is transmitted to a heat-sensitive recording medium such as a heat-sensitive paper, so that the heat-sensitive recording medium corresponds to print data. By forming a predetermined printed image, it functions as a thermal head.
【0036】尚、本発明は上述の形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々
の変更、改良等が可能である。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.
【0037】例えば、上述の形態においてはグランド電
極配線6の上面に被着した複数個のIC接続用金メッキ
層7を一列に配列させたが、これに代えて千鳥状に配列
させても構わない。For example, in the above-described embodiment, the plurality of gold plating layers 7 for IC connection applied on the upper surface of the ground electrode wiring 6 are arranged in a line, but they may be arranged in a zigzag instead. .
【0038】また上述の形態において、グランド電極配
線6と各種金メッキ層7,8,9a,9bとの間に、両
者間の密着力を高く維持するために、ニッケル(Ni)
メッキ層やパラジウム(Pd)層などを介在させておい
ても良い。In the above embodiment, nickel (Ni) is applied between the ground electrode wiring 6 and the various gold plating layers 7, 8, 9a, 9b in order to maintain a high adhesion between them.
A plating layer, a palladium (Pd) layer, or the like may be interposed.
【0039】更に上述の形態においては帯状金メッキ層
9aの延在部Aを三角形状になしたが、これに代えて帯
状金メッキ層9aの延在部Aを矩形状になしても良い。Further, in the above-described embodiment, the extending portion A of the band-shaped gold plating layer 9a is formed in a triangular shape. Alternatively, the extending portion A of the band-shaped gold plating layer 9a may be formed in a rectangular shape.
【0040】また更に上述の形態においてはIC接続用
金メッキ層を四角形状になしたが、これに代えてIC接
続用金メッキ層を円形になしても構わない。Further, in the above embodiment, the gold plating layer for IC connection is formed in a square shape. Alternatively, the gold plating layer for IC connection may be made circular.
【0041】更にまた上述の形態において絶縁基板1上
の発熱素子2等を窒化珪素やガラス等から成る保護膜1
3で被覆しても良いことは勿論である。Further, in the above-described embodiment, the heating element 2 and the like on the insulating substrate 1 are replaced with the protective film 1 made of silicon nitride, glass or the like.
3 may of course be applied.
【0042】[0042]
【発明の効果】本発明のサーマルヘッドによれば、グラ
ンド電極配線の表面で、かつ前記IC接続用金メッキ層
と外部接続用金メッキ層との間の領域に、ドライバーI
Cの長さ方向と略平行に延びる帯状金メッキ層を形成し
たことから、保護樹脂を絶縁基板上に形成する際、保護
樹脂となる液状前駆体の流れを該前駆体の濡れ性が悪い
帯状金メッキ層によって良好にせき止め、保護樹脂のエ
ッジの位置を設定することができる。従って、外部配線
基板の半田付けを行うにあたって外部接続用金メッキ層
の表面を良好な状態で露出させておくことができ、サー
マルヘッドの生産性が向上されるようになる。According to the thermal head of the present invention, the driver I is provided on the surface of the ground electrode wiring and in the region between the gold plating layer for IC connection and the gold plating layer for external connection.
Since the band-shaped gold plating layer extending substantially in parallel with the length direction of C is formed, when the protective resin is formed on the insulating substrate, the flow of the liquid precursor serving as the protective resin causes the band-shaped gold plating having poor wettability of the precursor. The layer can provide good damping and the position of the edge of the protective resin can be set. Therefore, when the external wiring board is soldered, the surface of the external connection gold plating layer can be exposed in a favorable state, and the productivity of the thermal head can be improved.
【0043】また本発明のサーマルヘッドによれば、前
記IC接続用金メッキ層を複数個、設けるとともに、こ
れらIC接続用金メッキ層をドライバーICの長さ方向
に沿って一列もしくは千鳥状に配列し、前記帯状金メッ
キ層の一部を隣接するIC接続用金メッキ層間の領域に
向かって延在させて形成することにより、保護樹脂を絶
縁基板上に形成する際、液状前駆体の一部をこの延在部
に沿ってドライバーICと絶縁基板との隙間に流し込
み、保護樹脂の一部を良好に充填することができる。よ
って、絶縁基板とドライバーICとの間には殆ど気泡が
存在しなくなり、液状前駆体を硬化させる際の熱やサー
マルヘッドの使用時の熱が印加されてもドライバーIC
を良好に取着・実装させておくことができ、これによっ
てもサーマルヘッドの生産性、並びに信頼性が大幅に向
上される。According to the thermal head of the present invention, a plurality of the gold plating layers for IC connection are provided, and the gold plating layers for IC connection are arranged in a row or in a staggered manner along the length direction of the driver IC. By forming a part of the strip-shaped gold plating layer toward an area between the adjacent gold plating layers for IC connection, when the protective resin is formed on the insulating substrate, a part of the liquid precursor is extended by this extension. It flows into the gap between the driver IC and the insulating substrate along the portion, and a part of the protective resin can be filled well. Therefore, almost no air bubbles exist between the insulating substrate and the driver IC, and even if heat for curing the liquid precursor or heat for using the thermal head is applied, the driver IC is not used.
Can be satisfactorily attached and mounted, which also greatly improves the productivity and reliability of the thermal head.
【0044】更に本発明のサーマルヘッドによれば、前
記帯状金メッキ層は、IC接続用金メッキ層や外部接続
用金メッキ層と同じ金メッキにより形成されるため、こ
れらの金メッキ層を全て同一の工程で同時に形成するこ
とができ、サーマルヘッドの生産性が高く維持される。Further, according to the thermal head of the present invention, since the band-shaped gold plating layer is formed by the same gold plating as the gold plating layer for IC connection and the gold plating layer for external connection, all of these gold plating layers are simultaneously formed in the same step. And the productivity of the thermal head is kept high.
【図1】本発明の一形態にかかるサーマルヘッドの平面
図である。FIG. 1 is a plan view of a thermal head according to one embodiment of the present invention.
【図2】図1のX−X線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line XX of FIG.
【図3】図1のサーマルヘッドに設けられる各種金メッ
キ層のパターンを示す要部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a main part showing patterns of various gold plating layers provided on the thermal head of FIG. 1;
【図4】従来のサーマルヘッドの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a conventional thermal head.
1・・・絶縁基板 2・・・発熱素子 3・・・共通電極配線 4・・・個別電極配線 5・・・ドライバーIC 5b・・端子 6・・・グランド電極配線 7・・・IC接続用金メッキ層 8・・・外部接続用金メッキ層 9a・・帯状金メッキ層 10・・・保護樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating board 2 ... Heating element 3 ... Common electrode wiring 4 ... Individual electrode wiring 5 ... Driver IC 5b ... Terminal 6 ... Ground electrode wiring 7 ... IC connection Gold plating layer 8 ... Gold plating layer for external connection 9a ... Belt-shaped gold plating layer 10 ... Protective resin
Claims (2)
線状に配列した発熱素子列と、該発熱素子の各一端に接
続される共通電極配線と、前記発熱素子の各他端に接続
される複数個の個別電極配線と、前記個別電極配線に電
気的に接続され、前記発熱素子列と略平行に配置される
矩形状のドライバーICと、一端側上面に前記ドライバ
ーICの端子に半田接合するためのIC接続用金メッキ
層が、他端側上面に外部配線基板の配線に半田接合する
ための外部接続用金メッキ層が被着され、前記ドライバ
ーIC及び個別電極配線を介して発熱素子に電気的に接
続されるグランド電極配線と、前記ドライバーICを被
覆する保護樹脂と、を取着させて成り、前記共通電極配
線及びグランド電極配線間に印加される電源電力によっ
て前記発熱素子を発熱・駆動させるサーマルヘッドであ
って、 前記グランド電極配線の表面で、かつ前記IC接続用金
メッキ層と外部接続用金メッキ層との間の領域に、ドラ
イバーICの長さ方向と略平行に延びる帯状金メッキ層
を形成し、該帯状金メッキ層で前記保護樹脂のエッジの
位置を設定したことを特徴とするサーマルヘッド。1. A heating element array in which a plurality of heating elements are linearly arranged on an upper surface of an insulating substrate; a common electrode wiring connected to one end of each of the heating elements; A plurality of individual electrode wirings to be connected; a rectangular driver IC electrically connected to the individual electrode wirings and arranged substantially in parallel with the heating element row; A gold-plated layer for IC connection for solder bonding, and a gold-plated layer for external connection for solder bonding to wiring of an external wiring board are attached on the upper surface of the other end side, and a heating element is provided via the driver IC and the individual electrode wiring. And a protection resin for covering the driver IC. The heating element is turned on by power supplied between the common electrode wiring and the ground electrode wiring. A thermal head to be heated and driven, comprising: a band extending substantially parallel to the length direction of the driver IC on a surface of the ground electrode wiring and in a region between the gold plating layer for IC connection and the gold plating layer for external connection. A thermal head, wherein a gold plating layer is formed, and the position of the edge of the protective resin is set by the band-shaped gold plating layer.
ド電極配線上に複数個、設けるとともに、これらIC接
続用金メッキ層をドライバーICの長さ方向に沿って一
列もしくは千鳥状に配列し、前記帯状金メッキ層の一部
を隣接するIC接続用金メッキ層間の領域に向かって延
在せしめたことを特徴とする請求項1に記載のサーマル
ヘッド。2. A plurality of gold plating layers for IC connection are provided on a single ground electrode wiring, and the gold plating layers for IC connection are arranged in a row or in a staggered manner along the length direction of the driver IC. 2. The thermal head according to claim 1, wherein a part of the band-shaped gold plating layer extends toward a region between the adjacent gold plating layers for IC connection.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4600798A JPH11240190A (en) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | Thermal head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4600798A JPH11240190A (en) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | Thermal head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11240190A true JPH11240190A (en) | 1999-09-07 |
Family
ID=12735022
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JP4600798A Pending JPH11240190A (en) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | Thermal head |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH11240190A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-02-26 JP JP4600798A patent/JPH11240190A/en active Pending
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