JP5942536B2 - 金属粉末射出成形用成形型 - Google Patents

Description

本発明は、金属粉末射出成形用成形型に関するものである。

近年、複雑な形状の金属焼結体を製造する方法として、金属粉末射出成形法（ＭＩＭ）が普及しつつある。金属粉末射出成形法は、金属粉末と有機バインダーとの混練物を成形型のキャビティ内に射出成形し、得られた成形体を脱脂、焼成することにより、所望の形状の金属焼結体を製造する方法である。この方法であれば、最終形状に近い形状の金属焼結体を製造することができるので、二次加工を省略したり、加工量を減らすことができ、製造工程の簡略化および製造コストの削減が図られる。

金属粉末射出成形法が適用される金属焼結体として、ドットインパクト式のプリンター装置に用いられるヨークケースが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。このヨークケースは、軟磁性材料で構成された円環の板形状をなしている。また、円環の外縁部は一方の面側に突出しており、その内側にも複数の円柱状の鉄心が突出している。さらには、多数の貫通孔も設けられている。金属粉末射出成形法では、このようなヨークケースに対応した形状のキャビティ内に、軟磁性材料の粉末と有機バインダーとの混練物を射出し、得られた成形体を脱脂、焼成することによってヨークケースを得る。

ここで、金属粉末射出成形法において高い寸法精度を実現するには、成形型のキャビティ内に混練物を円滑に充填する必要がある。ところが、特許文献１に記載されているようなヨークケースの場合、複数の鉄心や貫通孔を形成するため、キャビティの形状が非常に複雑になる。このため、混練物の流動抵抗が高くなりがちであり、円滑に充填することができない。その結果、充填不良に伴うウェルドライン、寸法不良といった成形不具合の発生が避けられない。

特開２００７−４４９８０号公報

本発明の目的は、金属粉末射出成形法により、円環の板形状をなす高品質の成形体を確実に製造可能な金属粉末射出成形用成形型を提供することにある。

上記目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の金属粉末射出成形用成形型は、円環の板形状をなす基部と、前記基部の一方の主面の外縁に沿って設けられ、前記一方の主面より立ち上がる形状をなす外縁部と、前記基部の前記一方の主面に直交する方向からの平面視で前記外縁部とは異なる位置に設けられ、前記基部を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔と、前記平面視で前記外縁部および前記複数の貫通孔と異なる位置の前記一方の主面から立ち上がるように設けられる複数のコア部と、を有する金属粉末射出成形体を成形するためのキャビティを形成可能な金属粉末射出成形用成形型であって、
前記金属粉末射出成形体の少なくとも前記基部の前記一方の主面とは反対側の他方の主面を成形する第１キャビティ面を有する第１の成形型と、
前記金属粉末射出成形体の少なくとも前記基部の前記一方の主面を成形する第２キャビティ面を有する第２の成形型と、
前記キャビティ内に金属粉末射出成形材料を導入する複数のゲートと、
を有し、
前記ゲートは、前記第１キャビティ面の平面視において前記金属粉末射出成形体の前記基部の円環の板形状の中心点に対して回転対称の関係を満足する位置であり、かつ、前記金属粉末射出成形体の前記複数の貫通孔および前記複数のコア部に対応する位置からそれぞれ離れた位置に設けられ、前記第１キャビティ面の平面視において前記ゲートの開口の一部と前記外縁部に対応する位置とが重なるよう構成されていることを特徴とする。
これにより、キャビティ内における成形材料の流動性および充填性が確保されるとともに、キャビティ内に充填される成形材料の温度等の均一化が図られ、いわゆるウェルドラインの発生が抑えられるので、円環の板形状をなす高品質の成形体を金属粉末射出成形法によって確実に製造可能な金属粉末射出成形用成形型が得られる。
また、これにより、ゲートから供給された成形材料は、その一部が外縁部を充填する方向へ流動し、残部は基部等を充填する方向へ流動する。その結果、成形材料の流れを効率よく枝分かれさせることができ、キャビティ内に成形材料が充填されるまでの時間を短縮することができる。すなわち、キャビティ内の一部が先に充填され、その後残部が充填されるというような、成形材料の充填において大きなタイムラグが生じるのを防止することができる。その結果、成形材料の温度等のバラツキがより一層抑えられ、成形体密度のさらなる均一化が図られるとともに、ウェルドラインの発生がより確実に抑えられる。

本発明の金属粉末射出成形用成形型では、前記コア部の数をｎとしたとき、前記ゲートの数はｎ／４以上ｎ／２以下であることが好ましい。
これにより、成形材料がキャビティ内を流動している間に温度等の条件が変化し、成形体密度が低下したり、ウェルドラインが発生したりするのを防止するとともに、成形材料を各ゲートに対してほぼ同じタイミングで振り分けることにより、成形材料がゲートの開口を通過する時刻にズレが生じにくく、成形体密度の低下やウェルドラインの発生を防止することができるので、成形材料の高い充填性が確保される。
本発明の金属粉末射出成形用成形型では、前記ゲートの数は、３個以上６個以下であることが好ましい。
これにより、成形体密度の低下やウェルドラインの発生を十分に抑えることができる。

本発明の金属粉末射出成形用成形型では、前記各ゲートの位置は、前記第１キャビティ面の平面視において少なくとも２つの前記貫通孔から等しい距離にある位置であることが好ましい。
これにより、成形材料の流動抵抗を最小限に抑え、その円滑な流動が確保されることにより、成形体密度の低下やウェルドラインの発生をさらに確実に抑制することができる。

本発明の金属粉末射出成形用成形型では、前記金属粉末射出成形体は、さらに、前記基部の一方の主面の内縁に沿って設けられ、前記外縁部と同じ高さになるように前記一方の主面より立ち上がる形状をなす内縁部を有していることが好ましい。
これにより、外縁部と内縁部の双方を有するような、均一に充填させにくい形状のキャビティに対しても、均一に成形材料を充填可能な成形型が得られる。

本発明の金属粉末射出成形用成形型では、前記複数のコア部は、前記基部の円環の板形状の中心点に対して回転対称の関係を満足し、かつ、前記中心点からの距離が等しい位置に等間隔で配置されていることが好ましい。
これにより、成形材料の円滑な流動が確保され、成形体密度の低下やウェルドラインの発生を確実に抑制することができる。

本発明の金属粉末射出成形用成形型の第１実施形態の型閉め状態を示す断面図である。 図１に示す金属粉末射出成形用成形型のキャビティの平面図である。 図１に示す金属粉末射出成形用成形型の第１実施形態の型開き状態を示す断面図である。 図２に示す平面図の部分拡大図である。 本発明の金属粉末射出成形用成形型の第２実施形態の型閉め状態を示す断面図である。 図５に示す金属粉末射出成形用成形型のキャビティの平面図である。 図５に示す金属粉末射出成形用成形型の第２実施形態の型開き状態を示す断面図である。

以下、本発明の金属粉末射出成形用成形型について、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
まず、本発明の金属粉末射出成形用成形型の第１実施形態について説明する。
図１は、本発明の金属粉末射出成形用成形型の第１実施形態の型閉め状態を示す断面図であり、図２は、図１に示す金属粉末射出成形用成形型のキャビティの平面図、図３は、図１に示す金属粉末射出成形用成形型の第１実施形態の型開き状態を示す断面図である。なお、図１、３に示す断面図は、それぞれ図２のＡ−Ａ線の断面図である。

図１に示す金属粉末射出成形用成形型（以下、省略して「成形型」という。）１は、型開きおよび型閉じ可能に設けられた第１の成形型１１と第２の成形型１２とを有している。そして、型閉じ状態にある第１の成形型１１と第２の成形型１２との間（パーティング面Ｐ）には、成形用のキャビティ１０が形成されている。このキャビティ１０は、ドットインパクト式のプリンター装置に用いられるヨークケース成形用のキャビティの一例である。

キャビティ１０は、図１、２に示すように、円環の板形状の空洞で構成された基部１０１と、基部１０１の２つの主面のうち、一方の主面の外縁に沿って設けられ、この一方の主面から立ち上がるように構成された外縁部１０２と、一方の主面に直交する方向からの平面視において基部１０１上の外縁部１０２とは異なる位置に点在するよう設けられ、基部１０１を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔１０３と、平面視において基部１０１上の外縁部１０２および複数の貫通孔１０３とは異なる位置に点在するよう設けられ、基部１０１の一方の主面から立ち上がるよう構成された複数のコア部１０４と、基部１０１の一方の主面の内縁に沿って設けられ、外縁部１０２と同じ厚さになるように一方の主面から立ち上がるよう構成された内縁部１０５と、を有している。

このキャビティ１０に金属粉末射出成形材料が充填されることにより、キャビティ１０の形状に対応した形状の金属粉末射出成形体（以下、省略して「成形体」という。）が得られる。すなわち、基部１０１に対応して成形体の基部が、外縁部１０２に対応して成形体の外縁部が、貫通孔１０３に対応して成形体の貫通孔が、コア部１０４に対応して成形体のコア部が、内縁部１０５に対応して成形体の内縁部が、それぞれ形成される。

また、第１の成形型１１および第２の成形型１２のパーティング面Ｐには、このキャビティ１０の形状に応じた凸部および凹部が形成されている。具体的には、図１に示す第１の成形型１１のうち、キャビティ１０に臨む面である第１キャビティ面には、パーティング面Ｐから凹没するように形成され、キャビティ１０の厚さと外径とに対応した第１の凹部１１１が設けられている。この第１キャビティ面は、キャビティ１０を画成する面のうち、基部１０１の一方の主面とは反対側に位置する他方の主面側の領域を構成する面である。

一方、図１に示す第２の成形型１２のうち、キャビティ１０に臨む面である第２キャビティ面には、パーティング面Ｐから突出するように形成され、第１の凹部１１１に対応した略円柱状の第１の凸部１２０が設けられている。この第２キャビティ面は、キャビティ１０を画成する面のうち、基部１０１の一方の主面側の領域を構成する面である。
この第１の凸部１２０には、前記複数のコア部１０４に対応する部分と、前記内縁部１０５に対応する部分とに、それぞれ凹み（複数の第２の凹部１２１および第３の凹部１２２）が形成されており（図２、３参照）、この凹みによってキャビティ１０のコア部１０４と内縁部１０５とが形作られている。また、図１に示すように、第１の凸部１２０の外径は第１の凹部１１１の内径より小さくなっており、この差に相当する空洞が前記外縁部１０２に対応している。さらに、第１の凸部１２０の一部には、周囲より一段厚くなっている円柱状の部分が複数あり、この部分（複数の第２の凸部１２３）がキャビティ１０の基部１０１を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔１０３に対応している。

さらに、第１の成形型１１には、キャビティ１０内に金属粉末射出成形材料（以下、省略して「成形材料」という。）を導入する複数のゲート１１５が設けられている。これら複数のゲート１１５の開口は、図２に示すように、前記円環の中心点Ｏに対して回転対称の関係を満足し、かつ、平面視において各貫通孔１０３および各コア部１０４からそれぞれ離れた位置に設けられている。

このような成形型１によれば、成形材料を円滑に流動させ、キャビティ１０内に均一に充填することができる。その結果、成形型１は、均質で緻密な焼結体を製造可能な高品質な成形体を確実に成形し得るものとなる。なお、キャビティ１０に外縁部１０２と内縁部１０５の双方がある場合、ゲート１１５の位置によってはいずれかの充填性が低下するおそれがあるが、本発明によればこのような形状のキャビティ１０に対しても均一に成形材料を充填することができる。
キャビティ１０の内径（基部１０１の内径）は、特に限定されないが、一例として１５ｍｍ以上２００ｍｍ以下程度とされる。また、キャビティ１０の厚さは、特に限定されないが、一例として２ｍｍ以上３０ｍｍ以下程度とされる。

第１の成形型１１および第２の成形型１２の構成材料は、セラミックス材料であってもよいが、一般には耐熱鋼、超硬合金、ステンレス鋼のような金属材料である。
また、成形型１におけるパーティング面Ｐの位置は、図１、３に示す面に限定されず、それ以外の位置に設定されていてもよい。
基部１０１は、図２に示すように、円環の板形状の空洞で構成されており、その厚さは０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下程度とされる。
外縁部１０２は、基部１０１の外縁に沿って設けられた円環状の空洞で構成されており、その厚さはキャビティ１０の厚さと同等であり、その幅（円環の半径方向の長さ）は１ｍｍ以上５ｍｍ以下程度とされる。また、基部１０１と外縁部１０２との段差は、０．５ｍｍ以上１５ｍｍ以下程度とされる。

複数の貫通孔１０３は、基部１０１を厚さ方向に貫通しており、その内径、すなわち第２の凸部１２３の外径は、０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下程度とされる。また、複数の貫通孔１０３の数、すなわち第２の凸部１２３の数は、特に限定されないが、８個以上２００個以下程度とされる。
複数のコア部１０４は、図２に示すように、円環の円周方向に沿って等間隔に配置されている。各コア部１０４は、平面視において略台形をなしており、その長径は２ｍｍ以上１０ｍｍ以下程度、短径は１ｍｍ以上８ｍｍ以下程度とされる。また、各コア部１０４の厚さはキャビティ１０の厚さと同等であり、好ましくは外縁部１０２および内縁部１０５の厚さと等しくなるよう設定される。なお、コア部１０４の配置パターンは特に限定されず、等間隔でなくてもよい。
また、基部１０１と各コア部１０４との段差は、特に限定されないが、０．５ｍｍ以上１５ｍｍ以下程度とされる。

さらに、コア部１０４の数も、特に限定されないが、４個以上１００個以下程度とされる（図２では１２個）。また、コア部１０４の配置は、円環の中心点Ｏに対して回転対称の関係を満足しており、かつ、中心点Ｏからの距離が等しい位置に設定されている。このような位置にコア部１０４を設けることにより、成形材料の円滑な流動が確保され、成形体密度の低下やウェルドラインの発生を確実に抑制することができる。

なお、貫通孔１０３は、各コア部１０４に対してそれぞれ等しい位置関係になるよう１個または複数個ずつ配置される。具体的には、図２に示すキャビティ１０では、各コア部１０４の中心点Ｏ側の位置と、各コア部１０４の外側の位置とに、それぞれ１個ずつの貫通孔１０３が配置されている。したがって、貫通孔１０３の個数は、コア部１０４の個数の整数倍になることが好ましい。図２では、各コア部１０４に２個ずつの貫通孔１０３が配置されており、このうち、各コア部１０４の中心点Ｏ側に配置された貫通孔１０３は中心点Ｏに対して回転対称の関係を満足し、かつ等間隔に配置されており、一方、各コア部１０４の外側に配置された貫通孔１０３も中心点Ｏに対して回転対称の関係を満足し、かつ等間隔に配置されている。なお、貫通孔１０３の配置パターンは特に限定されず、等間隔でなくてもよい。

内縁部１０５は、基部１０１の内縁に沿って設けられた円環状の空洞で構成されており、その厚さはキャビティ１０の厚さと同等であり、その幅（円環の半径方向の長さ）は１ｍｍ以上５ｍｍ以下程度とされる。また、基部１０１と内縁部１０５との段差は、０．５ｍｍ以上１５ｍｍ以下程度とされる。
なお、好ましくは、外縁部１０２、コア部１０４および内縁部１０５の厚さがそれぞれ等しく設定される。

ここで、前述したように、第１の成形型１１には複数のゲート１１５が設けられており、その開口の配置は図２に示すように、前記円環の中心点Ｏに対して回転対称の関係を満足し、かつ、平面視において各貫通孔１０３および各コア部１０４からそれぞれ離れた位置になっている。ゲート１１５をこのように配置したことにより、キャビティ１０に充填される成形材料の温度等の均一化が図られる。その結果、複数のゲート１１５から導入された成形材料がキャビティ１０内で合流するとき、成形材料の温度等が揃っているので、互いに混じり合い易くなり、いわゆるウェルドラインの発生が抑えられるとともに、成形体の密度が均一になる。
また、第１の成形型１１には３つのゲート１１５が開口しており、その開口は、それぞれコア部１０４の外側の位置している。さらに、開口は、平面視においてその一部が外縁部１０２に対応する位置と重なる位置に設けられている。

図４は、図２に示す平面図の部分拡大図である。
図４に示すように、ゲート１１５の開口は、第１キャビティ面の平面視においてその一部が外縁部１０２に対応する位置と重なり、残部は基部１０１と重なる位置に設けられている。ゲート１１５の開口の位置をこのように設定することにより、ゲート１１５から供給された成形材料は、その一部が外縁部１０２を充填する方向（図４に示す矢印Ｆ１）へ流動し、残部は基部１０１等を充填する方向（図４に示す矢印Ｆ２）へ流動する。その結果、成形材料の流れを効率よく枝分かれさせることができ、キャビティ１０内に成形材料が充填されるまでの時間を短縮することができる。すなわち、キャビティ１０内の一部が先に充填され、その後残部が充填されるというような、成形材料の充填において大きなタイムラグが生じるのを防止することができる。その結果、成形材料の温度等のバラツキがより一層抑えられ、成形体密度のさらなる均一化が図られるとともに、ウェルドラインの発生がより確実に抑えられる。

この場合、ゲート１１５の開口のうち、平面視において外縁部１０２と重なっている領域（図４に示す領域１１５２）は、基部１０１と重なっている領域（図４に示す領域１１５１）より狭くなるよう設定されるのが好ましい。これにより、成形材料の流れのバランスが最適化される。なお、領域１１５２の面積は、領域１１５１の面積の５％以上４５％以下であるのが好ましく、１０％以上４０％以下であるのがより好ましい。

ゲート１１５の数は、特に限定されないが、好ましくはコア部１０４の数をｎとしたときｎ／４以上ｎ／２以下に設定される。これにより、成形材料の高い充填性が確保される。なお、ゲート１１５の数が前記下限値を下回る場合、ゲート１１５の数が少ないため、成形材料がキャビティ１０内を流動している間に温度等の条件が変化し、成形体密度が低下したり、ウェルドラインが発生したりするおそれがある。一方、ゲート１１５の数が前記上限値を上回る場合、ゲート１１５の数が多すぎるため、成形材料を各ゲート１１５に対して同じタイミングで振り分けることが難しくなり、成形材料がゲート１１５の開口を通過する時刻にズレが生じて成形体密度が低下したり、ウェルドラインが発生したりするおそれがある。
なお、図２の場合、コア部１０４の数は１２個であるので、ゲート１１５の数は３個以上６個以下であるのが好ましい。

また、ゲート１１５の数は、キャビティ１０の大きさに応じて適宜設定されるものの、前述したような内径、厚さであれば、３個以上６個以下程度であるのが好ましい。ゲート１１５の数をこの程度に設定することで、成形体密度の低下やウェルドラインの発生を十分に抑えることができる。
また、ゲート１１５の開口が、前述したように、平面視において各貫通孔１０３や各コア部１０４からそれぞれ離れた位置に設けられることで、ゲート１１５からの成形材料の供給が阻害され難くなり、円滑な充填が可能になる。この場合、ゲート１１５の開口と各貫通孔１０３との平面視における離間距離Ｌ１やゲート１１５の開口と各コア部１０４との平面視における離間距離Ｌ２は、それぞれ好ましくは１ｍｍ以上に設定され、より好ましくは２ｍｍ以上に設定される。

また、ゲート１１５の開口の位置は、少なくとも２つの貫通孔１０３から等しい距離にある位置に設定されるのが好ましい。このような位置に設定されることで、成形材料のより円滑な流動が確保され、成形体密度の低下やウェルドラインの発生をさらに確実に抑制することができる。これは、キャビティ１０に設けられた貫通孔１０３が、成形材料の流動を妨げる抵抗要素になっているところ、ゲート１１５の位置を前記のように設定することにより、流動抵抗を最小限に抑えられるからである。図４では、各ゲート１１５の開口の円周方向の両側にそれぞれ貫通孔１０３が位置しており、これらの貫通孔１０３とゲート１１５との離間距離Ｌ１が等しくなっている。
なお、ゲート１１５の開口の位置は、３つ以上の貫通孔１０３から等しい距離にある位置に設定されていてもよい。

以上、第１の成形型１１および第２の成形型１２について説明したが、これらの成形型は必要に応じて複数のブロックに分割されていたり、入れ子構造（インサートブロック）になっていたりしてもよい。また、図示していないが、第１の成形型１１および第２の成形型１２にはイジェクトピンが設けられており、このイジェクトピンはキャビティ１０内に突出可能になっている。成形材料の成形後、このイジェクトピンをキャビティ１０内に突出させることにより、成形体をキャビティ１０から離型させることができる。

また、第１の成形型１１または第２の成形型１２には、必要に応じて、ガスベントが設けられる。ガスベントを設けることにより、キャビティ１０内の不要なガスを外部に放出し、成形材料の充填性を高めることができる。
ガスベントの形成位置は特に限定されないが、一例として、パーティング面Ｐ、イジェクトピン近傍が挙げられる。また、第１の成形型または第２の成形型が入れ子構造になっている場合、入れ子の合わせ面にガスベントを設けるようにしてもよい。

また、ゲート１１５は、第２の成形型１２側に設けられていてもよく、複数のゲート１１５のうち、一部が第１の成形型１１側に設けられ、残部が第２の成形型１２側に設けられていてもよい。
また、キャビティ１０の寸法は、製造しようとする成形体の寸法に応じて設定される。
この成形体は、その後、脱脂処理および焼成処理を経て金属焼結体となる。この金属焼結体が前述したヨークケースとなる。

ここで、脱脂処理や焼成処理においては成形体が収縮するため、成形体を製造するときにはこの収縮率を考慮して成形体の寸法を設計する。ところが、収縮率は成形体の形状に応じて変化するため、図１、２に示すような複雑な形状のキャビティ１０で成形された成形体では、部分的に収縮率が異なる。そこで、キャビティ１０を設計する際には、このような収縮率のバラツキを反映させることが好ましい。
さらに、金属焼結体に対しては、通常、研磨処理が施される。したがって、キャビティ１０を設計する際には、この研磨処理における研磨量を反映させることも効果的である。これにより、設計通りの金属焼結体を効率よく製造することができる。

＜第２実施形態＞
次に、本発明の金属粉末射出成形用成形型の第２実施形態について説明する。
図５は、本発明の金属粉末射出成形用成形型の第２実施形態の型閉め状態を示す断面図であり、図６は、図５に示す金属粉末射出成形用成形型のキャビティの平面図、図７は、図５に示す金属粉末射出成形用成形型の第２実施形態の型開き状態を示す断面図である。なお、図５、７に示す断面図は、それぞれ図６のＢ−Ｂ線の断面図である。
以下、第２実施形態について説明するが、第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。なお、図５〜７において第１実施形態と同様の構成部分については、先に説明したのと同様の符号を付し、その詳細な説明を省略する。

第２実施形態は、キャビティ１０が内縁部１０５を含んでいないこと以外は、第１実施形態と同様である。このような形態であっても、成形型１によれば、均質で緻密な焼結体を製造可能な高品質な成形体を確実に成形することができる。
なお、本実施形態に係る第１の成形型１１および第２の成形型１２には、このキャビティ１０に対応する凸部と凹部とが形成されている。すなわち、図５〜７に示す第２の成形型１２は、キャビティ１０の内縁部１０５に対応する第３の凹部１２２が省略されている以外、図１〜３に示す第２の成形型１２と同様である。

以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、成形型には、上記の構造物以外に任意の構造物が付加されていてもよい。
また、本発明の金属粉末射出成形用成形型は、前述したような円環の板形状をなす金属製品であれば、いかなる用途のものでも製造可能な成形体を成形することができる。

１……成形型 １０……キャビティ １０１……基部 １０２……外縁部 １０３……貫通孔 １０４……コア部 １０５……内縁部 １１……第１の成形型 １１１……第１の凹部 １１５……ゲート １１５１、１１５２……領域 １２……第２の成形型 １２０……第１の凸部 １２１……第２の凹部 １２２……第３の凹部 １２３……第２の凸部 Ｐ……パーティング面

Claims (6)

1. 円環の板形状をなす基部と、前記基部の一方の主面の外縁に沿って設けられ、前記一方の主面より立ち上がる形状をなす外縁部と、前記基部の前記一方の主面に直交する方向からの平面視で前記外縁部とは異なる位置に設けられ、前記基部を厚さ方向に貫通する複数の貫通孔と、前記平面視で前記外縁部および前記複数の貫通孔と異なる位置の前記一方の主面から立ち上がるように設けられる複数のコア部と、を有する金属粉末射出成形体を成形するためのキャビティを形成可能な金属粉末射出成形用成形型であって、
   前記金属粉末射出成形体の少なくとも前記基部の前記一方の主面とは反対側の他方の主面を成形する第１キャビティ面を有する第１の成形型と、
   前記金属粉末射出成形体の少なくとも前記基部の前記一方の主面を成形する第２キャビティ面を有する第２の成形型と、
   前記キャビティ内に金属粉末射出成形材料を導入する複数のゲートと、
   を有し、
   前記ゲートは、前記第１キャビティ面の平面視において前記金属粉末射出成形体の前記基部の円環の板形状の中心点に対して回転対称の関係を満足する位置であり、かつ、前記金属粉末射出成形体の前記複数の貫通孔および前記複数のコア部に対応する位置からそれぞれ離れた位置に設けられ、前記第１キャビティ面の平面視において前記ゲートの開口の一部と前記外縁部に対応する位置とが重なるよう構成されていることを特徴とする金属粉末射出成形用成形型。
2. 前記コア部の数をｎとしたとき、前記ゲートの数はｎ／４以上ｎ／２以下である請求項１に記載の金属粉末射出成形用成形型。
3. 前記ゲートの数は、３個以上６個以下である請求項１または２に記載の金属粉末射出成形用成形型。
4. 前記各ゲートの位置は、前記第１キャビティ面の平面視において少なくとも２つの前記貫通孔から等しい距離にある位置である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の金属粉末射出成形用成形型。
5. 前記金属粉末射出成形体は、さらに、前記基部の一方の主面の内縁に沿って設けられ、前記外縁部と同じ高さになるように前記一方の主面より立ち上がる形状をなす内縁部を有している請求項１ないし４のいずれか１項に記載の金属粉末射出成形用成形型。
6. 前記複数のコア部は、前記基部の円環の板形状の中心点に対して回転対称の関係を満足し、かつ、前記中心点からの距離が等しい位置に等間隔で配置されている請求項１ないし５のいずれか１項に記載の金属粉末射出成形用成形型。

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