JP5958710B2 - 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 - Google Patents
親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5958710B2 JP5958710B2 JP2013505949A JP2013505949A JP5958710B2 JP 5958710 B2 JP5958710 B2 JP 5958710B2 JP 2013505949 A JP2013505949 A JP 2013505949A JP 2013505949 A JP2013505949 A JP 2013505949A JP 5958710 B2 JP5958710 B2 JP 5958710B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- meth
- monomer
- hyperbranched polymer
- glycol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920000587 hyperbranched polymer Polymers 0.000 title claims description 156
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 183
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 150
- -1 ethylhexyl Chemical group 0.000 claims description 90
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 44
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 41
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 33
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 1-octadecoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCCCCCCCC HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 9
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- GEJHIUFJTCYNSC-UHFFFAOYSA-N methyl 1-[(1-methoxycarbonylcyclohexyl)diazenyl]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CCCCC1(C(=O)OC)N=NC1(C(=O)OC)CCCCC1 GEJHIUFJTCYNSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 claims description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 claims description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- IIRDTKBZINWQAW-UHFFFAOYSA-N hexaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCO IIRDTKBZINWQAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 101
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 72
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 44
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 39
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 38
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 38
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 31
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 22
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 20
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 17
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 17
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 16
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 11
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- QMSGNLMBWFRALO-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4-dichlorophenyl)-7-hydroxy-4H-chromen-4-one Chemical compound C=1C(O)=CC=C(C2=O)C=1OC=C2C1=CC=C(Cl)C=C1Cl QMSGNLMBWFRALO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 6
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005888 antibody-dependent cellular phagocytosis Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-5-methylpyridine-2-carbonitrile Chemical compound CC1=CN=C(C#N)C(Br)=C1 WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- SFLRURCEBYIKSS-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-[[1-(butylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCCC SFLRURCEBYIKSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 3
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)COC(=O)C=C VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical class CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100040409 Ameloblastin Human genes 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000891247 Homo sapiens Ameloblastin Proteins 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- RABVYVVNRHVXPJ-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)-1-adamantyl]methanol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(CO)CC2(CO)C3 RABVYVVNRHVXPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical group C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWMFAFLIWMPZSX-UHFFFAOYSA-N bis[2-(4,5-dihydro-1h-imidazol-2-yl)propan-2-yl]diazene Chemical compound N=1CCNC=1C(C)(C)N=NC(C)(C)C1=NCCN1 LWMFAFLIWMPZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUGLVWDSALSXCF-UHFFFAOYSA-N decane;methanol Chemical compound OC.OC.CCCCCCCCCC TUGLVWDSALSXCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJQIXGGEADDPQB-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)-3,4-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=C(C=C)C(C=C)=C1C ZJQIXGGEADDPQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFEVZXQWFHVLGO-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)-9h-carbazole Chemical compound C1=CC=C2NC3=C(C=C)C(C=C)=CC=C3C2=C1 DFEVZXQWFHVLGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POIHBQZRXFDOPO-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C=C)C(C=C)=C3CC2=C1 POIHBQZRXFDOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=C)C(C=C)=CC=C21 QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCBVELLBUAKUNE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)NC(=O)N(CC=C)C1=O UCBVELLBUAKUNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical class CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-ethenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)C(F)(F)COC(=O)C=C VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCMUPMSEVHVOSE-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(ethenyl)pyridine Chemical compound C=CC1=CC=CN=C1C=C FCMUPMSEVHVOSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLSRKCIBHNJFHA-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C(F)(F)F VLSRKCIBHNJFHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJGLWGBXQWRFCX-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-imino-2-methyl-1-pyrrolidin-1-ylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methyl-1-pyrrolidin-1-ylpropan-1-imine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1CCCN1C(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=N)N1CCCC1 MJGLWGBXQWRFCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLGNMOUJXWELKK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HLGNMOUJXWELKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 2-cyanopropan-2-yliminourea Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(N)=O CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 2-methyloctane-1,8-diol Chemical compound OCC(C)CCCCCCO SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMBRHGJEDJVDOB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanimidamide;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.CC(C)C(N)=N SMBRHGJEDJVDOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXAAQNFGSQKPDZ-UHFFFAOYSA-N 3-[1,2,2-tris(prop-2-enoxy)ethoxy]prop-1-ene Chemical compound C=CCOC(OCC=C)C(OCC=C)OCC=C BXAAQNFGSQKPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSXGCUHREZFSRY-UHFFFAOYSA-N 3-[[1-amino-2-[[1-amino-1-(2-carboxyethylimino)-2-methylpropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropylidene]amino]propanoic acid;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.OC(=O)CCNC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=N)NCCC(O)=O BSXGCUHREZFSRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAKGDPSCXSUALC-UHFFFAOYSA-N 3-methylbuta-1,2-diene Chemical compound CC(C)=C=C PAKGDPSCXSUALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSZARHUCMHICLD-UHFFFAOYSA-N 4,6-bis(prop-2-enoxy)-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical compound C=CCOC=1N=C(OCC=C)NC(=O)N=1 VSZARHUCMHICLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGAIBVLCUXWQRE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-carboxy-2-cyanobutan-2-yl)diazenyl]-4-cyanopentanoic acid methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC.OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N AGAIBVLCUXWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QNQYUTWVHLLURN-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.CO.CO.CCCCCCCCCC Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.CO.CO.CCCCCCCCCC QNQYUTWVHLLURN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFYGPXFSMHZZFB-UHFFFAOYSA-N C1CCC(CC1)(C#N)N=NC2CCCCC2C#N Chemical compound C1CCC(CC1)(C#N)N=NC2CCCCC2C#N IFYGPXFSMHZZFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233805 Phoenix Species 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-BUHFOSPRSA-N V-59 Substances CCC(C)(C#N)\N=N\C(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N V-65 Substances CC(C)CC(C)(C#N)\N=N\C(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N [1-[(1-acetyloxy-1-phenylethyl)diazenyl]-1-phenylethyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(OC(=O)C)N=NC(C)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C(C)=C OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIDSTKCJKFHLZ-UHFFFAOYSA-N [4-(prop-2-enoyloxymethyl)cyclohexyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCC(COC(=O)C=C)CC1 KUIDSTKCJKFHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(O)C3 MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WPKWPKDNOPEODE-UHFFFAOYSA-N bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)diazene Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)N=NC(C)(C)CC(C)(C)C WPKWPKDNOPEODE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORZGJQJXBLFGRP-WAYWQWQTSA-N bis(ethenyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=COC(=O)\C=C/C(=O)OC=C ORZGJQJXBLFGRP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- PVESJTCZIRKKLC-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) 2-methylidenebutanedioate Chemical compound C=COC(=O)CC(=C)C(=O)OC=C PVESJTCZIRKKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWICIOVOJVNAIJ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC=C)=C1 FWICIOVOJVNAIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N bis(prop-2-enyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- FPODCVUTIPDRTE-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) hexanedioate Chemical compound C=CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC=C FPODCVUTIPDRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- PJWNIOJGDLTZPK-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;methanol Chemical compound OC.O=C1CCCCC1 PJWNIOJGDLTZPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOJPTQRKWVDKTP-UHFFFAOYSA-N decane methanol prop-2-enoic acid Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.CO.CO.CCCCCCCCCC ZOJPTQRKWVDKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical group CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- KHAYCTOSKLIHEP-UHFFFAOYSA-N docosyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C KHAYCTOSKLIHEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008206 lipophilic material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002819 montanyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WVFLGSMUPMVNTQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-[[1-(2-hydroxyethylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCO WVFLGSMUPMVNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGISVZCMXHOHO-UHFFFAOYSA-N n-[1,3-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)propan-2-yl]-2-[[1-[[1,3-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)propan-2-yl]amino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCC(CO)(CO)NC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NC(CO)(CO)CO BUGISVZCMXHOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRNGPYHLQSTDL-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-[[1-(cyclohexylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound C1CCCCC1NC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NC1CCCCC1 WMRNGPYHLQSTDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N nonan-5-one Chemical compound CCCCC(=O)CCCC WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- DBSDMAPJGHBWAL-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-ylbenzene Chemical compound C=CC(C=C)C1=CC=CC=C1 DBSDMAPJGHBWAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002954 polymerization reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1818—C13or longer chain (meth)acrylate, e.g. stearyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/34—Monomers containing two or more unsaturated aliphatic radicals
- C08F212/36—Divinylbenzene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F22/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
- C08F22/10—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/106—Esters of polycondensation macromers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F257/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F267/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00
- C08F267/06—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00 on to polymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/04—Azo-compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
- C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
Description
本発明は親油性高分岐ポリマーに関し、詳細には樹脂の表面改質剤として用いることができる長鎖アルキル基または脂環基を有する高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物に関する。
ポリマー（高分子）材料は、近年、他分野でますます利用されている。それに伴い、それぞれの分野に応じて、マトリックスとしてポリマー性状とともに、その表面や界面の特性が重要となっている。例えば表面自由エネルギーの低いフッ素系化合物を表面改質剤として用いることにより、撥水撥油性、防汚性、非粘着性、剥離性、離型性、滑り性、耐磨耗性、反射防止特性、耐薬品性などの界面制御に関する特性の向上が期待され、種々提案されている。
フッ素系ポリマーはＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、タッチパネルなどの各種ディスプレイの表面の、傷付き防止のためのハードコート層を具備する各種プラスチックフィルムの最表面層に多く使用され、指紋痕や汚れ付着の防止、付着した指紋痕や汚れを簡単に除去する材料として利用され始めている。
しかしながら、従来の材料では、携帯電話のような顔の皮脂に直接接触する用途、あるいはタッチパネルのように繰り返し指の接触する用途では、依然として指紋痕や汚れが付着しやすく、かつ撥水撥油性のため、付着した汚れをはじき、かえって指紋痕や皮脂などの汚れが目立ってしまうという問題があった。また、指紋痕や皮脂汚れを除去する目的でディスプレイ表面を布やティッシュペーパーで擦った際、指紋痕や皮脂汚れが微小液滴となって光の乱反射を引き起こし表面が白く濁って見えてしまい、拭き取り後において拭き取り前より一層汚れが目立ってしまうという問題もあった。
一方で、指紋や皮脂成分の汚れをなじませることで汚れを目立たなくする、親油性ポリマーを用いたコート剤についても研究が行われている。例えば、特許文献１では、脂肪族系アクリルモノマーの反応によって合成したグラフトポリマーが開示されている。
上記の通り、親油性材料について各種研究されているが、これら材料の、皮脂の主成分であるオレイン酸の接触角は１０度程度と耐指紋性には不十分であり、さらなる親油性材料が望まれていた。
また、上記特許文献１に記載の材料で用いられる長鎖脂肪族系アクリルモノマーは結晶性が高いため、線状ポリマーでは有機溶媒に対する溶解性が低く、有機溶媒を用いて成膜するプロセスへの適用は困難であった。
すなわち、有機溶媒に対する高い溶解性を有し、マトリックスポリマー添加時には十分な透明性を保持し、また高い親油性（耐指紋性）を付与する表面改質効果を有する化合物が求められていた。
また、上記特許文献１に記載の材料で用いられる長鎖脂肪族系アクリルモノマーは結晶性が高いため、線状ポリマーでは有機溶媒に対する溶解性が低く、有機溶媒を用いて成膜するプロセスへの適用は困難であった。
すなわち、有機溶媒に対する高い溶解性を有し、マトリックスポリマー添加時には十分な透明性を保持し、また高い親油性（耐指紋性）を付与する表面改質効果を有する化合物が求められていた。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、高分岐ポリマーに長鎖アルキル基や脂環基を導入して得られる親油性高分岐ポリマーを、樹脂の表面改質剤として採用することにより、有機溶媒に対する溶解性に優れるだけでなく、マトリックス樹脂に対する混合・分散性に優れ、マトリックス樹脂中で凝集を起こさず、表面改質性に優れた高い透明性を有する塗膜が得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、第１観点として、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる、親油性高分岐ポリマーに関する。
第２観点として、前記モノマーＡが、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方又は双方を有する化合物である、第１観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第３観点として、前記モノマーＡが、ジビニル化合物又はジ（メタ）アクリレート化合物である、第２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第４観点として、前記モノマーＡが、炭素原子数３〜３０の脂環基を有する化合物である、第３観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第５観点として、前記モノマーＡが、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートである、第４観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第６観点として、前記モノマーＡが、下記式［１］で表される化合物である、第３観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
（式［１］中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ1はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数２〜１２のアルキレン基を表し、ｍは１〜３０の整数を表す。）
第７観点として、前記Ｌ1がエチレン基である、第６観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第８観点として、前記モノマーＡのモル数に対して５〜３００モル％の量の前記モノマーＢを用いて得られる、第１観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第９観点として、前記モノマーＢが、下記式［２］で表される化合物である、第８観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
（式［２］中、Ｒ2は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は炭素原子数６〜３０のアルキル基又は炭素原子数３〜３０の脂環基を表し、Ｌ2は炭素原子数２〜６のアルキレン基を表し、ｎは０〜３０の整数を表す。）
第１０観点として、前記ｎが０である、第９観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１１観点として、前記Ｌ2がエチレン基である、第９観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１２観点として、前記重合開始剤Ｃが、アゾ系重合開始剤である、第１観点乃至第１１観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１３観点として、前記重合開始剤Ｃが、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）である、第１２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１４観点として、前記重合開始剤Ｃが、ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）である、第１２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１５観点として、第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーを含有するワニスに関する。
第１６観点として、第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーからなる薄膜に関する。
第１７観点として、（ａ）第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物に関する。
第１８観点として、前記（ａ）親油性高分岐ポリマーの含有量が、前記（ｂ）光重合性化合物１００質量部に対して０．０１〜２０質量部である、第１７観点に記載の光重合性組成物に関する。
第１９観点として、前記（ｂ）光重合性化合物が、多官能（メタ）アクリレート化合物である、第１８観点に記載の光重合性組成物に関する。
第２０観点として、前記（ｂ）光重合性化合物が、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートである、第１９観点に記載の光重合性組成物に関する。
第２１観点として、第１７観点乃至第２０観点のうち何れか一項に記載の光重合性組成物を光重合させて作製される樹脂成形品に関する。
第２２観点として、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることを特徴とする、親油性高分岐ポリマーの製造方法に関する。
第２観点として、前記モノマーＡが、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方又は双方を有する化合物である、第１観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第３観点として、前記モノマーＡが、ジビニル化合物又はジ（メタ）アクリレート化合物である、第２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第４観点として、前記モノマーＡが、炭素原子数３〜３０の脂環基を有する化合物である、第３観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第５観点として、前記モノマーＡが、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートである、第４観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第６観点として、前記モノマーＡが、下記式［１］で表される化合物である、第３観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第７観点として、前記Ｌ1がエチレン基である、第６観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第８観点として、前記モノマーＡのモル数に対して５〜３００モル％の量の前記モノマーＢを用いて得られる、第１観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第９観点として、前記モノマーＢが、下記式［２］で表される化合物である、第８観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１０観点として、前記ｎが０である、第９観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１１観点として、前記Ｌ2がエチレン基である、第９観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１２観点として、前記重合開始剤Ｃが、アゾ系重合開始剤である、第１観点乃至第１１観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１３観点として、前記重合開始剤Ｃが、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）である、第１２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１４観点として、前記重合開始剤Ｃが、ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）である、第１２観点に記載の親油性高分岐ポリマーに関する。
第１５観点として、第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーを含有するワニスに関する。
第１６観点として、第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーからなる薄膜に関する。
第１７観点として、（ａ）第１観点乃至第１４観点のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物に関する。
第１８観点として、前記（ａ）親油性高分岐ポリマーの含有量が、前記（ｂ）光重合性化合物１００質量部に対して０．０１〜２０質量部である、第１７観点に記載の光重合性組成物に関する。
第１９観点として、前記（ｂ）光重合性化合物が、多官能（メタ）アクリレート化合物である、第１８観点に記載の光重合性組成物に関する。
第２０観点として、前記（ｂ）光重合性化合物が、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートである、第１９観点に記載の光重合性組成物に関する。
第２１観点として、第１７観点乃至第２０観点のうち何れか一項に記載の光重合性組成物を光重合させて作製される樹脂成形品に関する。
第２２観点として、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることを特徴とする、親油性高分岐ポリマーの製造方法に関する。
本発明の親油性高分岐ポリマーは、積極的に枝分かれ構造を導入しているため、線状高分子と比較して分子間の絡み合いが少なく、微粒子的挙動を示し、有機溶媒及び樹脂に対する分散性が高い。このため、本発明の親油性高分岐ポリマーを樹脂の表面改質剤として用いた場合、マトリックス樹脂中において、親油性高分岐ポリマーの凝集を防ぎ、さらに、表面に移動しやすいため、樹脂表面に表面改質性を付与しやすい。従って、親油性高分岐ポリマーを樹脂組成物に添加することで、樹脂本来の透明性を損なうことなく、該樹脂組成物から得られる塗膜に優れた親油性（耐指紋性）などの表面改質性を付与することができる。
＜親油性高分岐ポリマー＞
本発明の親油性高分岐ポリマーは、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる。また該高分岐ポリマーは、いわゆる開始剤断片組込型高分岐ポリマーであり、その末端に重合に使用した重合開始剤Ｃの断片を有している。
さらに、本発明の親油性高分岐ポリマーは、本発明の効果を損わない限り、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーを、必要に応じて共重合させてもよい。
本発明の親油性高分岐ポリマーは、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる。また該高分岐ポリマーは、いわゆる開始剤断片組込型高分岐ポリマーであり、その末端に重合に使用した重合開始剤Ｃの断片を有している。
さらに、本発明の親油性高分岐ポリマーは、本発明の効果を損わない限り、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーを、必要に応じて共重合させてもよい。
［モノマーＡ］
本発明において、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡは、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方又は双方を有することが好ましく、特にジビニル化合物又はジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、特に下記式［１］で表される化合物が好ましい。
（式［１］中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ1はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数２〜１２のアルキレン基を表し、ｍは１〜３０の整数を表す。）
本発明において、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡは、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方又は双方を有することが好ましく、特にジビニル化合物又はジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、特に下記式［１］で表される化合物が好ましい。
前記Ｌ1が表すヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数２〜１２のアルキレン基としては、エチレン基、トリメチレン基、２−ヒドロキシトリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、ノナメチレン基、２−メチルオクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基等が挙げられる。
その中でも、表面改質効果の観点から、エチレン基が好ましい。
その中でも、表面改質効果の観点から、エチレン基が好ましい。
また、前記モノマーＡは、炭素原子数３〜３０の脂環基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。
なお、本発明では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。
このようなモノマーＡとしては、例えば、以下の（Ａ１）〜（Ａ５）に示した有機化合物が例示される。
（Ａ１）ビニル系炭化水素類：
（Ａ１−１）脂肪族ビニル系炭化水素類；イソプレン、ブタジエン、３−メチル−１，２−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，２−ポリブタジエン、ペンタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン等
（Ａ１−２）脂環式ビニル系炭化水素類；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン等
（Ａ１−３）芳香族ビニル系炭化水素類；ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン、ジビニルフルオレン、ジビニルカルバゾール、ジビニルピリジン等
（Ａ２）ビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルケトン類：
（Ａ２−１）ビニルエステル類；アジピン酸ジビニル、マレイン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、イソフタル酸ジビニル、イタコン酸ジビニル、ビニル（メタ）アクリレート等
（Ａ２−２）アリルエステル類；マレイン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、アリル（メタ）アクリレート等
（Ａ２−３）ビニルエーテル類；ジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等
（Ａ２−４）アリルエーテル類；ジアリルエーテル、ジアリルオキシエタン、トリアリルオキシエタン、テトラアリルオキシエタン、テトラアリルオキシプロパン、テトラアリルオキシブタン、テトラメタリルオキシエタン等
（Ａ２−５）ビニルケトン類；ジビニルケトン、ジアリルケトン等
（Ａ３）（メタ）アクリル酸エステル類：
（Ａ３−１）脂肪族（メタ）アクリル酸エステル類；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、２−ヒドロキシ−１−アクリロイルオキシ−３−メタクリロイルオキシプロパン、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等
（Ａ３−２）脂環基を有する（メタ）アクリル酸エステル類；１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、（２−（１−（（メタ）アクリロイルオキシ）−２−メチルプロパン−２−イル）−５−エチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メチル（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等
（Ａ３−３）芳香族（メタ）アクリル酸エステル類；
エトキシ化ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート、ビス［４−（メタ）アクリロイルチオフェニル］スルフィド、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等
（Ａ３−４）ポリアルキレングリコール鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル類；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４など）、ビス［２−（メタ）アクリロイルチオエチル］スルフィド、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４など）、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート（テトラメチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９など）等
（Ａ４）含窒素ビニル系化合物：
ジアリルアミン、ジアリルイソシアヌレート、ジアリルシアヌレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、ビスマレイミド等
（Ａ１）ビニル系炭化水素類：
（Ａ１−１）脂肪族ビニル系炭化水素類；イソプレン、ブタジエン、３−メチル−１，２−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，２−ポリブタジエン、ペンタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン等
（Ａ１−２）脂環式ビニル系炭化水素類；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン等
（Ａ１−３）芳香族ビニル系炭化水素類；ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン、ジビニルフルオレン、ジビニルカルバゾール、ジビニルピリジン等
（Ａ２）ビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルケトン類：
（Ａ２−１）ビニルエステル類；アジピン酸ジビニル、マレイン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、イソフタル酸ジビニル、イタコン酸ジビニル、ビニル（メタ）アクリレート等
（Ａ２−２）アリルエステル類；マレイン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、アリル（メタ）アクリレート等
（Ａ２−３）ビニルエーテル類；ジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等
（Ａ２−４）アリルエーテル類；ジアリルエーテル、ジアリルオキシエタン、トリアリルオキシエタン、テトラアリルオキシエタン、テトラアリルオキシプロパン、テトラアリルオキシブタン、テトラメタリルオキシエタン等
（Ａ２−５）ビニルケトン類；ジビニルケトン、ジアリルケトン等
（Ａ３）（メタ）アクリル酸エステル類：
（Ａ３−１）脂肪族（メタ）アクリル酸エステル類；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、２−ヒドロキシ−１−アクリロイルオキシ−３−メタクリロイルオキシプロパン、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等
（Ａ３−２）脂環基を有する（メタ）アクリル酸エステル類；１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、（２−（１−（（メタ）アクリロイルオキシ）−２−メチルプロパン−２−イル）−５−エチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メチル（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等
（Ａ３−３）芳香族（メタ）アクリル酸エステル類；
エトキシ化ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート、ビス［４−（メタ）アクリロイルチオフェニル］スルフィド、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等
（Ａ３−４）ポリアルキレングリコール鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル類；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４など）、ビス［２−（メタ）アクリロイルチオエチル］スルフィド、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４など）、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート（テトラメチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９など）等
（Ａ４）含窒素ビニル系化合物：
ジアリルアミン、ジアリルイソシアヌレート、ジアリルシアヌレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、ビスマレイミド等
これらのうち好ましいものは、上記（Ａ１−３）群の芳香族ビニル系炭化水素類、（Ａ２）群のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルエーテル類、アリルエーテル類及びビニルケトン類、（Ａ３）群の（メタ）アクリル酸エステル類、並びに（Ａ４）群の含窒素ビニル系化合物である。
特に好ましいのは、（Ａ１−３）群に属するジビニルベンゼン、（Ａ２−２）群に属するフタル酸ジアリル、（Ａ３−１）群に属するエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（Ａ３−２）群に属する１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、（Ａ３−４）群に属するノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及び（Ａ４）群に属するメチレンビス（メタ）アクリルアミドである。これらの中でもジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが好ましく、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。
特に好ましいのは、（Ａ１−３）群に属するジビニルベンゼン、（Ａ２−２）群に属するフタル酸ジアリル、（Ａ３−１）群に属するエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（Ａ３−２）群に属する１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、（Ａ３−４）群に属するノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及び（Ａ４）群に属するメチレンビス（メタ）アクリルアミドである。これらの中でもジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロパン、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが好ましく、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。
［モノマーＢ］
本発明において、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢは、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方を少なくとも１つ有することが好ましく、特に下記式［２］で表される化合物が好ましい。
（式［２］中、Ｒ2は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は炭素原子数６〜３０のアルキル基又は炭素原子数３〜３０の脂環基を表し、Ｌ2は炭素原子数２〜６のアルキレン基を表し、ｎは０〜３０の整数を表す。）
本発明において、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢは、ビニル基又は（メタ）アクリル基の何れか一方を少なくとも１つ有することが好ましく、特に下記式［２］で表される化合物が好ましい。
前記Ｒ3が表す炭素原子数６〜３０のアルキル基としては、ヘキシル基、エチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イソステアリル基、アラキル基、ベヘニル基、リグノセリル基、セロトイル基、モンタニル基、メリッシル基等が挙げられる。
そのなかでも、アルキル基の炭素原子数は、表面改質効果の観点から、好ましくは１０〜３０であり、より好ましくは１２〜２４である。また、前記Ｒ3が表すアルキル基は直鎖状又は分岐状であっても、樹脂本来の透明性を損わずに、本発明の親油性高分岐ポリマーを含む樹脂組成物から得られる塗膜に優れた親油性（耐指紋性）などの表面改質性を付与することができる。より優れた親油性（耐指紋性）を塗膜に付与することができるため、Ｒ3は直鎖状アルキル基であることが好ましい。
そのなかでも、アルキル基の炭素原子数は、表面改質効果の観点から、好ましくは１０〜３０であり、より好ましくは１２〜２４である。また、前記Ｒ3が表すアルキル基は直鎖状又は分岐状であっても、樹脂本来の透明性を損わずに、本発明の親油性高分岐ポリマーを含む樹脂組成物から得られる塗膜に優れた親油性（耐指紋性）などの表面改質性を付与することができる。より優れた親油性（耐指紋性）を塗膜に付与することができるため、Ｒ3は直鎖状アルキル基であることが好ましい。
前記Ｒ3が表す炭素原子数３〜３０の脂環基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、イソボルニル基、ノルボルネニル基、メンシル基、アダマンチル基、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル基等が挙げられる。
そのなかでも、表面改質効果の観点から、好ましくは炭素原子数３〜１４の脂環基であり、より好ましくは炭素原子数６〜１２の脂環基である。
そのなかでも、表面改質効果の観点から、好ましくは炭素原子数３〜１４の脂環基であり、より好ましくは炭素原子数６〜１２の脂環基である。
前記Ｌ2が表す炭素原子数２〜６のアルキレン基としては、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
その中でも、表面改質効果の観点から、エチレン基が好ましい。
その中でも、表面改質効果の観点から、エチレン基が好ましい。
ｎは表面改質効果の観点から、０であることが好ましい。
このようなモノマーＢとしては、例えば、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３，５，５−トリメチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、パルミチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、シクロプロピル（メタ）アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、メンシル（メタ）アクリレート、アダマンタン（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン（メタ）アクリレート、２−ヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ラウリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ステアリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらモノマーＢは単独で使用してもよいし、２種類以上を併用しても構わない。
本発明において、前記モノマーＡと前記モノマーＢを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、好ましくは前記モノマーＡのモル数に対して前記モノマーＢ５〜３００モル％、より好ましくは１０〜１５０モル％である。
［その他のモノマー］
本発明において、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーは、分子内に１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーであれば特に制限はないが、ビニル化合物又は（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
このようなモノマーとしては、例えば以下の（１）〜（３）に示す化合物を挙げることができる。
（１）含フッ素モノマー；２−（トリフルオロメチル）アクリル酸、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等
（２）含ケイ素モノマー；３−（トリエトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（ジメトキシ（メチル）シリル）プロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、トリス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、ジメトキシ＝メチル＝ビニルシラン、４−（トリメトキシシリル）スチレン等
（３）アルキレングリコール系モノマー；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝（メタ）アクリレート（エチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３など）、ポリプロピレングリコール＝モノメチルエーテル＝（メタ）アクリレート（プロピレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３など）等
本発明において、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーは、分子内に１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーであれば特に制限はないが、ビニル化合物又は（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
このようなモノマーとしては、例えば以下の（１）〜（３）に示す化合物を挙げることができる。
（１）含フッ素モノマー；２−（トリフルオロメチル）アクリル酸、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等
（２）含ケイ素モノマー；３−（トリエトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（ジメトキシ（メチル）シリル）プロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、トリス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、ジメトキシ＝メチル＝ビニルシラン、４−（トリメトキシシリル）スチレン等
（３）アルキレングリコール系モノマー；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝（メタ）アクリレート（エチレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３など）、ポリプロピレングリコール＝モノメチルエーテル＝（メタ）アクリレート（プロピレングリコールユニット数：２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３など）等
［重合開始剤Ｃ］
本発明における重合開始剤Ｃとしては、好ましくはアゾ系重合開始剤が用いられる。アゾ系重合開始剤としては、例えば以下の（１）〜（５）に示す化合物を挙げることができる。
（１）アゾニトリル化合物；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル等
（２）アゾアミド化合物；２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［２−（１−ヒドロキシブチル）］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）等
（３）環状アゾアミジン化合物；２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジスルフェートジヒドレート、２，２’−アゾビス［２−［１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル］プロパン］ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（１−イミノ−１−ピロリジノ−２−メチルプロパン）ジヒドロクロリド等
（４）アゾアミジン化合物；２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］テトラヒドレート等
（５）その他；２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリン酸）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）、ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）等
本発明における重合開始剤Ｃとしては、好ましくはアゾ系重合開始剤が用いられる。アゾ系重合開始剤としては、例えば以下の（１）〜（５）に示す化合物を挙げることができる。
（１）アゾニトリル化合物；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル等
（２）アゾアミド化合物；２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［２−（１−ヒドロキシブチル）］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）等
（３）環状アゾアミジン化合物；２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジスルフェートジヒドレート、２，２’−アゾビス［２−［１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル］プロパン］ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（１−イミノ−１−ピロリジノ−２−メチルプロパン）ジヒドロクロリド等
（４）アゾアミジン化合物；２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］テトラヒドレート等
（５）その他；２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリン酸）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）、ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）等
上記アゾ系重合開始剤の中でも、得られる親油性高分岐ポリマーの表面エネルギーの観点から、アルキル基や脂環基を有するものが望ましく、特に２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）及びジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）が好ましい。
前記重合開始剤Ｃは、前記モノマーＡのモル数に対して、５〜２００モル％の量で使用され、好ましくは１５〜２００モル％、より好ましくは１５〜１７０モル％、さらに好ましくは５０〜１００モル％の量で使用される。
＜親油性高分岐ポリマーの製造方法＞
本発明の親油性高分岐ポリマーは、前述のモノマーＡとモノマーＢとを、該モノマーＡに対して所定量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させて得られる。該重合方法としては公知の方法、例えば、溶液重合、分散重合、沈殿重合、塊状重合等が挙げられ、中でも溶液重合又は沈殿重合が好ましい。特に分子量制御の点から、有機溶媒中での溶液重合によって反応を実施することが好ましい。
本発明の親油性高分岐ポリマーは、前述のモノマーＡとモノマーＢとを、該モノマーＡに対して所定量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させて得られる。該重合方法としては公知の方法、例えば、溶液重合、分散重合、沈殿重合、塊状重合等が挙げられ、中でも溶液重合又は沈殿重合が好ましい。特に分子量制御の点から、有機溶媒中での溶液重合によって反応を実施することが好ましい。
このとき用いられる有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭化水素類；塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、メチレンジクロライド、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン化物；酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類又はエステルエーテル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、ジ−ｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、並びにこれら２種以上からなる混合溶媒が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、芳香族炭化水素類、ハロゲン化物、エステル類、エステルエーテル類、エーテル類、ケトン類、アルコール類、アミド類、スルホキシド類等であり、特に好ましいものはトルエン、キシレン、オルトジクロロベンゼン、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，４−ジオキサン、メチルセロソルブ、イソブチルメチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等である。
上記重合反応を有機溶媒の存在下で行う場合、重合反応物全体における有機溶媒の含量は、前記モノマーＡの１質量部に対し、好ましくは１〜１００質量部、さらに好ましくは５〜５０質量部である。
重合反応は常圧、加圧密閉下又は減圧下で行われ、装置及び操作の簡便さから常圧下で行うのが好ましい。また、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
重合反応の温度は、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは７０〜１５０℃、又は７０〜１３０℃である。より好ましくは、重合反応の温度は前述の重合開始剤Ｃの１０時間半減期温度より２０℃以上高い温度で実施され、より具体的には、前記モノマーＡ、前記モノマーＢ、前記重合開始剤Ｃ及び有機溶媒を含む溶液を、該重合開始剤Ｃの１０時間半減期温度より２０℃以上高い温度に保たれた該有機溶媒中へ滴下することにより、重合反応を行うことが好ましい。また、さらにより好ましくは反応圧力下での前記有機溶媒の還流温度で重合反応を実施することが好ましい。
重合反応の終了後、得られた親油性高分岐ポリマーを任意の方法で回収し、必要に応じて洗浄等の後処理を行なう。反応溶液からポリマーを回収する方法としては、再沈殿等の方法が挙げられる。
重合反応は常圧、加圧密閉下又は減圧下で行われ、装置及び操作の簡便さから常圧下で行うのが好ましい。また、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
重合反応の温度は、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは７０〜１５０℃、又は７０〜１３０℃である。より好ましくは、重合反応の温度は前述の重合開始剤Ｃの１０時間半減期温度より２０℃以上高い温度で実施され、より具体的には、前記モノマーＡ、前記モノマーＢ、前記重合開始剤Ｃ及び有機溶媒を含む溶液を、該重合開始剤Ｃの１０時間半減期温度より２０℃以上高い温度に保たれた該有機溶媒中へ滴下することにより、重合反応を行うことが好ましい。また、さらにより好ましくは反応圧力下での前記有機溶媒の還流温度で重合反応を実施することが好ましい。
重合反応の終了後、得られた親油性高分岐ポリマーを任意の方法で回収し、必要に応じて洗浄等の後処理を行なう。反応溶液からポリマーを回収する方法としては、再沈殿等の方法が挙げられる。
得られた親油性高分岐ポリマーの重量平均分子量（以下Ｍｗと略記）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で、好ましくは１，０００〜２００，０００、さらに好ましくは２，０００〜１００，０００、最も好ましくは５，０００〜６０，０００である。
＜ワニス及び薄膜の製造方法＞
本発明の親油性高分岐ポリマーからなる薄膜を形成する具体的な方法としては、まず、親油性高分岐ポリマーを溶媒に溶解又は分散してワニスの形態（膜形成材料）とし、該ワニスを基材上にキャストコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、インクジェット法、印刷法（凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等）等によって塗布して塗膜を得る。得られた塗膜は、必要に応じてホットプレート、オーブン等で乾燥して成膜してもよい。
これらの塗布方法の中でもスピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いる場合には、単時間で塗布することができるために、揮発性の高い溶液であっても利用でき、また、均一性の高い塗布を行うことができるという利点がある。
また前記基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよい。
本発明の親油性高分岐ポリマーからなる薄膜を形成する具体的な方法としては、まず、親油性高分岐ポリマーを溶媒に溶解又は分散してワニスの形態（膜形成材料）とし、該ワニスを基材上にキャストコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、インクジェット法、印刷法（凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等）等によって塗布して塗膜を得る。得られた塗膜は、必要に応じてホットプレート、オーブン等で乾燥して成膜してもよい。
これらの塗布方法の中でもスピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いる場合には、単時間で塗布することができるために、揮発性の高い溶液であっても利用でき、また、均一性の高い塗布を行うことができるという利点がある。
また前記基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよい。
上記ワニスの形態において使用する溶媒としては、親油性高分岐ポリマーを溶解するものであればよく、例えば、トルエン、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ヘキサフルオロプロピル＝ヘキサフルオロ−２−ペンチル＝エーテル、アセトン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等が挙げられる。これら溶媒は単独で使用してもよく、２種類以上の溶媒を混合してもよい。
また上記溶媒に親油性高分岐ポリマーを溶解又は分散させる濃度は任意であるが、親油性高分岐ポリマーと溶媒の総質量（合計質量）に対して、親油性高分岐ポリマーの濃度は０．００１〜９０質量％であり、好ましくは０．００２〜８０質量％であり、より好ましくは０．００５〜７０質量％である。
形成された親油性高分岐ポリマーからなる薄膜の厚さは特に限定されないが、通常０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０５〜２０μｍである。
また上記溶媒に親油性高分岐ポリマーを溶解又は分散させる濃度は任意であるが、親油性高分岐ポリマーと溶媒の総質量（合計質量）に対して、親油性高分岐ポリマーの濃度は０．００１〜９０質量％であり、好ましくは０．００２〜８０質量％であり、より好ましくは０．００５〜７０質量％である。
形成された親油性高分岐ポリマーからなる薄膜の厚さは特に限定されないが、通常０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０５〜２０μｍである。
＜光重合性組成物及びそれより作製される成形品＞
本発明はまた、（ａ）前記親油性高分岐ポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物に関する。
本発明はまた、（ａ）前記親油性高分岐ポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物に関する。
［（ｂ）光重合性化合物］
上記（ｂ）光重合性化合物としては、光重合開始剤の作用によって重合する重合性の部位を分子内に１個以上、好ましくは１〜１０個有する化合物であれば特に制限はない。なお、本発明における重合性化合物の意味するところは、所謂高分子物質でない化合物であり、狭義の単量体化合物（モノマー）だけでなく、二量体、三量体、オリゴマーや反応性高分子をも包含するものである。
上記（ｂ）光重合性化合物としては、光重合開始剤の作用によって重合する重合性の部位を分子内に１個以上、好ましくは１〜１０個有する化合物であれば特に制限はない。なお、本発明における重合性化合物の意味するところは、所謂高分子物質でない化合物であり、狭義の単量体化合物（モノマー）だけでなく、二量体、三量体、オリゴマーや反応性高分子をも包含するものである。
重合性の部位としては、例えば、ラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合が挙げられる。従って、光重合性化合物としては、ラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。
これらの化合物の中でも、エチレン性不飽和結合の部位を有する（メタ）アクリル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
このような重合性化合物としては、例えば、前述のモノマーＡで例示した（Ａ３）群の（メタ）アクリル酸エステル類の他、多官能ウレタンアクリレート化合物等を挙げることができる。これらの中でも、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、エトキシ化ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート等が好ましく、特にトリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが望ましい。
これらの化合物の中でも、エチレン性不飽和結合の部位を有する（メタ）アクリル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
このような重合性化合物としては、例えば、前述のモノマーＡで例示した（Ａ３）群の（メタ）アクリル酸エステル類の他、多官能ウレタンアクリレート化合物等を挙げることができる。これらの中でも、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、エトキシ化ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート等が好ましく、特にトリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが望ましい。
上記光重合性組成物において、（ａ）親油性高分岐ポリマーと（ｂ）光重合性化合物の配合割合は、好ましくは（ｂ）光重合性化合物１００質量部に対して（ａ）親油性高分岐ポリマー０．０１〜２０質量部であり、より好ましくは０．１〜２０質量部である。
［（ｃ）光重合開始剤］
上記（ｃ）光重合開始剤としては公知のものが使用することが可能であり、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。具体的には、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７、同１８４、同３６９、同５００、同６５１、同７８４、同９０７、同８１９、同１０００、同１３００、同１７００、同１８００、同１８５０、同２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３、同ＭＢＦ［以上ＢＡＳＦ社製］、アデカオプトマーＣＰ−７７［ＡＤＥＫＡ（株）製］、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）１７２０［ラムバーティ社製］等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。このような光重合開始剤は複数種を組み合わせて用いることもできる。
上記（ｃ）光重合開始剤としては公知のものが使用することが可能であり、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。具体的には、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７、同１８４、同３６９、同５００、同６５１、同７８４、同９０７、同８１９、同１０００、同１３００、同１７００、同１８００、同１８５０、同２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３、同ＭＢＦ［以上ＢＡＳＦ社製］、アデカオプトマーＣＰ−７７［ＡＤＥＫＡ（株）製］、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）１７２０［ラムバーティ社製］等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。このような光重合開始剤は複数種を組み合わせて用いることもできる。
上記光重合性組成物において、前記（ｃ）光重合開始剤の添加量は、好ましくは（ｂ）光重合性化合物１００質量部に対して０．１〜２０質量部であり、より好ましくは０．５〜１０質量部である。上記範囲内であれば、光透過率を低下することなく、（ｂ）光重合性化合物を重合させることができる。
［その他の添加剤］
上記光重合性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて一般的に添加される添加剤、例えば、光増感剤、重合禁止剤、重合開始剤、レベリング剤、界面活性剤、密着性付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、貯蔵安定剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料等を適宜配合してもよい。
上記光重合性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて一般的に添加される添加剤、例えば、光増感剤、重合禁止剤、重合開始剤、レベリング剤、界面活性剤、密着性付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、貯蔵安定剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料等を適宜配合してもよい。
［光硬化成形品の製造方法］
本発明の上記光重合性組成物は、基材上にコーティングして光重合（硬化）させることにより、硬化膜や積層体などの成形品を成すことができる。前記基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよい。
本発明の光重合性組成物のコーティング方法は、先に＜ワニス及び薄膜の製造方法＞で述べた各種塗布方法などを用いることができる。なお事前に孔径が０．２μｍ程度のフィルタなどを用いて光重合性組成物を濾過した後、コーティングに供することが好ましい。
コーティング後、好ましくは続いてホットプレート、オーブン等で予備乾燥した後、紫外線等の活性光線を照射して光硬化させる。活性光線としては、紫外線、電子線、Ｘ線等が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が使用できる。その後、ポストベークを行うことにより、具体的にはホットプレート、オーブン等を用いて加熱することにより重合を完結させることができる。
なお、コーティングによる膜の厚さは特に限定されないが、乾燥、硬化後において、通常０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０５〜２０μｍである。
本発明の上記光重合性組成物は、基材上にコーティングして光重合（硬化）させることにより、硬化膜や積層体などの成形品を成すことができる。前記基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよい。
本発明の光重合性組成物のコーティング方法は、先に＜ワニス及び薄膜の製造方法＞で述べた各種塗布方法などを用いることができる。なお事前に孔径が０．２μｍ程度のフィルタなどを用いて光重合性組成物を濾過した後、コーティングに供することが好ましい。
コーティング後、好ましくは続いてホットプレート、オーブン等で予備乾燥した後、紫外線等の活性光線を照射して光硬化させる。活性光線としては、紫外線、電子線、Ｘ線等が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が使用できる。その後、ポストベークを行うことにより、具体的にはホットプレート、オーブン等を用いて加熱することにより重合を完結させることができる。
なお、コーティングによる膜の厚さは特に限定されないが、乾燥、硬化後において、通常０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０５〜２０μｍである。
以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。
（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
カラム：昭和電工（株）製 Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標） ＫＦ−８０４Ｌ、ＫＦ−８０５Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
検出器：ＲＩ
（２）13Ｃ ＮＭＲスペクトル
装置：日本電子データム（株）製 ＪＮＭ−ＥＣＡ７００
溶媒：ＣＤＣｌ3
基準：ＣＤＣｌ3（７７．０ｐｐｍ）
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）測定
装置：ＮＥＴＺＳＣＨ社製 ＤＳＣ２０４ Ｆ１ Ｐｈｏｅｎｉｘ（登録商標）
測定条件：窒素雰囲気下
昇温速度：５℃／分（２５−１６０℃）
（４）５％重量減少時温度（Ｔｄ5%）測定
装置：（株）リガク製 ＴＧ８１２０
測定条件：空気雰囲気下
昇温速度：１０℃／分（２５−５００℃）
（５）スピンコーター
装置：ミカサ（株）製 ＭＳ−Ａ１００
（６）エリプソメトリー（屈折率及び膜厚測定）
装置：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製 ＥＣ−４００
（７）接触角測定
装置：ＡＳＴ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製 ＶＣＡ Ｏｐｔｉｍａ
測定温度：２０℃
（８）ヘーズメーター（全光透過率及びＨＡＺＥ測定）
装置：日本電色工業（株）製 ＮＤＨ５０００
（９）ＵＶ照射装置
装置：アイグラフィックス（株）製 Ｈ０２−Ｌ４１
装置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
カラム：昭和電工（株）製 Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標） ＫＦ−８０４Ｌ、ＫＦ−８０５Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
検出器：ＲＩ
（２）13Ｃ ＮＭＲスペクトル
装置：日本電子データム（株）製 ＪＮＭ−ＥＣＡ７００
溶媒：ＣＤＣｌ3
基準：ＣＤＣｌ3（７７．０ｐｐｍ）
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）測定
装置：ＮＥＴＺＳＣＨ社製 ＤＳＣ２０４ Ｆ１ Ｐｈｏｅｎｉｘ（登録商標）
測定条件：窒素雰囲気下
昇温速度：５℃／分（２５−１６０℃）
（４）５％重量減少時温度（Ｔｄ5%）測定
装置：（株）リガク製 ＴＧ８１２０
測定条件：空気雰囲気下
昇温速度：１０℃／分（２５−５００℃）
（５）スピンコーター
装置：ミカサ（株）製 ＭＳ−Ａ１００
（６）エリプソメトリー（屈折率及び膜厚測定）
装置：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製 ＥＣ−４００
（７）接触角測定
装置：ＡＳＴ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製 ＶＣＡ Ｏｐｔｉｍａ
測定温度：２０℃
（８）ヘーズメーター（全光透過率及びＨＡＺＥ測定）
装置：日本電色工業（株）製 ＮＤＨ５０００
（９）ＵＶ照射装置
装置：アイグラフィックス（株）製 Ｈ０２−Ｌ４１
また、略記号は以下の意味を表す。
ＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＤＣＰ］
ＡＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＤＣＰ］
Ｓ１６４：両末端メタクリル変性シリコーンオイル［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＸ−２２−１６４］
ＣＨＡ：１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート［サートマー・ジャパン（株）製 ＣＤ４０６］
ＤＭＡ：エチレングリコールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 １Ｇ］
ＰＧ：２−ヒドロキシ−１，３−ジメタクリロイルオキシプロパン［新中村化学工業（株）製 ７０１］
ＮＰＧ：２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイルジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＰＧ］
ＨＤＮ：１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＨＤ−Ｎ］
ＡＨＤＮ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＨＤ−Ｎ］
９ＤＭＡ：ノナエチレングリコールジメタクリレート［日油（株）製 ブレンマーＰＤＥ−４００］
ＤＶＢ：ジビニルベンゼン［新日鐵化学（株）製 ＤＶＢ−９６０］
ＬＡ：ラウリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＬＡ］
ＳＴＡ：ステアリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＳＴＡ］
ＩＳＴＡ：イソステアリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＩＳＴＡ］
ＢＡ：ベヘニルアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＢＨ］
４ＥＯＬ：テトラエチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝アクリレート［日油（株）製 ブレンマーＡＬＥ−２００］
ＴＭＳＭＡ：３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＫＢＭ−５０３］
ＴＥＳＭＡ：３−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＫＢＥ−５０３］
４ＥＯ：テトラエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝メタクリレート［日油（株）製 ブレンマーＰＭＥ−２００］
９ＥＯ：ノナエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝アクリレート［日油（株）製 ブレンマーＡＭＥ−４００］
Ｃ１ＦＡ：２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ビスコート３Ｆ］
ＡＤＶＮ：２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）［和光純薬工業（株）製 Ｖ−６５］
ＤＣＨＣ：ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）［和光純薬工業（株）製 ＶＥ−０７３］
ＡＭＢＮ：２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）［和光純薬工業（株）製 Ｖ−５９］
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート［日本化薬（株）製 カヤラッドＤＰＨＡ］
ＢＳ５７５：６官能ウレタンアクリレート［荒川化学工業（株）製 ビームセット５７５］
ＵＡ３０６Ｈ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｈ］
ＵＡ３０６Ｉ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｉ］
ＵＡ３０６Ｔ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｔ］
ＵＶ１７００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−１７００Ｂ］
ＵＶ６３００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−６３００Ｂ］
ＵＶ７６００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−７６００Ｂ］
ＵＶ７６０５：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−７６０５Ｂ］
Ｉｒｇ．９０７：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）［ＢＡＳＦ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７］
ＺＸ：市販親油性表面改質剤［（株）ティーアンドケイ東華製 ＺＸ−０５８−Ａ］
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＭＩＢＫ：４−メチル−２−ペンタノン（イソブチルメチルケトン）
ＡｃＯＢｕ：酢酸ブチル
ＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＤＣＰ］
ＡＤＣＰ：トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＤＣＰ］
Ｓ１６４：両末端メタクリル変性シリコーンオイル［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＸ−２２−１６４］
ＣＨＡ：１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート［サートマー・ジャパン（株）製 ＣＤ４０６］
ＤＭＡ：エチレングリコールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 １Ｇ］
ＰＧ：２−ヒドロキシ−１，３−ジメタクリロイルオキシプロパン［新中村化学工業（株）製 ７０１］
ＮＰＧ：２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイルジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＮＰＧ］
ＨＤＮ：１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製 ＨＤ−Ｎ］
ＡＨＤＮ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＨＤ−Ｎ］
９ＤＭＡ：ノナエチレングリコールジメタクリレート［日油（株）製 ブレンマーＰＤＥ−４００］
ＤＶＢ：ジビニルベンゼン［新日鐵化学（株）製 ＤＶＢ−９６０］
ＬＡ：ラウリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＬＡ］
ＳＴＡ：ステアリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＳＴＡ］
ＩＳＴＡ：イソステアリルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ＩＳＴＡ］
ＢＡ：ベヘニルアクリレート［新中村化学工業（株）製 Ａ−ＢＨ］
４ＥＯＬ：テトラエチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝アクリレート［日油（株）製 ブレンマーＡＬＥ−２００］
ＴＭＳＭＡ：３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＫＢＭ−５０３］
ＴＥＳＭＡ：３−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン［信越化学工業（株）製 信越シリコーンＫＢＥ−５０３］
４ＥＯ：テトラエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝メタクリレート［日油（株）製 ブレンマーＰＭＥ−２００］
９ＥＯ：ノナエチレングリコール＝モノメチルエーテル＝アクリレート［日油（株）製 ブレンマーＡＭＥ−４００］
Ｃ１ＦＡ：２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製 ビスコート３Ｆ］
ＡＤＶＮ：２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）［和光純薬工業（株）製 Ｖ−６５］
ＤＣＨＣ：ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）［和光純薬工業（株）製 ＶＥ−０７３］
ＡＭＢＮ：２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）［和光純薬工業（株）製 Ｖ−５９］
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート［日本化薬（株）製 カヤラッドＤＰＨＡ］
ＢＳ５７５：６官能ウレタンアクリレート［荒川化学工業（株）製 ビームセット５７５］
ＵＡ３０６Ｈ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｈ］
ＵＡ３０６Ｉ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｉ］
ＵＡ３０６Ｔ：６官能ウレタンアクリレート［共栄社化学（株）製 ＵＡ−３０６Ｔ］
ＵＶ１７００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−１７００Ｂ］
ＵＶ６３００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−６３００Ｂ］
ＵＶ７６００：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−７６００Ｂ］
ＵＶ７６０５：多官能ウレタンアクリレート［日本合成化学工業（株）製 紫光（登録商標）ＵＶ−７６０５Ｂ］
Ｉｒｇ．９０７：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）［ＢＡＳＦ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７］
ＺＸ：市販親油性表面改質剤［（株）ティーアンドケイ東華製 ＺＸ−０５８−Ａ］
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＭＩＢＫ：４−メチル−２−ペンタノン（イソブチルメチルケトン）
ＡｃＯＢｕ：酢酸ブチル
［実施例１］ＤＣＰ、ＬＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１の製造
２００ｍＬの反応フラスコに、トルエン５３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み、内液が還流するまで（およそ１１０℃）加熱した。
別の１００ｍＬの反応フラスコに、モノマーＡとしてＤＣＰ６．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＬＡ２．４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）及びトルエン５３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み窒素置換を行い、氷浴にて０℃まで冷却を行った。
前述の２００ｍＬ反応フラスコ中の還流してあるトルエン中に、ＤＣＰ、ＬＡ、ＡＤＶＮが仕込まれた前記１００ｍＬの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１時間撹拌した。
次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いて仕込んだトルエンのおよそ８０％（８０ｇ）を留去後、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）３３０ｇに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１）６．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，８００、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は３．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
２００ｍＬの反応フラスコに、トルエン５３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み、内液が還流するまで（およそ１１０℃）加熱した。
別の１００ｍＬの反応フラスコに、モノマーＡとしてＤＣＰ６．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＬＡ２．４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）及びトルエン５３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み窒素置換を行い、氷浴にて０℃まで冷却を行った。
前述の２００ｍＬ反応フラスコ中の還流してあるトルエン中に、ＤＣＰ、ＬＡ、ＡＤＶＮが仕込まれた前記１００ｍＬの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１時間撹拌した。
次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いて仕込んだトルエンのおよそ８０％（８０ｇ）を留去後、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）３３０ｇに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１）６．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，８００、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は３．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
［実施例２］ＤＣＰ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２の製造
実施例１において、モノマーＢとしてさらにＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２）６．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてさらにＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２）６．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
［実施例３］ＤＣＰ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３）５．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３）５．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３に示す。
［実施例４］ＤＣＰ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー４の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ６．５ｇ（２０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８７ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー４）５．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，２００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ６．５ｇ（２０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８７ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー４）５．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，２００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
［実施例５］ＤＣＰ、ＳＴＡ、ＴＥＳＭＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー５の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ２．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー５）５．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図５に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ２．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー５）５．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図５に示す。
［実施例６］ＤＣＰ、ＩＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー６の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＩＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー６）４．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図６に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＩＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー６）４．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図６に示す。
［実施例７］ＤＣＰ、ＩＳＴＡ、ＴＥＳＭＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー７の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＩＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ２．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー７）４．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図７に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＩＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ２．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を追加した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー７）４．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図７に示す。
［実施例８］ＤＣＰ、ＢＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー８の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー８）５．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー８）５．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
［実施例９］ＤＣＰ、ＢＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー９の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各１００ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー９）４．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは６，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図９に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各１００ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー９）４．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは６，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図９に示す。
［実施例１０］ＤＣＰ、ＢＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１０の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ７．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１０）７．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１０に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ７．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１０）７．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１０に示す。
［実施例１１］ＤＣＰ、ＳＴＡ、ＤＣＨＣを用いた高分岐ポリマー１１の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各１００ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１１）３．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは５，７００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１１に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各１００ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１１）３．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは５，７００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１１に示す。
［実施例１２］ＤＣＰ、ＢＡ、ＤＣＨＣを用いた高分岐ポリマー１２の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８０ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１２）７．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは６，５００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１２に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ３．８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８０ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１２）７．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは６，５００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１２に示す。
［実施例１３］ＤＣＰ、ＢＡ、ＤＣＨＣを用いた高分岐ポリマー１３の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ７．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８０ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１３）１３．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１３に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＢＡ７．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＤＣＨＣ３．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各８０ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１３）１３．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１３に示す。
［実施例１４］ＨＤＮ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１４の製造
実施例１において、モノマーＡとしてＨＤＮ５．１ｇ（２０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各６６ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を３０５ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１４）１．９ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１４に示す。
実施例１において、モノマーＡとしてＨＤＮ５．１ｇ（２０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各６６ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を３０５ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１４）１．９ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１４に示す。
［実施例１５］ＤＶＢ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１５の製造
実施例１において、モノマーＡとしてＤＶＢ３．９ｇ（３０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＬＡ３．６ｇ（１５ｍｍｏｌ）及びＳＴＡ４．９ｇ（１５ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ６．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各７８ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を２３４ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１５）４．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１５に示す。
実施例１において、モノマーＡとしてＤＶＢ３．９ｇ（３０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＬＡ３．６ｇ（１５ｍｍｏｌ）及びＳＴＡ４．９ｇ（１５ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ６．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各７８ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を２３４ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１５）４．１ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１５に示す。
［実施例１６］ＤＶＢ、ＩＳＴＡ、ＡＭＢＮを用いた高分岐ポリマー１６の製造
実施例１において、モノマーＡとしてＤＶＢ３．９ｇ（３０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＩＳＴＡ４．９ｇ（１５ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＭＢＮ３．５ｇ（１８ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各７８ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を２３４ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１６）５．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１６に示す。
実施例１において、モノマーＡとしてＤＶＢ３．９ｇ（３０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとしてＩＳＴＡ４．９ｇ（１５ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＭＢＮ３．５ｇ（１８ｍｍｏｌ）を使用し、トルエンの使用量を各７８ｇに、ヘキサン／エタノール混合液（質量比１：２）の使用量を２３４ｇに変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１６）５．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１６に示す。
［実施例５１］ＤＣＰ、４ＥＯＬ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１８の製造
２００ｍＬの反応フラスコに、トルエン３３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み、内液が還流するまで（およそ１１０℃）加熱した。
別の１００ｍＬの反応フラスコに、モノマーＡとしてＤＣＰ３．３ｇ（１０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとして４ＥＯＬ１．２ｇ（３ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ１．５ｇ（６ｍｍｏｌ）及びトルエン３３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み窒素置換を行った。
前述の２００ｍＬ反応フラスコ中の還流してあるトルエン中に、ＤＣＰ、４ＥＯＬ、ＡＤＶＮが仕込まれた前記１００ｍＬの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１時間撹拌した。
次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いて仕込んだトルエンのおよそ８０％（５３ｇ）を留去後、メタノール／水混合液（質量比９：１）１６６ｇに添加してポリマーを沈殿させた。ここからデカンテーションにより上澄み液を除去し、残渣をＴＨＦ１３ｇに溶解させた。この溶液を再度メタノール／水混合液（質量比９：１）１６６ｇで再沈殿、デカンテーションし、残渣をＴＨＦ１３ｇに溶解させた。この溶液を減圧留去し、真空乾燥して、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１８）２．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，１００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１８に示す。
２００ｍＬの反応フラスコに、トルエン３３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み、内液が還流するまで（およそ１１０℃）加熱した。
別の１００ｍＬの反応フラスコに、モノマーＡとしてＤＣＰ３．３ｇ（１０ｍｍｏｌ）、モノマーＢとして４ＥＯＬ１．２ｇ（３ｍｍｏｌ）、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ１．５ｇ（６ｍｍｏｌ）及びトルエン３３ｇを仕込み、撹拌しながら５分間窒素を流し込み窒素置換を行った。
前述の２００ｍＬ反応フラスコ中の還流してあるトルエン中に、ＤＣＰ、４ＥＯＬ、ＡＤＶＮが仕込まれた前記１００ｍＬの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１時間撹拌した。
次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いて仕込んだトルエンのおよそ８０％（５３ｇ）を留去後、メタノール／水混合液（質量比９：１）１６６ｇに添加してポリマーを沈殿させた。ここからデカンテーションにより上澄み液を除去し、残渣をＴＨＦ１３ｇに溶解させた。この溶液を再度メタノール／水混合液（質量比９：１）１６６ｇで再沈殿、デカンテーションし、残渣をＴＨＦ１３ｇに溶解させた。この溶液を減圧留去し、真空乾燥して、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１８）２．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，１００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１８に示す。
［実施例５２］ＤＣＰ、４ＥＯＬ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１９の製造
実施例５１において、４ＥＯＬの使用量を２．９ｇ（７ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１９）２．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１９に示す。
実施例５１において、４ＥＯＬの使用量を２．９ｇ（７ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１９）２．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１９に示す。
［実施例５３］ＤＣＰ、ＳＴＡ、４ＥＯＬ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２０の製造
実施例５１において、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）及び４ＥＯＬ１．７ｇ（４ｍｍｏｌ）を使用し、再沈殿溶媒をエタノール／水混合液（質量比９：１）各１６６ｇに変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２０）２．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２０に示す。
実施例５１において、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）及び４ＥＯＬ１．７ｇ（４ｍｍｏｌ）を使用し、再沈殿溶媒をエタノール／水混合液（質量比９：１）各１６６ｇに変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２０）２．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２０に示す。
［実施例５４］ＤＣＰ、ＬＡ、ＴＭＳＭＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２１の製造
実施例５１において、モノマーＢとしてＬＡ１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＭＳＭＡ０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、反応溶媒をＭＩＢＫ各５７ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１６５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２１）１．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，９００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２１に示す。
実施例５１において、モノマーＢとしてＬＡ１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＴＭＳＭＡ０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、反応溶媒をＭＩＢＫ各５７ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１６５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２１）１．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，９００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２１に示す。
［実施例５５］ＤＣＰ、ＬＡ、４ＥＯ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２２の製造
実施例５１において、モノマーＢとしてＬＡ１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとして４ＥＯ１．４ｇ（５ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２２）０．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２２に示す。
実施例５１において、モノマーＢとしてＬＡ１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとして４ＥＯ１．４ｇ（５ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２２）０．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１３，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２２に示す。
［実施例５６］ＤＣＰ、ＳＴＡ、９ＥＯ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２３の製造
実施例５１において、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとして９ＥＯ１．４ｇ（３ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、再沈殿溶媒をエタノール／水混合液（質量比９：１）各１６６ｇに変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２３）２．２ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２３に示す。
実施例５１において、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとして９ＥＯ１．４ｇ（３ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、再沈殿溶媒をエタノール／水混合液（質量比９：１）各１６６ｇに変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２３）２．２ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１１，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２３に示す。
［実施例５７］ＤＣＰ、ＳＴＡ、Ｃ１ＦＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２４の製造
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＣ１ＦＡ０．９ｇ（６ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、トルエンの使用量を各１００ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各３３２ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２４）５．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２４に示す。
実施例１において、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、さらにその他モノマーとしてＣ１ＦＡ０．９ｇ（６ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、トルエンの使用量を各１００ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各３３２ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２４）５．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２４に示す。
［実施例５８］ＤＣＰ、Ｓ１６４、ＳＴＡ、ＴＭＳＭＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２５の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＣＰ２．７ｇ（８ｍｍｏｌ）及びＳ１６４ ０．９ｇ（２ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、さらにその他モノマーとしてＴＭＳＭＡ０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、反応溶媒をＭＩＢＫ各５７ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１７７ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２５）０．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，４００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２５に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＣＰ２．７ｇ（８ｍｍｏｌ）及びＳ１６４ ０．９ｇ（２ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、さらにその他モノマーとしてＴＭＳＭＡ０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、反応溶媒をＭＩＢＫ各５７ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１７７ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２５）０．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，４００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２５に示す。
［実施例５９］ＡＤＣＰ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２６の製造
実施例１において、モノマーＡとしてＡＤＣＰ３．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ０．３ｇ（１ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．７ｇ（７ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各４５ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１５１ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２６）２．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，５００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２６に示す。
実施例１において、モノマーＡとしてＡＤＣＰ３．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ０．３ｇ（１ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．７ｇ（７ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各４５ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１５１ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２６）２．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，５００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．７であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２６に示す。
［実施例６０］ＡＤＣＰ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２７の製造
実施例１において、モノマーＡとしてＡＤＣＰ３．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．７ｇ（７ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各４５ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１５１ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２７）２．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．５であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２７に示す。
実施例１において、モノマーＡとしてＡＤＣＰ３．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．７ｇ（７ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各４５ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１５１ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２７）２．３ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．５であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２７に示す。
［実施例６１］ＣＨＡ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２８の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＣＨＡ２．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、反応溶媒をＭＩＢＫ各３８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール／エタノール混合液（質量比９：１）各１５０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２８）２．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２８に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＣＨＡ２．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、反応溶媒をＭＩＢＫ各３８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール／エタノール混合液（質量比９：１）各１５０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２８）２．５ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．６であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２８に示す。
［実施例６２］ＤＭＡ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー２９の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＭＡ４．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５２ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１９８ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２９）２．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１４，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２９に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＭＡ４．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５２ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１９８ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー２９）２．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１４，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図２９に示す。
［実施例６３］ＰＧ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３０の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＰＧ２．３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、反応溶媒をＭＩＢＫ各２３ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン／エタノール混合液（質量比９：１）各１１４ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３０）１．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３０に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＰＧ２．３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、反応溶媒をＭＩＢＫ各２３ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン／エタノール混合液（質量比９：１）各１１４ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３０）１．８ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは８，８００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．８であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３０に示す。
［実施例６４］ＰＧ、４ＥＯＬ、ＴＥＳＭＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３１の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＰＧ４．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ１．５ｇ（５ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、４ＥＯＬの使用量を４．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）に、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５０ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン各２２８ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、透明固体の目的物（高分岐ポリマー３１）６．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３１に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＰＧ４．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）使用し、さらにその他モノマーとしてＴＥＳＭＡ１．５ｇ（５ｍｍｏｌ）をモノマーＡ、Ｂとともに添加し、４ＥＯＬの使用量を４．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）に、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５０ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン各２２８ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、透明固体の目的物（高分岐ポリマー３１）６．４ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．９であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３１に示す。
［実施例６５］ＮＰＧ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３２の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＮＰＧ４．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各２４０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３２）１．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，３００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３２に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＮＰＧ４．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ３．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各２４０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３２）１．０ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，３００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３２に示す。
［実施例６６］ＡＨＤＮ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３３の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＡＨＤＮ２．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各３８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１２５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３３）０．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．２であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３３に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＡＨＤＮ２．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．０ｇ（３ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を１．２ｇ（５ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各３８ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１２５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３３）０．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは９，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．２であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３３に示す。
［実施例６７］９ＤＭＡ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３４の製造
実施例５１において、モノマーＡとして９ＤＭＡ５．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、トルエンの使用量を各４４ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン／エタノール混合液（質量比９：１）各２７５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、透明油状物の目的物（高分岐ポリマー３４）４．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．５であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３４に示す。
実施例５１において、モノマーＡとして９ＤＭＡ５．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．６ｇ（５ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、トルエンの使用量を各４４ｇに、再沈殿溶媒をヘキサン／エタノール混合液（質量比９：１）各２７５ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、透明油状物の目的物（高分岐ポリマー３４）４．６ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは７，６００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．５であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３４に示す。
［実施例６８］ＤＶＢ、ＳＴＡ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー３５の製造
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＶＢ２．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．９ｇ（６ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を６．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５２ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１３０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３５）１．９ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３５に示す。
実施例５１において、モノマーＡとしてＤＶＢ２．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、モノマーＢとしてＳＴＡ１．９ｇ（６ｍｍｏｌ）をそれぞれ使用し、ＡＤＶＮの使用量を６．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）に、反応溶媒をＭＩＢＫ各５２ｇに、再沈殿溶媒をメタノール各１３０ｇにそれぞれ変更した以外は、実施例５１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー３５）１．９ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１０，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは２．１であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図３５に示す。
［比較例１］ＤＣＰ、ＡＤＶＮを用いた高分岐ポリマー１７の製造
実施例１において、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ２．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、モノマーＢを添加しなかった以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１７）４．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１４，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは３．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１７に示す。
実施例１において、開始剤ＣとしてＡＤＶＮ２．５ｇ（１０ｍｍｏｌ）を使用し、モノマーＢを添加しなかった以外は、実施例１と同様に重合、精製を行い、白色粉末の目的物（高分岐ポリマー１７）４．７ｇを得た。
得られた目的物のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは１４，０００、分散度：Ｍｗ／Ｍｎは３．４であった。目的物の13Ｃ ＮＭＲスペクトルを図１７に示す。
実施例１〜１６、５１〜６８及び比較例１で得られた高分岐ポリマー１〜３５の、各モノマーの種類及びモノマーＡに対する仕込量［ｍｏｌ％］、開始剤Ｃの種類及びモノマーＡに対する仕込量［ｍｏｌ％］、重量平均分子量Ｍｗ、分散度Ｍｗ／Ｍｎ、13Ｃ ＮＭＲスペクトルから算出したモノマーＢ及びその他モノマーの導入量［ｍｏｌ％］を表１に示す。
★参考（黒丸は（メタ）アクリロイル基を表す）
［実施例１７］高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５の溶媒溶解性
実施例１〜１６、５１〜６８で得られた高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５について、表２に示す各溶媒に対する溶解性を評価した。評価は、濃度が１０質量％となるように各高分岐ポリマーをそれぞれの溶媒と混合し、２５℃で１分間撹拌後に、以下の基準に従って目視で評価した。結果を表２に併せて示す。
［評価基準］
○：透明な溶液となり良好に溶解
×：溶け残りがある
実施例１〜１６、５１〜６８で得られた高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５について、表２に示す各溶媒に対する溶解性を評価した。評価は、濃度が１０質量％となるように各高分岐ポリマーをそれぞれの溶媒と混合し、２５℃で１分間撹拌後に、以下の基準に従って目視で評価した。結果を表２に併せて示す。
［評価基準］
○：透明な溶液となり良好に溶解
×：溶け残りがある
［比較例２］高分岐ポリマー１７の溶媒溶解性
比較例１で得られた高分岐ポリマー１７について、実施例１７と同様に評価した。結果を表２に併せて示す。
比較例１で得られた高分岐ポリマー１７について、実施例１７と同様に評価した。結果を表２に併せて示す。
［実施例１８］高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５を用いた単独薄膜の作製及び物性評価
実施例１〜１６、５１〜６８で得られた高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５について、それぞれ５質量％濃度のトルエン溶液を調製後フィルタろ過し、各高分岐ポリマーのワニスを作製した。このワニスをシリコンウェハー上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、１，５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）し、１００℃で３０分間加熱処理することで溶媒を除去して、成膜した。
得られた薄膜の波長６３３ｎｍにおける屈折率、並びに水及びジヨードメタンの接触角の評価を行った。また接触角の結果から表面エネルギーを算出した。さらに、各高分岐ポリマー粉末のガラス転移温度（Ｔｇ）及び５％重量減少温度（Ｔｄ5%）を測定した。得られた結果を表３に併せて示す。
実施例１〜１６、５１〜６８で得られた高分岐ポリマー１〜１６、１８〜３５について、それぞれ５質量％濃度のトルエン溶液を調製後フィルタろ過し、各高分岐ポリマーのワニスを作製した。このワニスをシリコンウェハー上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、１，５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）し、１００℃で３０分間加熱処理することで溶媒を除去して、成膜した。
得られた薄膜の波長６３３ｎｍにおける屈折率、並びに水及びジヨードメタンの接触角の評価を行った。また接触角の結果から表面エネルギーを算出した。さらに、各高分岐ポリマー粉末のガラス転移温度（Ｔｇ）及び５％重量減少温度（Ｔｄ5%）を測定した。得られた結果を表３に併せて示す。
［比較例３］高分岐ポリマー１７を用いた単独薄膜の作製及び物性評価
比較例１で得られた高分岐ポリマー１７について、実施例１８と同様に薄膜を作製し、評価した。結果を表３に併せて示す。
比較例１で得られた高分岐ポリマー１７について、実施例１８と同様に薄膜を作製し、評価した。結果を表３に併せて示す。
［実施例１９〜３４、６９〜８３］高分岐ポリマーを用いたアクリル系光硬化樹脂の表面改質
アクリル系光重合性化合物（モノマー）ＤＰＨＡに、表４に記載の所定の表面改質剤、固形分（ＤＰＨＡ及び表面改質剤、以下同じ）１００質量部に対して１質量部の光重合開始剤Ｉｒｇ．９０７、及び酢酸ブチルを混合し、所定の固形分中の表面改質剤濃度（固形分の合計質量に対する表面改質剤質量の割合）、所定のワニス中の固形分濃度（固形分及び酢酸ブチルの合計質量に対する固形分質量の割合）となる光重合性組成物を調製した。例えば実施例１９では、ＤＰＨＡ４．９５ｇ、高分岐ポリマー１ ０．０５ｇ、Ｉｒｇ．９０７ ０．０５ｇ及び酢酸ブチル５．００ｇを混合した。
この組成物をフィルタろ過し、ガラス基板上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）して塗膜を得た。この塗膜を６０℃で１分間加熱し予備乾燥した後、塗膜全面に強度２０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ光を１０分間照射し露光した。さらに１００℃で１０分間加熱処理することで、光硬化膜を作製した。
得られた各光硬化膜の、全光透過率、ＨＡＺＥ、並びに水及びオレイン酸の接触角を測定した。なお、オレイン酸の接触角は、オレイン酸を評価膜に滴下し１０秒後及び１分後についてそれぞれ測定した。結果を表４に併せて示す。
アクリル系光重合性化合物（モノマー）ＤＰＨＡに、表４に記載の所定の表面改質剤、固形分（ＤＰＨＡ及び表面改質剤、以下同じ）１００質量部に対して１質量部の光重合開始剤Ｉｒｇ．９０７、及び酢酸ブチルを混合し、所定の固形分中の表面改質剤濃度（固形分の合計質量に対する表面改質剤質量の割合）、所定のワニス中の固形分濃度（固形分及び酢酸ブチルの合計質量に対する固形分質量の割合）となる光重合性組成物を調製した。例えば実施例１９では、ＤＰＨＡ４．９５ｇ、高分岐ポリマー１ ０．０５ｇ、Ｉｒｇ．９０７ ０．０５ｇ及び酢酸ブチル５．００ｇを混合した。
この組成物をフィルタろ過し、ガラス基板上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）して塗膜を得た。この塗膜を６０℃で１分間加熱し予備乾燥した後、塗膜全面に強度２０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ光を１０分間照射し露光した。さらに１００℃で１０分間加熱処理することで、光硬化膜を作製した。
得られた各光硬化膜の、全光透過率、ＨＡＺＥ、並びに水及びオレイン酸の接触角を測定した。なお、オレイン酸の接触角は、オレイン酸を評価膜に滴下し１０秒後及び１分後についてそれぞれ測定した。結果を表４に併せて示す。
［比較例４］表面改質剤を添加しないアクリル系光硬化樹脂膜の物性
実施例１９において、表面改質剤を添加しない以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
実施例１９において、表面改質剤を添加しない以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
［比較例５］汎用親油性表面改質剤を用いたアクリル系光硬化樹脂の表面改質
実施例１９において、表面改質剤として市販のＺＸを使用した以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
実施例１９において、表面改質剤として市販のＺＸを使用した以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
［比較例６］モノマーＢセグメントを有さない高分岐ポリマーを用いたアクリル系光硬化樹脂の表面改質
実施例１９において、表面改質剤として高分岐ポリマー１７を使用した以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
実施例１９において、表面改質剤として高分岐ポリマー１７を使用した以外は実施例１９と同様に操作し、評価した。結果を表４に併せて示す。
表４の結果より、表面改質剤を含まないアクリル系光硬化膜では、オレイン酸の接触角は１０秒後では２０．８度、１分後では１８．２度であった（比較例４）。これに対し、本発明の親油性高分子ポリマーを表面改質剤として添加したアクリル系光硬化膜では、オレイン酸の接触角は１０秒後では９．２〜１７．６度、１分後では４．５〜１２．７度といずれも低い接触角を示した（実施例１９〜３４、６９〜８３）。さらに、本発明の親油性高分子ポリマーを添加したアクリル系光硬化膜におけるオレイン酸の接触角（１０秒後、１分後）は、表面改質剤として市販のＺＸを添加したアクリル系光硬化膜におけるオレイン酸の接触角と比較しても、非常に低い値であった（比較例５）。
これらの結果から、本発明の親油性高分岐ポリマーを樹脂組成物に添加することで、樹脂本来の透明性を損なうことなく、該樹脂組成物から得られる硬化膜に親油性（耐指紋性）を付与させることが可能である。さらに、本発明の親油性高分岐ポリマーは、従来の表面改質剤に比べて硬化膜に非常に高い親油性を付与することが可能である。
これらの結果から、本発明の親油性高分岐ポリマーを樹脂組成物に添加することで、樹脂本来の透明性を損なうことなく、該樹脂組成物から得られる硬化膜に親油性（耐指紋性）を付与させることが可能である。さらに、本発明の親油性高分岐ポリマーは、従来の表面改質剤に比べて硬化膜に非常に高い親油性を付与することが可能である。
［実施例３５〜５０］高分岐ポリマー３，１１を用いたウレタンアクリレート系光硬化樹脂の表面改質
表５に記載のウレタンアクリレート系光重合性化合物（モノマー）４．９５ｇ、表５に記載の表面改質剤０．０５ｇ、光重合開始剤Ｉｒｇ．９０７ ０．０５ｇ及びＭＩＢＫ１５．００ｇを混合し、光重合性組成物を調製した。
この組成物をフィルタろ過し、ガラス基板上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）して塗膜を得た。この塗膜を８０℃で１分間加熱し予備乾燥した後、塗膜全面に強度２０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ光を３分間照射し露光することで、光硬化膜を作製した。
得られた各光硬化膜の、全光透過率、濁度、並びに水及びオレイン酸の接触角を測定した。なお、オレイン酸の接触角は、オレイン酸を評価膜に滴下し１０秒後及び１分後についてそれぞれ測定した。結果を表５に併せて示す。
表５に記載のウレタンアクリレート系光重合性化合物（モノマー）４．９５ｇ、表５に記載の表面改質剤０．０５ｇ、光重合開始剤Ｉｒｇ．９０７ ０．０５ｇ及びＭＩＢＫ１５．００ｇを混合し、光重合性組成物を調製した。
この組成物をフィルタろ過し、ガラス基板上にスピンコーティング（ｓｌｏｐｅ５秒間、５００ｒｐｍ×３０秒間、ｓｌｏｐｅ５秒間）して塗膜を得た。この塗膜を８０℃で１分間加熱し予備乾燥した後、塗膜全面に強度２０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ光を３分間照射し露光することで、光硬化膜を作製した。
得られた各光硬化膜の、全光透過率、濁度、並びに水及びオレイン酸の接触角を測定した。なお、オレイン酸の接触角は、オレイン酸を評価膜に滴下し１０秒後及び１分後についてそれぞれ測定した。結果を表５に併せて示す。
［比較例７〜１４］表面改質剤を添加しないウレタンアクリレート系光硬化樹脂膜の物性
実施例３５において、ウレタンアクリレート系光重合性化合物（モノマー）の使用量を５．００ｇに変更し、表面改質剤を添加しない以外は実施例３５と同様に操作し、評価した。結果を表５に併せて示す。
実施例３５において、ウレタンアクリレート系光重合性化合物（モノマー）の使用量を５．００ｇに変更し、表面改質剤を添加しない以外は実施例３５と同様に操作し、評価した。結果を表５に併せて示す。
表５の結果より、本発明の親油性高分岐ポリマーは、種々のウレタンアクリレート系光硬化膜に対しても、樹脂本来の透明性を損なわずに、親油性（耐指紋性）を付与することが可能である。
Claims (9)
- 分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢと、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃとの重合物であるか又は
分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢと、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーと、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃとの重合物である、親油性高分岐ポリマーであって、
前記モノマーＡは、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6 ］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート又は１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートであり、
前記モノマーＢは、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３，５，５−トリメチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、パルミチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、シクロプロピル（メタ）アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、メンシル（メタ）アクリレート、アダマンタン（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6 ］デカン（メタ）アクリレート、２−ヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ラウリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ステアリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート及びこれらモノマー２種類以上からなる群より選択される、親油性高分岐ポリマー。 - 前記モノマーＡのモル数に対して５〜３００モル％の量の前記モノマーＢを用いる、請求項１に記載の親油性高分岐ポリマー。
- 前記重合開始剤Ｃが、アゾ系重合開始剤である、請求項１又は請求項２に記載の親油性高分岐ポリマー。
- 前記重合開始剤Ｃが、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）である、請求項３に記載の親油性高分岐ポリマー。
- 前記重合開始剤Ｃが、ジメチル１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）である、請求項３に記載の親油性高分岐ポリマー。
- 請求項１乃至請求項５のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーを含有するワニス。
- 請求項１乃至請求項５のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーを含有する親油性付与剤。
- 請求項１乃至請求項５のうち何れか一項に記載の親油性高分岐ポリマーからなる薄膜。
- 分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させるか、又は、
分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内に炭素原子数６〜３０のアルキル基若しくは炭素原子数３〜３０の脂環基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢと、前記モノマーＡ及び前記モノマーＢに属さないその他のモノマーとを、該モノマーＡのモル数に対して５〜２００モル％の量の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることを特徴とする、親油性高分岐ポリマーの製造方法であって、
前記モノマーＡは、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6 ］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート又は１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートであり、
前記モノマーＢは、ヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３，５，５−トリメチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、パルミチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、シクロプロピル（メタ）アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、メンシル（メタ）アクリレート、アダマンタン（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6 ］デカン（メタ）アクリレ
ート、２−ヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ラウリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ステアリルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノラウリルエーテル＝（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコール＝モノステアリルエーテル＝（メタ）アクリレート及びこれらモノマー２種類以上からなる群より選択される、親油性高分岐ポリマーの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011060586 | 2011-03-18 | ||
| JP2011060586 | 2011-03-18 | ||
| PCT/JP2012/056880 WO2012128214A1 (ja) | 2011-03-18 | 2012-03-16 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016120065A Division JP6292419B2 (ja) | 2011-03-18 | 2016-06-16 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2012128214A1 JPWO2012128214A1 (ja) | 2014-07-24 |
| JP5958710B2 true JP5958710B2 (ja) | 2016-08-02 |
Family
ID=46879361
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013505949A Active JP5958710B2 (ja) | 2011-03-18 | 2012-03-16 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 |
| JP2016120065A Active JP6292419B2 (ja) | 2011-03-18 | 2016-06-16 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016120065A Active JP6292419B2 (ja) | 2011-03-18 | 2016-06-16 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9334400B2 (ja) |
| EP (1) | EP2687549A4 (ja) |
| JP (2) | JP5958710B2 (ja) |
| KR (1) | KR102046359B1 (ja) |
| CN (1) | CN103443149B (ja) |
| TW (1) | TWI615410B (ja) |
| WO (1) | WO2012128214A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150072128A1 (en) * | 2012-04-16 | 2015-03-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Flourine-containing highly branched polymer and polycarbonate resin composition containing the same |
| JPWO2014054698A1 (ja) * | 2012-10-02 | 2016-08-25 | 日産化学工業株式会社 | 含ケイ素高分岐ポリマーを含む硬化性組成物 |
| WO2015008323A1 (ja) * | 2013-07-16 | 2015-01-22 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体、その製造方法および電子写真装置 |
| WO2015008322A1 (ja) * | 2013-07-16 | 2015-01-22 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体、その製造方法および電子写真装置 |
| JP6674146B2 (ja) * | 2014-06-23 | 2020-04-01 | 日産化学株式会社 | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む重合性組成物 |
| JP6290279B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2018-03-07 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
| JP6965186B2 (ja) * | 2017-03-13 | 2021-11-10 | 三洋化成工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
| CN111087556B (zh) * | 2019-11-26 | 2022-04-22 | 南京源泉环保科技股份有限公司 | 一种油水分离材料及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008291138A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | メチルメタクリレート系共重合体の製造方法、及びプラスチック光ファイバの製造方法 |
| WO2009148029A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 旭硝子株式会社 | 共重合体、その製造方法および撥油剤組成物ならびにその処理物品 |
| JP2010024330A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Univ Of Tokushima | 高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物 |
| WO2010137724A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | 日産化学工業株式会社 | 含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む樹脂組成物 |
| WO2011004865A1 (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | 日産化学工業株式会社 | 高分岐ポリマー及びそれを含む組成物 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6391973B1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-05-21 | Basf Corporation | Curable coating composition with improved stability |
| EP1410109B1 (en) | 2001-07-26 | 2011-10-26 | Basf Se | Photosensitive resin composition |
| JP4009700B2 (ja) * | 2003-10-20 | 2007-11-21 | 株式会社テクノネットワーク四国 | ラジカル重合体の製造方法 |
| US7342080B2 (en) * | 2004-05-07 | 2008-03-11 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable compositions, methods of making the same, and composite articles therefrom |
| KR100890428B1 (ko) * | 2007-08-20 | 2009-03-26 | 주식회사 선진화학 | 자외선 차단제를 함유하는 화장료 조성물용 고분자 복합 입자 및 그의 제조방법 |
| JP5118921B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2013-01-16 | 株式会社日立製作所 | 現在位置算出装置および車両 |
| JP5139138B2 (ja) | 2008-04-10 | 2013-02-06 | 株式会社ティ−アンドケイ東華 | 耐汚染性付与塗料組成物及び汚染防止方法 |
| JP5069624B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2012-11-07 | 互応化学工業株式会社 | アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物 |
| JP5269703B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2013-08-21 | リンナイ株式会社 | 食器洗浄機 |
| JPWO2014054698A1 (ja) | 2012-10-02 | 2016-08-25 | 日産化学工業株式会社 | 含ケイ素高分岐ポリマーを含む硬化性組成物 |
-
2012
- 2012-03-16 CN CN201280013975.7A patent/CN103443149B/zh active Active
- 2012-03-16 KR KR1020137026981A patent/KR102046359B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-16 JP JP2013505949A patent/JP5958710B2/ja active Active
- 2012-03-16 EP EP12760631.7A patent/EP2687549A4/en not_active Withdrawn
- 2012-03-16 WO PCT/JP2012/056880 patent/WO2012128214A1/ja active Application Filing
- 2012-03-16 US US14/005,633 patent/US9334400B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-03-19 TW TW101109322A patent/TWI615410B/zh not_active IP Right Cessation
-
2015
- 2015-12-01 US US14/955,803 patent/US9708486B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-06-16 JP JP2016120065A patent/JP6292419B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008291138A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | メチルメタクリレート系共重合体の製造方法、及びプラスチック光ファイバの製造方法 |
| WO2009148029A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 旭硝子株式会社 | 共重合体、その製造方法および撥油剤組成物ならびにその処理物品 |
| JP2010024330A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Univ Of Tokushima | 高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物 |
| WO2010137724A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | 日産化学工業株式会社 | 含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む樹脂組成物 |
| WO2011004865A1 (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | 日産化学工業株式会社 | 高分岐ポリマー及びそれを含む組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2687549A4 (en) | 2015-01-21 |
| KR102046359B1 (ko) | 2019-11-19 |
| CN103443149A (zh) | 2013-12-11 |
| JP6292419B2 (ja) | 2018-03-14 |
| KR20140015468A (ko) | 2014-02-06 |
| WO2012128214A1 (ja) | 2012-09-27 |
| EP2687549A1 (en) | 2014-01-22 |
| TWI615410B (zh) | 2018-02-21 |
| JPWO2012128214A1 (ja) | 2014-07-24 |
| US9334400B2 (en) | 2016-05-10 |
| JP2016169396A (ja) | 2016-09-23 |
| CN103443149B (zh) | 2018-03-20 |
| US9708486B2 (en) | 2017-07-18 |
| US20140088216A1 (en) | 2014-03-27 |
| US20160083496A1 (en) | 2016-03-24 |
| TW201245239A (en) | 2012-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6292419B2 (ja) | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む光重合性組成物 | |
| JP6795793B2 (ja) | 含ケイ素高分岐ポリマー | |
| JP6156658B2 (ja) | 含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む樹脂組成物 | |
| JP5880870B2 (ja) | 重合性含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む硬化性組成物 | |
| KR20130132477A (ko) | 불소-함유 고분지 중합체를 포함하는 코팅용 경화성 조성물 | |
| WO2014054698A1 (ja) | 含ケイ素高分岐ポリマーを含む硬化性組成物 | |
| JP5920590B2 (ja) | 含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む光カチオン重合性組成物 | |
| JP6674146B2 (ja) | 親油性高分岐ポリマー及びそれを含む重合性組成物 | |
| JP6871526B2 (ja) | 親水性含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む重合性組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151014 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151214 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160525 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160607 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5958710 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |