JP5949110B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、光走査装置及び画像形成装置に関する。

特許文献１には、光学箱における回路基板と対向する面に貫通穴を設け、回路基板におけるこの貫通穴の上部に対応する位置に、電気部品や回路を実装しない非回路実装部を設けたことを特徴とする走査光学装置が開示されている。

特許文献２には、回路基板と筐体との間に補正部材を有し、補正部材は筐体と干渉しない位置と筐体と接触して回路基板を持ち上げて撓ませる位置とに移動可能であることを特徴とする光走査装置が開示されている。

特開２００８−０３２３１号公報 特開２００８−５８３５３号公報

本発明は、光源から出射される光ビームを偏光する回転多面鏡が設けられた回転体の回転軸の角度調整を高精度に行うことが課題である。

請求項１の発明は、光源から出射される光ビームを偏向する回転多面鏡が設けられた回転体と、前記回転体を回転可能に支持すると共に前記回転体を駆動する回路基板と、前記回転体及び前記回路基板を収容する収容部と、前記収容部の内面に互いに離間して設けられると共に、互いを結ぶ仮想直線が前記回転体の回転軸から離れ且つ前記回転体と重なるように配置され、前記回転軸が前記仮想直線側に傾くように前記回路基板を支持する一対の支持部と、前記回路基板を前記一対の支持部に固定する一対の固定部材と、前記回路基板における前記仮想直線に対して前記回転軸が配置された側に位置する調整位置において、前記収容部に対する前記回路基板の前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部と、を備える。

請求項２の発明は、光源から出射される光ビームを偏向する回転多面鏡が設けられた回転体と、前記回転体を回転可能に支持すると共に前記回転体を駆動する回路基板と、前記回転体及び前記回路基板を収容する収容部と、前記収容部の内面に互いに離間して設けられると共に、互いを結ぶ仮想直線が前記回転体の回転軸から離れるように配置され、前記回転軸が前記仮想直線側に傾くように前記回路基板を支持する一対の支持部と、前記回路基板を前記一対の支持部に固定する一対の固定部材と、前記回路基板における前記仮想直線に対して前記回転軸が配置された側に位置する調整位置において、前記収容部に対する前記回路基板の前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部と、を備え、前記一対の支持部は、それぞれ前記収容部の内面から突出された複数の凸部のうち少なくとも一つの凸部の突出高を他の凸部の突出高よりも低くすることで、前記仮想直線側に前記回転体の前記回転軸が傾くように前記回路基板を支持する構成とされている。

請求項３の発明は、前記収容部の内面から前記回路基板の前記調整位置に向けて、前記一対の支持部における前記他の凸部の突出高よりも低く突出された調整用凸部を有する調整用支持部を備えている。

請求項４の発明は、前記固定部材は、ネジとされ、前記ネジの軸方向から見て、複数の前記凸部は前記ネジの座面の外側に配置されている。

請求項５の発明は、前記固定部材は、ネジとされ、前記回路基板と前記ネジの座面との間に、弾性部材が挟まれている。

請求項６の発明は、帯電手段で帯電された潜像保持体の表面に光ビームを走査して潜像を形成する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置と、前記潜像保持体に形成された前記潜像に現像剤を付与して現像する現像手段と、を備えている。

請求項１に記載の発明によれば、予め回転軸に対し傾いて回路基板が支持されていない場合と比較し、回転体の回転軸の角度調整を高精度に行うことができる。

請求項２に記載の発明によれば、回転軸に対する角度を収容部全体の成形型を変更することなく調整することができる。

請求項３に記載の発明によれば、調整用凸部が他の凸部の突出高よりも高く突出された場合と比較し、ネジ部材による回転軸の角度調整量を大きくすることができる。

請求項４に記載の発明によれば、複数の凸部がネジの座面の内側に配置されている場合と比較し、座面の片当たりによる偏向器の回転軸の傾きを抑制することができる。

請求項５に記載の発明によれば、回路基板とネジの座面との間に弾性部材が設けられていない場合と比較し、回転体の回転軸の仮想直線側への傾きの角度のバラツキを抑制することができる。

請求項６に記載の発明によれば、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置を有しない構成と比較し、回転体の回転軸の傾きに起因する画質不良を抑制することができる。

本発明の実施形態に係る光走査装置を備える画像形成装置の構成を示す構成図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置の内部を回転軸の軸方向から見た平面図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置を回転軸の軸方向から見た光ビームの光路を示す光路図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置を光源から出射した光ビームの光軸方向から見た光ビームの光路を示す光路図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置に設けられた偏向器を回転軸の軸方向から見た平面図である。 偏向器が固定されていない状態の図５に対応する平面図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置に設けられた偏向器の斜視図である。 偏向器が固定されていない状態の図７に対応する分解斜視図である。 （Ａ）は第一支持部及び第二支持部を示す斜視図であり、（Ｂ）は調整用支持部を示す斜視図である。 （Ａ）は偏向器の回転体の回転軸を角度調整する前の初期傾斜状態を示すＸ方向から見た正面図であり、（Ｂ）は回転軸を角度調整したあとの状態を示すＸ方向から見た正面図である。 偏向器の回転体の凸部が嵌合孔に嵌合した状態を示す断面図である。 偏向器の回転体を取り外した状態を回転軸の軸方向から見た平面図である。 偏向器の制御回路を示すブロック図である。 仮想直線Ｓ１及び仮想直線Ｓ２と三角形Ｒとを説明するための説明図である。 （Ａ）は偏向器の回転体の回転軸の傾きによる光ビームの変動を説明する説明図であり、（Ｂ）回転軸の傾きに伴う走査線の形状の変化を説明する説明図であり、（Ｃ）は回転軸の傾きに伴う像面の変化を説明する説明図である。 （Ａ）は初期傾斜状態の回路基板を模式的に示す図であり、（Ｂ）角度調整後の回路基板を模式的に示す図である。 図１４に示す仮想直線Ｓ１の場合における（Ａ）はボスの突出高の差と回転軸の軸倒れとの関係を示すグラフであり、（Ｂ）は調整量と軸倒れとの関係を示すグラフであり、（Ｃ）はＸ方向及びＹ方向の軸倒れ量を示すグラフである。 図１４に示す仮想直線Ｓ２の場合における（Ａ）はボスの突出高の差と回転軸の軸倒れとの関係を示すグラフであり、（Ｂ）は調整量と軸倒れとの関係を示すグラフであり、（Ｃ）はＸ方向に対するＹ方向の軸倒れ量を示すグラフである。 図１４に示す仮想直線Ｓ１の場合における偏向器の変位分布図である。 図１４に示す仮想直線Ｓ２の場合における偏向器の変位分布図である。 本発明の本実施形態の変形例を示す図８に対応する分解斜視図である。 本発明の本実施形態の変形例を示す図１０に対応する正面図である。 角度調整後の回路基板の応力部分図である。

本発明の実施形態に係る画像形成装置の一例を説明する。
＜画像形成装置の全体構成＞
まず、本発明の実施形態に係る画像形成装置の全体構成について説明する。

図１に示すように、画像形成装置１０内には、像形成部５０、像形成部５０に用紙を供給する給紙装置２０、及び光走査装置１００等が設けられている。また、画像形成装置１０内には、記録用紙Ｐの搬送に用いられる搬送路８０が形成されている。また、画像形成装置１０の上部には、記録用紙Ｐが排出される排出部１２が設けられている。

像形成部５０は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の４色に対応する画像形成ユニット３２Ｙ、３２Ｍ、３２Ｃ、３２Ｋが設けられている。なお、画像形成ユニット３２Ｙ、３２Ｍ、３２Ｃ、３２Ｋは、収容されるトナーの色を除いて同様の構成とされている。また、これ以降の説明において、画像形成ユニット３２Ｙ，３２Ｍ，３２Ｃ，３２Ｋに限らず各部材や各装置などにおいて、各色を区別する場合には符号に各色に対応する英字（Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ）を付加し、特に区別しない場合には各色に対応する英字を省略する。

画像形成ユニット３２Ｙ、３２Ｍ、３２Ｃ、３２Ｋは、水平方向に対して斜めに傾斜した状態で一定の間隔を隔てて並べられている。なお、画像形成ユニット３２Ｙが最も高い位置に設けられ、画像形成ユニット３２Ｙ、画像形成ユニット３２Ｍ、画像形成ユニット３２Ｃ、画像形成ユニット３２Ｋの順番で設けられている。

画像形成ユニット３２Ｙ、３２Ｍ、３２Ｃ、３２Ｋは、それぞれ像保持体の一例としてのドラム状の感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋと、帯電手段の一例としての帯電部材３６Ｙ、３６Ｍ、３６Ｃ、３６Ｋと、現像手段の一例としての現像器３８Ｙ、３８Ｍ、３８Ｃ、３８Ｋと、クリーニング装置４２Ｙ、４２Ｍ、４２Ｃ、４２Ｋと、を含んで構成されている。

現像器３８は、後述する光走査装置１００によって感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋの表面に形成された静電潜像を現像して、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の各色のトナー像を、感光体３４Ｙ，３４Ｃ，３４Ｋに形成する。なお、現像器３８Ｙ、３８Ｍ、３８Ｃ、３８Ｋには、収容容器４０Ｙ、４０Ｍ、４０Ｃ、４０Ｋから、イエローのトナー、マゼンタのトナー、シアンのトナー、黒のトナーが供給される。

また、像形成部５０は、現像器３８Ｙ、３８Ｍ、３８Ｃ、３８Ｋによってそれぞれ形成されたイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の各トナー像を記録用紙Ｐに転写する転写装置６０と、転写装置６０によって転写されたトナー像を記録用紙Ｐに定着する定着装置７０と、を有している。

転写装置６０は、感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋに形成されたイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の各トナー像が重ねられて転写される転写媒体の一例としてのベルト状の中間転写体６２を有している。中間転写体６２は、複数のロール６４やロール状の二次転写部材６９によって張架され、図の矢印Ｖ方向に回転するように構成されている。

また、転写装置６０は、感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋそれぞれに形成されたイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）のトナー像を、中間転写体６２に転写するロール状の一次転写部材６８Ｙ、６８Ｍ、６８Ｃ、６８Ｋと、中間転写体６２に転写されたイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の各色のトナー像を記録用紙Ｐに転写する二次転写部材６９と、を有している。また、転写装置６０は、中間転写体６２の表面をクリーニングするクリーニング装置６５を有している。

給紙装置２０は、記録用紙Ｐを収容する収納部２２と、収納部２２に収納された最上位に位置する記録用紙Ｐを抽出する抽出ロール２４と、抽出ロール２４で抽出された記録用紙Ｐを搬送する搬送ロール２６と、を有している。

搬送路８０は、主搬送路８２と反転搬送路８５とを有している。主搬送路８２は、給紙装置２０から供給された記録用紙Ｐを排出部１２に向けて搬送する搬送路であって、主搬送路８２に沿って記録用紙Ｐの搬送方向上流側から順に、レジストロール８４と、先述の二次転写部材６９と、先述の定着装置７０と、排出ロール８６と、が設けられている。

そして、レジストロール８４は、中間転写体６２にトナー像が転写されるタイミングに合致するように、中間転写体６２と二次転写部材６９とのニップ部に記録用紙Ｐを供給する。

排出ロール８６は、定着装置７０によって、トナー像が定着された記録用紙Ｐを排出部１２に排出する。更に、排出ロール８６は、記録用紙Ｐの両面に画像を形成する場合に、排出部１２に記録用紙Ｐを排出する場合と反対方向に回転して、一方の面に画像が形成された記録用紙Ｐを、後端側から反転搬送路８５へと供給する。反転搬送路８５には、複数の搬送ロール８９が設けられ、一方の面に画像が形成された用紙を、反転させつつ、レジストロール８４の上流側に再び供給する。

＜画像形成工程＞
つぎに画像形成工程について説明する。

画像形成装置１０が作動すると、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の各色の画像データが光走査装置１００に出力される。そして、光走査装置１００から画像データに応じて出射された光ビームＬＹ、ＬＭ，ＬＣ，ＬＫは、帯電部材３６により帯電された対応する各感光体３４の表面（外周面）を露光し、各感光体３４の表面には静電潜像が形成される。

各感光体３４の表面に形成された静電潜像は各現像器３８によって現像され、各感光体３４の表面に各色のトナー画像が形成される。そして、感光体３４の表面に形成された各色のトナー画像は、中間転写体６２上に一次転写部材６８によって順次多重転写される。

中間転写体６２上に多重転写されたトナー画像は、搬送されてきた記録用紙Ｐ上に二次転写部材６９によって二次転写される。トナー画像が転写された記録用紙Ｐは、定着装置７０に搬送される。そして、定着装置７０で加熱及び加圧されることで記録用紙Ｐにトナー画像が定着され、排出ロール８６によって排出部１２に排出される。

裏面（非画像面）にも画像を形成する両面印刷の場合は、定着装置７０で表面（おもてめん）に定着を行った後、排出ロール８６が逆回転して記録用紙Ｐを反転搬送路８５に送り、裏面にもトナー画像を形成して定着したのち、排出部１２に排出される。

＜光走査装置＞
つぎに光走査装置１００について説明する。

図１に示すように、光走査装置１００は、前述したように、帯電部材３６Ｙ、３６Ｍ、３６Ｃ、３６Ｋによって帯電した感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋそれぞれに対して光ビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫを走査して、感光体３４Ｙ、３４Ｍ、３４Ｃ、３４Ｋの表面に潜像を形成する。

光走査装置１００は、画像形成装置１０内の決められた位置に固定される収容部の一例としての筐体（光学箱）１０２を有している。図２に示すように、この筐体１０２内の端部には光源１０４Ｙ、１０４Ｍ、１０４Ｃ、１０４Ｋが設けられている。各光源１０４Ｙ、１０４Ｍ、１０４Ｃ、１０４Ｋからは、図１及び図４に示すように、それぞれイエロー（Ｙ）用の光ビームＬＹ、マゼンタ（Ｍ）用の光ビームＬＭ、シアン（Ｃ）用の光ビームＬＣ、黒（Ｋ）用の光ビームＬＫが出射される。

なお、前述したように、色毎に設けられた部材については、符号の末尾に各々の色を示す英字（Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ）を付与して示すが、特に色を区別せずに説明する場合は、この符号末尾の英字を省略して説明する。

また、光源１０４から出射される光ビームＬの光軸方向をＸ方向、Ｘ方向と直交し且つ筐体１０２内の底面１０２Ａに沿った方向をＹ方向、Ｘ方向及びＹ方向と直交する方向をＺ方向とする。なお、実際は、図１に示すように光走査装置１００は水平方向に対して傾斜して配置されているが、光走査装置１００を説明する場合は、便宜上、Ｘ方向及びＹ方向を水平方向とし、Ｚ方向を鉛直方向として説明する。また、本実施形態では、Ｚ方向は、後述する底面１０２Ａの板厚方向と一致する。また、後述する偏向器２００の回転体２１０の回転軸２１２の軸方向は、Ｚ方向と一致するように調整することが設計目標とされている。

図２に示すように、光源１０４Ｙ、１０４Ｍ、１０４Ｃ、１０４Ｋは、Ｙ方向に距離をあけて設けられていると共に、Ｚ方向の位置が異なって配置されることで、光ビームＬＹ，ＬＭ，ＬＣ，ＬＫ（図４参照）が互いに干渉しないようになっている。なお、本実施形態においては、光源１０４Ｙが底面１０２Ａから最も離れており、光源１０４Ｍ、１０４Ｃ、１０４Ｋの順番に底面１０２Ａに近くなっている（図４も参照）。

図２、図５、図７に示すように、光走査装置１００の筐体１０２の底面１０２Ａに、偏向器２００が固定されている。偏向器２００には、複数（本実施形態では１２面）の反射面２０２で構成された回転多面鏡２０４を有する回転体２１０が備えられている。回転体２１０は、筐体１０２の底面１０２Ａに固定される回路基板２５０に設けられている。そして、回転体２１０は、回路基板２５０に設けられた後述する駆動モータ２２１（図１２参照）によって回転し、各光源１０４（図２参照）から出射した光ビームＬを反射させて感光体３４（図１参照）上の主走査方向（感光体３４の回転軸方向に対応する方向）に光ビームＬを走査させる。

図２及び図３に示すように、各光源１０４の下流側には、各光源１０４から出射した光ビームＬを平行光とするコリメータレンズ等で構成された第一レンズ系１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋが設けられている。この各色の第一レンズ系１０６の下流側には、第一反射ミラー１０８Ｙ，１０８Ｍ，１０８Ｃ，１０８Ｋが設けられている。また、第一反射ミラー１０８Ｙ，１０８Ｍ，１０８Ｃ，１０８Ｋの下流側には、第二反射ミラー１１０が設けられ、更に下流側には第三反射ミラー１１２が設けられている。また、第二反射ミラー１１０と第三反射ミラー１１２との間には、第二レンズ系１１６Ａ，１１６Ｂが設けられ、第三反射ミラー１１２と偏向器２００との間には第三レンズ系１１８Ａ，１１８Ｂが設けられている。

そして、光源１０４Ｙ，１０４Ｍ，１０４Ｃ，１０４Ｋから出射した光ビームＬＹ，ＬＭ，ＬＣ，ＬＫは、第一レンズ系１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋを透過したのち、第一反射ミラー１０８で第二反射ミラーに向かって反射する。第二反射ミラー１１０で反射した光ビームＬは、第三反射ミラー１１２に向かって反射し、第二レンズ系１１６Ａ，１１６Ｂを透過したのち、第三反射ミラー１１２で偏向器２００の回転体２１０（回転多面鏡２０４）に向かって反射する。第三反射ミラー１１２で反射した光ビームＬは、第三レンズ系１１８Ａ，１１８Ｂを透過したのち、偏向器２００の回転体２１０の回転多面鏡２０４に入射する。

偏向器２００の下流側には、回転多面鏡２０４の反射面２０２で反射した四本の光ビームＬＹ，ＬＭ，ＬＣ，ＬＫが入射し、感光体３４（図１参照）上で走査される光ビームＬの走査速度を等速にするｆθレンズ１２０が設けられている（図５及び図７も参照）。

図４に示すように、ｆθレンズ１２０の下流側には、四本の光ビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫを分離して各感光体３４Ｙ，３４Ｍ，３４Ｃ，３４Ｋに向けて出射する分離光学系１２２が設けられている。分離光学系１２２は、第四反射ミラー（折返ミラー）１２４、第五反射ミラー１２６Ａ，１２６Ｂ、第六反射ミラー１２８Ｙ，１２８Ｍ，１２８Ｃ，１２８Ｋ、及び第七反射ミラー１３０Ｍ，１３０Ｃ，１３０Ｋを有している。

ｆθレンズ１２０を透過した四本の光ビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫは、第四反射ミラー１２４で反射する。第四反射ミラー１２４で反射した四本の光ビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫのうち、二本の光ビームＬＹ、ＬＭは、第五反射ミラー１２６Ａで反射する。第五反射ミラー１２６Ａで反射した２本の光ビームＬＹ、ＬＭのうち光ビームＬＹは、第六反射ミラー１２８Ｙによって感光体３４Ｙに向かって反射する。一方、光ビームＬＭは、第六反射ミラー１２８Ｍで反射したのち、第七反射ミラー１３０Ｍによって感光体３４Ｍに向かって反射する。

第四反射ミラー１２４で反射した四本の光ビームＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫのうち、二本の光ビームＬＣ、ＬＫは、第五反射ミラー１２６Ｂで反射する。第五反射ミラー１２６Ｂで反射した２本の光ビームＬＣ，ＬＫのうち光ビームＬＣは第六反射ミラー１２８Ｃで反射したのち、第七反射ミラー１３０Ｃによって感光体３４Ｃに向かって反射する。一方、光ビームＬＫは第六反射ミラー１２８Ｋで反射したのち、第七反射ミラー１３０Ｋによって感光体３４Ｋに向かって反射する。

＜偏向器及び偏向器の取付構造＞
偏向器２００及び偏向器２００の筐体１０２の底面１０２Ａへの取付構造について説明する。

図５、図７に示すように、偏向器２００は、光走査装置１００の筐体１０２の底面１０２Ａに固定されている（図２も参照）。前述したように、偏向器２００には、複数（本実施形態では１２面）の反射面２０２で構成された回転多面鏡２０４を有する回転体２１０が備えられている。そして、この回転体２１０は、筐体１０２に固定される回路基板２５０に設けられている。

回転体２１０は、回転軸２１２を軸芯として、後述する駆動モータ２２１によって回転する。また、図４、図８、図１１に示すように、回転体２１０には、被位置決部の一例としての略円筒状の凸部２１４を有し、この凸部２１４内に回転軸２１２が回転可能に支持されている。なお、本実施形態では、凸部２１４の軸心と回転軸２１２の軸芯とが、一致するように構成されている。

図１２に示すように、回転体２１０（図５等を参照）は、複数の駆動コイル２２２と図示していない複数の駆動マグネットとを含んで構成された駆動モータ２２１によって回転する。複数の駆動マグネットは、回転体２１０の内部に環状に配置されると共に、Ｎ極とＳ極とが交互に着磁されている。また、駆動コイル２２２は、駆動マグネット（図示略）と対向する位置に固定されている。駆動コイル２２２は、回路基板２５０に形成された配線パターンと接続されており、位置検出器の一例としてのホール素子２２４からの信号に基づいて、励磁電流が流れるようになっている。そして、駆動コイル２２２に励磁電流が流れると、駆動マグネットとの誘導磁界によって回転体２１０が回転する。

本実施形態においては、回路基板２５０は、板金製のベース部材２４８の上に電子部品や配線パターンが設けられた紙フェノール基板２４６が、接着やかしめ等によって固定された構成となっている。回路基板２５０の上面（配線パターン側）には、制御回路及び駆動回路が一体となって、前述した駆動コイル２２２の励磁切り替え制御を行う集積回路２５２等が実装されると共に、前述した回転体２１０の位置を検出するホール素子２２４が実装されている。

そして、図１３に示すように、ホール素子２２４の信号から得られる回転体２１０の速度情報を、集積回路２５２を構成する定速制御回路（ＰＬＬ制御）２５４にフィードバックし、目的の回転数に相当する基準信号２５６と比較しながら、その誤差分を補う励磁電流を駆動部の一例としての駆動回路２５８に流すことで、回転体２１０を定速回転させている。

図５、図７、図８に示すように、偏向器２００の回路基板２５０は、回転体２１０の回転軸２１２の軸方向から見て略長方形状の板状とされている。また、回路基板２５０はＸ方向（図２も参照、光源１０４の光軸方向）を長手方向として配置され、回転体２１０は回路基板２５０における光源１０４側（図２参照）に配置されている。

回路基板２５０における回転体２１０が配置された側の反対側の端部２６３の角部の一方には第一固付孔２６２が形成されている。また、回路基板２５０における回転体２１０が配置された側の角部の一方（前記第一固付孔２６２の対角）には第二固定孔２６４が形成されている。更に、回路基板２５０における回転体２１０が配置された側の角部の他方には調整孔２６８が形成されている。

図１４に示すように、調整孔２６８は、第一固付孔２６２と第二固定孔２６４とを結ぶ仮想直線Ｓ１に対して、回転体２１０（回転多面鏡２０４）への光ビームＬの入射側と反対側に配置されている。また、回転体２１０の回転軸２１２の軸方向から見て、回路基板２５０上で仮想直線Ｓ１が回転体２１０上を通るように（重なるように）に、回転体２１０が配置されている。更に、回転軸２１２は仮想直線Ｓ１に対して調整孔２６８側に離れるように配置されている。また、回転体２１０の回転軸２１２の軸方向から見て、第一固定孔２６２と第二固定孔２６４と調整孔２６８とで囲まれる三角形Ｒの内側に回転軸２１２が配置されている。

また、回路基板２５０における回転体２１０側が配置された側（第二固定孔２６４と調整孔２６８との間）の端部２６１には、内縁が略Ｕ字形状の切欠部２６０が形成されている（図５、図７、図８等も参照）。なお、切欠部２６０は、回路基板２５０を構成するベース部材２４８に形成されている。また、前述したホール素子２２４は、回転体２１０の回転軸２１２の軸方向から見て、回路基板２５０における仮想直線Ｓ１に対する調整孔２６８側とは反対側に設けられている。

図４、図８、図１１に示すように、前述した回転体２１０の凸部２１４は、回路基板２５０から突出しており、筐体１０２の底面１０２Ａに形成された嵌合部の一例としての嵌合孔１０３に嵌合し、これにより回転体２１０の回転軸２１２が筐体１０２の底面１０２Ａに位置決めされている（センタリングされている）。

図６、図８、図９に示すように、筐体１０２の底面１０２Ａには、第一固定孔２６２、第二固定孔２６４、及び調整孔２６８に対応する位置に、第一支持部３１０、第二支持部３２０、及び調整部の一例としての調整用支持部３３０が設けられている。図９に示すように、第一支持部３１０、第二支持部３２０、及び調整用支持部３３０は、中心部に穴３１４，３２４，３３４が形成された円筒部３１２，３２２、３３３と、円筒部３１２の上面に周方向に沿って間隔をあけて形成された複数（本実施形態では三つ）のボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３１６Ｃ，３２６Ａ，３２６Ｂ，３２６Ｃ、３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃと、を有している。

なお、ボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３１６Ｃ，３２６Ａ，３２６Ｂ，３２６Ｃ、３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃは、後述するセルフタップネジ３５０Ａ，３５０Ｂ，３５０Ｃの頭部３５２Ａ，３５２Ｂ，３５２Ｃ（図８等を参照）の座面３５３Ａ，３５３Ｂ，３５３Ｃの径方向の外側に位置するように形成されている。

図６及び図９（Ａ）に示すように、第一支持部３１０及び第二支持部３２０において、仮想直線Ｓ１（図１４参照）に対して調整孔２６８と反対側に配置されたボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）は、他のボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３２６Ａ，３２６Ｂの突出高（ｔ１）よりも低くなるように構成されている（ｔ１＞ｔ２）。よって、図１０（Ａ）に示すように、回転体２１０の回転軸２１２が仮想直線Ｓ１側に傾いた状態で、回路基板２５０が支持される（詳細は後述する）。

また、図９（Ｂ）に示すように、調整用支持部３３０においては、ボス３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃの突出高（ｔ３）は同じ高さとされ、且つ、ボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）よりも低くなるように構成されている（ｔ１＞ｔ２＞ｔ３）。

＜偏向器の取り付け及び回転体の回転軸の角度調整＞
つぎに、偏向器２００を筐体１０２の底面１０２Ａに取り付けて固定する方法と回転体２１０の回転軸２１２の角度調整について説明する。

図１０（Ａ）及び図１１に示すように、筐体１０２の底面１０２Ａの第一支持部３１０及び第二支持部３２０の上に偏向器２００の回路基板２５０を載せると共に、回路基板２５０から突出した回転体２１０の凸部２１４を筐体１０２の底面１０２Ａに形成された嵌合孔１０３（図１１参照）に嵌合させる（図７及び図８も参照）。

そして、回路基板２５０の第一固定孔２６２及び第二固定孔２６４にセルフタップネジ３５０Ａ，３５０Ｂを挿入し、第一支持部３１０及び第二支持部３２０の円筒部３１２，３２２の穴３１４，３２４にネジ止めする。更に、調整孔２６８にセルフタップネジ３５０Ｃを挿入し、調整用支持部３３０の円筒部３３２の穴３３４に挿入する。

ここで、図１０（Ａ）及び図１６（Ａ）に示すように、角度調整前の状態では、第一支持部３１０及び第二支持部３２０の一つのボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）は、他のボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３２６Ａ，３２６Ｂの突出高（ｔ１）よりも低くなっている（図９（Ａ）も参照）。よって、回路基板２５０は仮想直線Ｓ１側に回転体２１０の回転軸２１２が傾いた状態で固定される。言い換えると、後述する角度調整後の回転軸２１２（図１０（Ｂ）及び図１６（Ｂ））に対して相対的に回転軸２１２が傾いた状態で回路基板２５０が固定される。なお、この状態を「初期傾斜状態」とする。

つぎに、図１０（Ｂ）及び図１６（Ｂ）に示すように、調整孔２６８に挿入したセルフタップネジ３５０Ｃを締め込んで行く。セルフタップネジ３５０Ｃを締め込むに従って、回路基板２５０における仮想直線Ｓ１に対する回転体２１０が設けられた側が、仮想直線Ｓ１を湾曲中心（回転中心）として撓んでいく。そして、回路基板２５０が撓んでいくに従って、回転軸２１２が仮想直線Ｓ１と反対側にＺ方向に近くづくように傾いていき、これによって、回転体２１０の回転軸２１２の角度が調整される。なお、図１０及び図１６では回転軸２１２の角度変化を判りやすくするため、実際よりも大きく傾けている。

また、本実施形態では、セルフタップネジ３５０Ｃを使用している。よって、セルフタップネジ３５０Ｃを締め込んでいく方向でのみ角度調整する。なお、セルフタップネジ３５０Ｃを締め込んだ後に緩めて角度調整してもよい。

また、回転体２１０の回転軸２１２が所望の角度範囲内に調整された否かの判断方法は、どのような方法で行ってもよい。例えば、光ビームＬの迷光（ゴースト光）が隣接する第一レンズ系１０６（図２参照）に入力されなくなると、回転軸２１２が所望の角度範囲内に角度調整されたと判断してもよい。

より具体的に説明すると、例えば、光ビームＬＭの迷光が隣接する第一レンズ系１０６Ｃに入力し、光ビームＬＣの迷光が隣接する第一レンズ系１０６Ｍに入力する場合、光ビームＬＣ、ＬＭが第一レンズ系１０６Ｃ，１０６Ｍに入力されなくなると、回転軸２１２が所望の角度範囲内に角度調整されたと判断される。

＜作用効果＞
つぎに、本実施形態の作用及び効果について説明する。

（作用効果１）
図１４に示すように、第一固定孔２６２から第二固定孔２６４に引いた仮想直線Ｓ１が回転体２１０上を通っている。よって、回路基板２５０の湾曲中心（回転中心）となる仮想直線Ｓ１と回転体２１０の回転軸２１２とが近くなる。したがって、角度調整するセルフタップネジ３５０Ｃの締込量に対する回転体２１０の回転軸２１２の角度変化量を緩やかにすることができる。よって、回転体２１０の回転軸２１２の角度調整を高精度に行うことができる。

ここで、図１４に示す仮想直線Ｓ２が回転体２１０上から離れる第一固定孔２６２と第三固定孔２６６とで固定した比較例と本実施形態とを比較して説明する。なお、第三固定孔２６６で固定する場合は、第三支持部８００（図６及び図８を参照）にネジ止めする。第三支持部８００（図６及び図８を参照）は、第一支持部３１０及び第二支持部３２０と同様の構成である。

「回転軸２１２に近接した仮想直線Ｓ１の場合」と「回転軸２１２から離れた仮想直線Ｓ２の場合」とでは、セルフタップネジ３５０Ｃの締込量に対する回転軸２１２が設けられた部位の変位量（湾曲量）は仮想直線Ｓ１の方が仮想直線Ｓ２よりも小さくなる。よって、角度調整するセルフタップネジ３５０Ｃの締込量に対する回転体２１０の回転軸２１２の角度変化量が仮想直線Ｓ１の方が仮想直線Ｓ２よりも緩やかである。

また、図１７は実際の角度変化を示す本実施形態（仮想直線Ｓ１）のグラフであり、図１８は比較例（仮想直線Ｓ２）の場合の対応するグラフである。なお、各グラフにおける「−０．０２、−０．０４、０．０４」は、ボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３２６Ａ，３２６Ｂの突出高（ｔ１）と、ボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）と、の差（ｔ１−ｔ２）である（図９も参照）。

図１７（Ａ）と図１８（Ａ）は、図１０の初期傾斜状態の回転軸２１２の角度を示している。図１７（Ｂ）と図１８（Ｂ）は、調整用のセルフタップネジ３５０Ｃを用いて回路基板２５０を水平状態としたのち、±０．１ｍｍの調整変位を与えた際の回転軸２１２の軸倒れを示している。また、図１７（Ｃ）と図１８（Ｃ）は、セルフタップネジ３５０Ｃを締め込んでいった際のＸ方向とＹ方向とにおける回転軸２１２の軸倒れ量を示している。

図１７（Ｂ）と図１８（Ｂ）とを比較すると、本実施形態の方が、−０．１ｍｍから０ｍｍにおける傾斜が緩やかになっている。また、図１７（Ｃ）と図１８（Ｃ）とを比較すると、実施形態（仮想直線Ｓ１）ではＸ方向は殆ど変化しないがＹ方向は大きく変化し、比較例（仮想直線Ｓ２）ではＸ方向及びＹ方向共に変化することが判る。よって、本実施形態（仮想直線Ｓ１）の方が、比較例（仮想直線Ｓ２）よりも、角度調整するセルフタップネジ３５０Ｃの締込量に対する回転体２１０の回転軸２１２の角度変化量が緩やかであることが判る。

また、図１９は本実施形態（仮想直線Ｓ１）の角度調整後の変位分布を示し、図２０は比較例（仮想直線Ｓ２）の角度調整後の変位分布を示している。なお、ドット（点）が密になるほど、変位が大きいことを示している。そして、この図１９と図２０とを比較すると判るように、同量の調整変位に対して、本実施形態は、比較例よりも、回路基板２５０の変位が小さくなっている。

なお、仮想直線Ｓ１は、回転体２１０の回転軸２１２に近いほど、これらの効果が顕著になる。しかし、図１０及び図１６を見ると判るように、回路基板２５０における仮想直線Ｓ１の調整孔２６８の反対側は殆ど撓まない。よって、仮想直線Ｓ１が回転体２１０の回転軸２１２よりも調整孔２６８側になるような配置は好ましくない。繰り返しになるが、回路基板２５０における仮想直線Ｓ１の調整孔２６８の反対側に回転軸２１２が配置された構成は好ましくない。

（作用効果２）
図１４に示すように、回路基板２５０の調整孔２６８が仮想直線Ｓ１に対する回転多面鏡２０４への光ビームＬの入射側と反対側に配置されている。よって、角度調整するセルフタップネジ３５０Ｃを締め込んで角度調整を行う際に、光ビームＬが調整用の工具類に干渉しにくい（工具類が光ビームＬを遮らにくい）。したがって、光ビームＬを利用して回転体２１０の回転軸２１２の角度調整を行う際の作業効率が向上し、この結果、回転軸２１２の角度調整を高精度に行うことができる。

（作用効果３）
図１４に示すように、第一固定孔２６２と第二固定孔２６４と調整孔２６８とで囲まれる三角形Ｒの内側に回転体２１０の回転軸２１２が配置されている。回路基板２５０における三角形Ｒの領域は各頂点部分が固定されているので、片持構造となる三角形Ｒの外側の領域よりも剛性が高い。したがって、回転体２１０の回転軸２１２が三角形Ｒの外側に配置された場合と比較して、回転体２１０の回転に伴う回路基板２５０の振動が低減する。

（作用効果４）
図１０（Ａ）に示すように、予め仮想直線Ｓ１側に回転体２１０の回転軸２１２が傾くように回路基板２５０が支持される（初期傾斜状態）。そして、この状態から図１０（Ｂ）に示すように、セルフタップネジ３５０Ｃを締め込んで回路基板２５０を撓ませ、回転軸２１２を仮想直線Ｓ１と反対側に傾斜して角度調整する。このように、セルフタッネジ３５０Ｃによる角度調整方向が一方向となるので、回転体２１０の回転軸２１２の角度調整を高精度に行うことができる。
（作用効果５）

ホール素子２２４は、回転体２１０の回転軸２１２の軸方向から見て、回路基板２５０における仮想直線Ｓ１に対する調整孔２６８側とは反対側に設けられている（図１２参照）。よって、回路基板２５０を撓ませても、調整孔２６８側の反対側は調整孔２６８側よりも変位が小さく、回転体２１０に対するホール素子２２４の位置の変化が少ない。よって、ホール素子２２４から送られる速度情報（信号）の劣化が少ないので、位置検出精度が確保される。よって、回転体２１０の位置検出精度を確保しつつ、回転軸２１２の角度調整を行うことができる。

（作用効果６）
回路基板２５０における回転体２１０側が配置された側（第二固定孔２６４と調整孔２６８との間）の端部２６１には、内縁が略Ｕ字形状の切欠部２６０が形成されている（図５、図７、図８等も参照）。よって、回転軸２１２を角度調整するために回路基板２５０を湾曲させても、切欠部２６０近傍に応力が集中し、回路基板２５０の切欠部２６０近傍以外の部位の応力が低減する。また、本実施形態では、回路基板２５０を構成するベース部材２４８に切欠部２４８が形成されている。よって、電子部品や配線パターンが設けられた紙フェノール基板２４６の変形が効果的に低減する。したがって、電子部品や配線パターンへの応力が効果的に低減する。

また、切欠部２６０近傍に応力が集中することで、セルフタップネジ３５０Ｃの締込量に対する回路基板２５０の湾曲量の変化が小さくなる。よって、回転軸２１２の角度調整を切欠部２６０が形成されていない場合よりも、高精度に行うことができる。

ここで、角度調整後の回路基板の応力分布について説明する。
図２３は、角度調整後の回路基板２５０のベース部材２４８の応力分布を示している。なお、ドット（点）が密になるほど、応力が大きいことを示している。そして、この図１７を見ると判るように、回路基板２５０（のベース部材２４８）における端部２６１の切欠部２６０付近に応力が集中している。また、回路基板２５０（のベース部材２４８）における調整孔２６８側の反対側は、調整孔２６８側よりも応力が小さくなっている。

（作用効果７）
図６及び図９（Ａ）に示すように、第一支持部３１０及び第二支持部３２０において、仮想直線Ｓ１（図１４参照）に対して調整孔２６８と反対側に配置されたボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）を他のボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３２６Ａ，３２６Ｂの突出高（ｔ１）よりも低くなるように構成することで、仮想直線Ｓ１側に回転体２１０の回転軸２１２が傾いた状態で、回路基板２５０が支持される。よって、筐体１０２を成型する成形型における第一支持部３１０及び第二支持部３２０又はボス３１６Ｃ，３２６Ｃを入れ子構造とすることで、ボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高を筺体全体の成形型を変更することなく変更できる。つまり、予め仮想直線Ｓ側に傾ける回転軸２１２の角度を、筺体１０２全体の成形型を変更することなく調整することができる。また、これにより、仕様の異なる偏向器を導入する場合など、偏向器の回転軸の軸倒れ傾向や仕様が大きく変わっても、筺体全体の成形型を変更することなく対応することができる。

（作用効果８）
図９（Ｂ）及び図１０に示すように、調整用支持部３３０においては、ボス３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃの突出高（ｔ３）はボス３１６Ｃ，３２６Ｃの突出高（ｔ２）よりも低くなるように構成されている。よって、セルフタップネジ３５０Ｃによる回転軸２１２の角度調整量を大きく確保することができる。また、Ｙ方向及びＸ方向を水平方向とした場合、回路基板２５０における調整用孔２６８部分が、水平よりも底面１０２Ａ側に移動可能であるので、回転軸２１２の角度調整量を大きく確保することができる。

（作用効果９）
図９（Ａ）に示すように、ボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３１６Ｃ，３２６Ａ，３２６Ｂ，３２６Ｃ、３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃは、セルフタップネジ３５０Ａ，３５０Ｂ，３５０Ｃの頭部３５２Ａ，３５２Ｂ，３５２Ｃ（図８等を参照）の座面３５３Ａ，３５３Ｂ，３５３Ｃの外側に位置するように形成されている。よって、ボス３１６Ａ，３１６Ｂ，３１６Ｃ，３２６Ａ，３２６Ｂ，３２６Ｃ、３３６Ａ，３３６Ｂ，３３６Ｃに対して、座面３５３Ａ，３５３Ｂ，３５３Ｃが片当たりすることによる回転軸２１２の傾きを抑制することができる。

（その他の作用効果）
更に、上記のように回転体２１０の回転軸２１２を高精度に調整することができることによって、次の作用効果が得られる。

図１５（Ａ）に示すように、回転体２１０の回転軸２１２が高精度に角度調整されることによって、光ビームＬの変動（ぶれ）が抑制される。

したがって、例えば、仮に回転体２１０の回転軸２１２の角度調整の精度が低く、回転軸２１２が大きく傾いている比較例の場合は、光ビームＬ’のように変動（ぶれ）が大きくなる。また、分離光学系１２２の第四反射ミラー１２４から外れる怖れがあり、第四反射ミラー１２４の大きくする必要がある。

これに対して、本実施形態のように回転体２１０の回転軸２１２が高精度に角度調整されることによって、光ビームＬの位置変動（ぶれ）が抑制される。また、分離光学系１２２の第四反射ミラー１２４を小さくすることができる。

また、回転体２１０の回転軸２１２が高精度に角度調整されることによって、走査線形状や像面湾曲など特性のバラツキを抑制することができる。

具体的に説明すると、図１５（Ｂ）に示すように、回転体２１０の回転軸２１２の角度調整の精度が低く、回転軸２１２が大きく傾いている比較例の場合は、回転多面鏡２０４への法線方向の入射角度が変化することによって走査線Ｇ’のように湾曲する。

これに対して、本実施形態のように回転体２１０の回転軸２１２が高精度に角度調整されることによって、回転多面鏡２０４への法線方向の入射角度の変化が抑制され、走査線Ｇのように湾曲が抑制される。

また、図１５（Ｃ）に示すように、回転体２１０の回転軸２１２の角度調整の精度が低く、回転軸２１２が大きく傾いている比較例の場合は、ｆθレンズ１２０への光軸に対する入射位置や角度が変化することによって、矢印Ｊ１及び矢印Ｊ２で示すように光ビームＬの感光体３４の像面位置や描画位置が変化する。

これに対して、本実施形態のように回転体２１０の回転軸２１２が高精度に角度調整されることによって、ｆθレンズ１２０への光軸に対する入射位置や角度変化が抑制され、この結果、光ビームＬの感光体３４の像面位置や描画位置の変化が抑制される。

＜変形例＞
つぎに本実施形態の変形例について説明する。

変形例では、図２１及び図２２に示すように、セルフタップネジ３５０Ａ，３５０Ｂ，３５０Ｃの頭部３５２Ａ，３５２Ｂ，３５２Ｃの座面３５３Ａ，３５３Ｂ，３５３Ｃと回路基板２５０との間に弾性部材の一例としてのリング状のゴム材４００Ａ，４００Ｂ，４００Ｃが挟まれた状態で固定されている。

このように、座面３５３Ａ，３５３Ｂ，３５３Ｃと回路基板２５０との間にゴム材４００Ａ，４００Ｂ，４００Ｃが挟まれることで、セルフタップネジ３５０Ａ，３５０Ｂ、３５０Ｃの挿入角度のバラツキで発生する挿入角度誤差を抑制することができ、この結果、回転体２１０の回転軸２１２の角度のバラツキを抑制することができる。

＜その他＞
尚、本発明は、上記実施形態に限定されない。

例えば、上記実施形態では、セルフタップネジ３５０Ｃを使用したが、これに限定されない。調整用支支持部にネジ溝を予め形成したりヘリサートを設けたりし、通常のネジを用いてもよい。なお、この場合は、ネジを締め込んだ後にネジを緩めて角度調整してもよい。

また、画像形成装置の構成としては、上記実施形態の構成に限られず種々の構成とすることが可能である。更に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない。

１０ 画像形成装置
３４Ｙ 感光体（潜像保持体の一例）
３４Ｍ 感光体（潜像保持体の一例）
３４Ｃ 感光体（潜像保持体の一例）
３４Ｋ 感光体（潜像保持体の一例）
３６Ｙ 帯電部材（帯電手段の一例）
３６Ｍ 帯電部材（帯電手段の一例）
３６Ｃ 帯電部材（帯電手段の一例）
３６Ｋ 帯電部材（帯電手段の一例）
３８Ｙ 現像器（現像手段の一例）
３８Ｍ 現像器（現像手段の一例）
３８Ｃ 現像器（現像手段の一例）
３８Ｋ 現像器（現像手段の一例）
１００ 光走査装置
１０２ 筐体（収容部の一例）
１０２Ａ 底面（内面の一例）
１０４Ｙ 光源
１０４Ｍ 光源
１０４Ｃ 光源
１０４Ｋ 光源
２００ 偏向器
２０４ 回転多面鏡
２１０ 回転体
２１２ 回転軸
２５０ 回路基板
２６８ 調整孔（調整部の一例）
３１０ 第一支持部（一対の支持部の一例）
３１６Ａ ボス（他の凸部の一例）
３１６Ｂ ボス（他の凸部の一例）
３１６Ｃ ボス（一の凸部の一例）
３２０ 第二支持部（一対の支持部の一例）
３２６Ａ ボス（他の凸部の一例）
３２６Ｂ ボス（他の凸部の一例）
３２６Ｃ ボス（一の凸部の一例）
３３０ 調整用支持部
３３６Ａ ボス（調整用凸部の一例）
３３６Ｂ ボス（調整用凸部の一例）
３３６Ｃ ボス（調整用凸部の一例）
３５０Ａ セルフタップネジ（一対の固定部材の一例）
３５０Ｂ セルフタップネジ（一対の固定部材の一例）
３５０Ｃ セルフタップネジ（ネジ部材の一例）
３５３Ａ 座面
３５３Ｂ 座面
３５３Ｃ 座面
４００Ａ ゴム部材（弾性部材の一例）
４００Ｂ ゴム部材（弾性部材の一例）
ＬＹ 光ビーム
ＬＭ 光ビーム
ＬＣ 光ビーム
ＬＫ 光ビーム
Ｓ１ 仮想直線

Claims (6)

1. 光源から出射される光ビームを偏向する回転多面鏡が設けられた回転体と、
   前記回転体を回転可能に支持すると共に前記回転体を駆動する回路基板と、
   前記回転体及び前記回路基板を収容する収容部と、
   前記収容部の内面に互いに離間して設けられると共に、互いを結ぶ仮想直線が前記回転体の回転軸から離れ且つ前記回転体と重なるように配置され、前記回転軸が前記仮想直線側に傾くように前記回路基板を支持する一対の支持部と、
   前記回路基板を前記一対の支持部に固定する一対の固定部材と、
   前記回路基板における前記仮想直線に対して前記回転軸が配置された側に位置する調整位置において、前記収容部に対する前記回路基板の前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部と、
   を備えた光走査装置。
2. 光源から出射される光ビームを偏向する回転多面鏡が設けられた回転体と、
   前記回転体を回転可能に支持すると共に前記回転体を駆動する回路基板と、
   前記回転体及び前記回路基板を収容する収容部と、
   前記収容部の内面に互いに離間して設けられると共に、互いを結ぶ仮想直線が前記回転体の回転軸から離れるように配置され、前記回転軸が前記仮想直線側に傾くように前記回路基板を支持する一対の支持部と、
   前記回路基板を前記一対の支持部に固定する一対の固定部材と、
   前記回路基板における前記仮想直線に対して前記回転軸が配置された側に位置する調整位置において、前記収容部に対する前記回路基板の前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部と、
   を備え、
   前記一対の支持部は、それぞれ前記収容部の内面から突出された複数の凸部のうち少なくとも一つの凸部の突出高を他の凸部の突出高よりも低くすることで、前記仮想直線側に前記回転体の前記回転軸が傾くように前記回路基板を支持する構成とされている光走査装置。
3. 前記収容部の内面から前記回路基板の前記調整位置に向けて、前記一対の支持部における前記他の凸部の突出高よりも低く突出された調整用凸部を有する調整用支持部を備えた請求項２記載の光走査装置。
4. 前記固定部材は、ネジとされ、
   前記ネジの軸方向から見て、複数の前記凸部は前記ネジの座面の外側に配置されている請求項２又は請求項３に記載の光走査装置。
5. 前記固定部材は、ネジとされ、
   前記回路基板と前記ネジの座面との間に、弾性部材が挟まれている請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置。
6. 帯電手段で帯電された潜像保持体の表面に光ビームを走査して潜像を形成する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置と、
   前記潜像保持体に形成された前記潜像に現像剤を付与して現像する現像手段と、
   を備える画像形成装置。

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