JP5933130B2 - 分子オービタルの類似性偏差評価方法およびこれを用いたシステム - Google Patents

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Description

本発明は、分子オービタルの類似性偏差評価方法およびこれを用いたシステムに関するものであって、より詳細には、定量的に分子オービタル(molecular orbital)の類似性偏差を定量的に正確に評価することができる、分子オービタルの類似性偏差評価方法およびこれを用いたシステムに関するものである。
物質の電気化学的特性は、電子挙動に大きな影響を受ける。このような電子挙動は、非常に複雑で解析しにくいため、これを実験を通した直接的な測定で評価することは難しい。したがって、電子挙動は、実験でない計算により解析されており、このために導入された概念がまさに分子オービタル(Molecular Orbital、MO)である。
分子オービタルは、分子内の各位置において電子が存在できる確率を示す。分子オービタルは、量子力学方法による計算によってのみ把握可能である。伝統的に、分子オービタルの評価は、計算された分子オービタルを図に生成した後、これを視覚的な判断に依存する定性的な方法に依存する。しかし、定性的な方法は、分子オービタルの全体的な特性を大まかに評価するには有用であるが、定量的な方法のように分子オービタルを客観的かつ正確に評価することは難しい。なぜならば、定性的な方法は、主観的な基準に従って評価するため、同一の分子オービタルに対しても、評価者によって非常に異なる評価が出ることがあるからである。
したがって、本発明者らは、このような定性的な評価方法が有する限界を克服し、分子オービタル情報を体系的に正確に評価して、これを用いるための分子オービタルを定量的に評価することができる様々な方法を開発するようになった。
例えば、全体分子構造において、分子オービタルが分布可能なパターンの数はほぼ無限大であるが、このように複雑なパターンをもって分布する分子オービタルを直観的かつ正確に評価するために、ブロックの概念を導入して、これを用いる新たな方法であるAC2B(Assembly of Consecutive Building Block)法を開発した。
前記AC2B法は、(1)分子の全体分子構造のそれぞれの細部領域をブロックにした後、全体分子構造をブロックの組み合わせで生成した後、(2)それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルが全体オービタルの和に対して占める割合を計算し、これに基づいて順次にブロックを再配列して得た再配列された順次的ブロックスペクトルを得ることにより、分子オービタル特性を解析する方法を意味する。再配列された順次的ブロックスペクトルでは、最も前に位置したブロックに最も多い分子オービタルが分布し、最も最後に位置したブロックに最も少ない分子オービタルが分布する。新たにブロックという概念を導入したAC2B法を利用して複雑な分子オービタルのパターンを単純化させることで、分子オービタル特性を直観的かつ明確に評価することができた。
しかし、AC2Bにより計算される再配列されたブロックスペクトルは、単一分子オービタル特性を直観的に示すものの、互いに異なる分子オービタル特性を比較するのに直接的に使用しにくい。これは、前記ブロックスペクトルは、各ブロックの占める位置に応じた順次的なブロックの配列であるため、これを定量的な比較に直接利用することができないからである。
したがって、本発明者らは、分子構造内で複雑かつ多様なパターンで分布している分子オービタル特性を、ブロックという新たな概念を導入して計算されたブロックスペクトルを用いて直観的かつ明確に評価し、ブロックスペクトルを用いて互いに異なる分子オービタルに対する類似性を定量的に正確に比較可能な方法である2BS−score法を開発した。
2BS−score法は、互いに異なる分子オービタルに対して計算されたブロックスペクトルの配列に対する同一性評価により、分子オービタルの類似性を定量的に評価する評価法である。具体的に説明すれば、2BS−score法は、比較しようとする分子オービタルに対するブロックスペクトルにおいて、同一の配列における同一性を3段階にわたって比較して全体分子オービタルの類似度を定量的に測定する方法である。比較しようとする2個の分子オービタルブロックスペクトルの配列が正確に同一の場合、2BS−scoreは100%であり、配列差が大きいほど、次第に小さい値を有し、分子オービタルの類似性が良くないことを示す。本発明者らは、前記2BS−score法により分子オービタルの類似性を定量的に正確に示すことができることを確認した。
しかし、前記2BS−score法により分子オービタルの類似性を定量的に評価することができるが、どの程度の偏差を有する類似性であるかを知ることはできなかった。例えば、互いに異なる分子オービタルのpairであるA0−A1とA2−A3の類似性を2BS−scoreで評価するとした場合、計算の結果、両方とも同一の2BS−scoreを有すれば同一の類似性を有すると判定されるが、実際にA0−A1とA2−A3の間の類似性は正確に同一であると見なすことができない。なぜならば、2BS−score値が同一であっても、A0−A1とA2−A3が有する類似性は偏差が存在し得るからである。
したがって、このような類似性偏差を正確に測定できれば、分子オービタルの類似性をより正確に評価することができて、類似性特性を理解するのに非常に有用であると期待された。本発明者らは、このような必要性に応じて、2BS−score法により計算された分子オービタルの類似性に対する定量的評価を通して分子オービタルの類似性に対する新たな特性、すなわち、分子オービタルの類似性に対する偏差(similarity deviation)を統計的に評価する方法を開発するに至った。
上記の従来技術の問題を解決するために、本発明は、分子オービタルの類似性偏差を定量的に正確に評価することができる新たな方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は、a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、下記のi)〜v)ステップの方法によってブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップ:i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(kは、ブロックの番号で、1〜Nの自然数である)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、対象分子オービタルごとにブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップと、b)前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)(mは、MBSの番号で、1〜Nxである)値を計算するステップと、c)前記Nx個のMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価するステップとを含む、分子オービタルの類似性偏差評価方法を提供する。
本発明は、分子オービタルの類似性に含まれている偏差を定量的に正確に評価することにより、分子オービタルの類似性に関連する特性を包括的に評価し理解させることができて、OLED(organic light−emitting diode)または太陽電池などのような分野の新規物質の開発に有用に利用可能である。
本発明の分子オービタルの類似性偏差評価過程を示すFlow chartである。 互いに異なる分子オービタルを有するNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1,1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)に対して、互いに異なる電子状態で量子力学方法で計算された分子オービタルT1とT2に対してそれぞれSSDE−MO法を適用して得た、偏差が±8.6の分子オービタルpairのT1とT2を図に示すものである。 互いに異なる分子オービタルを有するNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1,1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)に対して、互いに異なる電子状態で量子力学方法で計算された分子オービタルT1とT3に対してそれぞれSSDE−MO法を適用して得た、偏差が±24.9の分子オービタルpairのT1とT3を図に示すものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の分子オービタルの類似性偏差評価方法は、a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、下記のi)〜v)ステップの方法によってブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップ:i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(kは、ブロックの番号で、1〜Nの自然数である)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、対象分子オービタルごとにブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップと、b)前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)(mは、MBSの番号で、1〜Nxである)値を計算するステップと、c)前記それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価するステップとを含むことを特徴とする。
本発明者らは、前記分子オービタルの類似性偏差評価方法を、「SSDE−MO(Statistical Similarity Deviation Estimation−Molecular Orbital)」法と名付けた。前記SSDE−MO法は、統計的な推定方法により分子オービタルの類似性偏差を定量的に計算するものである。前記SSDE−MO法は、互いに異なる分子オービタルの類似性偏差を計算するために、(1)ブロックの配列大きさが異なるN個のMBS(Multi−level Block Spectrum)を生成し、(2)生成されたMBSの配列に対する同一性評価を通してそれぞれのMBS pairに対する類似性を計算し、(3)計算されたそれぞれのMBS pairに対する類似性データを用いて類似性偏差を統計的に計算する過程を行う。SSDE−MO法の計算過程を、図1のFlow chartに示した。以下、SSDE−MO法の計算過程を詳細に説明する。
本発明は、a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、下記のi)〜v)ステップの方法によってブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップ:i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(kは、ブロックの番号で、1〜Nの自然数である)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、対象分子オービタルごとにブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップを含むことを特徴とする。
前記a)ステップは、本発明者が開発した分子オービタル特性の解析方法である「AC2B(Assembly of Consecutive Building Block)」法を利用するステップである。
分子オービタルは、分子内における電子の波動的(wave−like)挙動を示す数学的な模写で定義することができる。分子オービタルが存在する領域は、量子力学計算により求めることができ、前記量子力学計算方法としては、量子力学を利用した方法であれば特別な制限はないが、好ましくは、物質の分子構造で計算される各地点におけるオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の二乗である電子密度(ψ2)の分布により計算するものを使用することができ、単一地点エネルギー(single point energy)計算、または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を用いてもよい。具体的には、本発明の発明者らは、DFT(Density Functional Theory)に根拠をおいた、ACCELYS社開発のMATERIAL STUDIOのDMol3を用いて分子オービタルを計算し、分子オービタルの図を生成するために、MATERIAL STUDIOパッケージのVISUALIZERを用いた。
本発明において、前記対象分子の全体分子構造は、指定された分子全体のブロック個数(N)に応じて、分子の中心を基準として生成されたN個の順次的なブロックの組み合わせで構成される。
このために、分子の中心(r=0.0)を始点として放射方向(radial direction)に分子全体を含む大きさが最も大きいRDM(radially discrete mesh)を計算し、この時の大きさをr=1.0に指定する。前記RDMは、分子の中心から出発して放射方向(radial direction)に分子構造内のすべての構成原子(atom)を含むメッシュ(mesh)を示す。前記RDMによる分子構造の計算において、分子内の中心(xc,yc,zc)を求める方法は、下記の数式1−1〜1−3の通りである。
前記数式1−1〜1−3において、NCoordは、分子を構成する原子座標の総数を示す。
ブロックの総数N値は特別な制限はないが、好ましくは3〜100の範囲を有する。
前記のように、RDMによる分子構造の計算により、前記対象分子の全体分子構造は、分子の中心からの距離を基準としてブロック化されてよい。
前記a)ステップは、それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))を計算するステップを含むことができる。
前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))は、全体分子オービタル中においてk番目ブロックに関連付けられている分子オービタルの占める量を意味する。前記kは、ブロックの番号で、1〜Nの自然数である。前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタル(BMO(k))を量子力学計算により計算し、これによって全体分子オービタルの和であるSUMを計算した後、全体分子オービタルの和に対する、それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることができる。
また、前記a)ステップは、前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックの組み合わせを順次に再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップを含むことができる。前記「再配列されたブロックスペクトル」は、前記a)ステップで得た順次的なブロックの組み合わせ(AC2B、Assembly of Consecutive Building Block)を、BX(k)を基準として順次に再配列して得た順次的なブロックの組み合わせを意味する。
前記a)ステップは、前記ii)〜v)ステップを繰り返して、ブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得るステップを含むことを特徴とする。分子オービタルの類似性偏差を統計的に推定するためには、多様な状況における分子オービタルの類似性の変化に関する情報が必要である。このようなデータを得るために、本発明では、前記AC2B法を利用して、比較しようとする分子オービタルに対して、ブロック大きさ(=全体ブロック個数)の異なるNx個のMBSを生成する。この過程を、比較しようとする互いに異なる分子オービタルをT1とT2として説明する。AC2BにおいてBS(Block Spectrum)を生成するために、基本として指定されたブロックの大きさは5個である。MBSを生成するためには、MBSの全体個数Nxと、それによるブロック大きさの集合であるN(k)を定めなければならない。Nxは、1より大きくなければならず、計算の効率性を考慮し、使用目的に応じて多様な値を有することができる。例えば、Nxを6に指定した場合、これによるブロック大きさの集合は、次のように設定できる。
N={5,6,7,8,9,10}
前記ブロックの大きさに応じて、前記ii)〜iv)ステップを繰り返すと、対象分子オービタルごとにブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得ることができる。
前記Nx個のMBS(multi−block spectrum)から同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせる。
本発明において、「MBS pair」は、対象分子オービタルごとに得たNx個のMBS(multi−block spectrum)から組み合わせた同一の大きさのブロックスペクトルからなる対を意味する。
前記例において、互いに異なるブロック大きさを有する計6pair(対)のMBSを組み合わせることができる。
本発明は、b)前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)(mは、MBSの番号で、1〜Nxである)値を計算するステップを含むことを特徴とする。
前記b)ステップの多段階の同一性評価は、第1ステップ〜第3ステップの同一性評価の計3段階評価で、前記Nx個のMBS pairの類似性を計算するステップであってよい。すべての過程において、同一性評価は、MBS pairの同一配列における比較に基づいて行われる。以下、Multi−stepの3段階過程について詳細に説明した。
<第1ステップの同一性評価>
計Nx個のMBS pairに対して、以下のような配列の比較により1次的な同一性を評価する。
前記MBS1{m,n}とMBS2{m,n}は、それぞれT1とT2分子オービタルに生成されたN{m}のブロック大きさを有するMBSにおいて、nの位置にあるブロックの同一性(identity)を示す。
前記SC{m,n}は、N{m}の大きさを有するMBS pairに対して、nの位置における同一性の程度を示す。これにより、MBSの配列位置における1次的な同一性を評価する。
前記Xは0超過〜0.6以下で、Yは0超過〜0.5以下で、Zは0〜0.3以下であり、X、YおよびZの間にはX+Y+(N−2)×Z=1.0の関係が成立する。
前記第1ステップの同一性評価は、前記Nx個のMBS pairのそれぞれのブロックスペクトルの配列を同一の配列位置で比較して、ブロックが同一であれば、SC(m,n)値を付与するが、n値が増加するほど、SC(m,n)値を低く付与することを特徴とする。
前記第1ステップの同一性評価は、mが1の場合、n=1の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=X、l=2の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=Y、l>2の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=Zであると評価され、前記Xは0超過0.6以下で、Yは0超過0.5以下で、Zは0〜0.3以下であり、X、YおよびZの間にはX+Y+(N−2)×Z=1の関係が成立することを特徴とする。
これによってMBSの配列位置における1次的な同一性を評価する。
<第2ステップの同一性評価>
MBS pairに対する2次的な同一性評価を、次のように行う。MBSの配列において最も高い重要度を有するものは、1番目と2番目の位置に配列されているブロックである。その理由は、1番目と2番目に分子オービタルが最も多く分布するからである。この点を考慮した2次的な同一性評価を、以下のように行う。
前記第2ステップの同一性評価は、i)前記Nx個のMBS pairのそれぞれのブロックスペクトルにおいて、第1ブロックスペクトルのn=1の位置と第2ブロックスペクトルのn=2の位置とにおけるブロックが同一で、かつ第1ブロックスペクトルのn=2の位置と第1ブロックスペクトルのn=1の位置とにおけるブロックが同一であれば、SC(m,n)値を付与するステップ;およびii)第1ブロックスペクトルのn=2の位置と第2ブロックスペクトルのn=3の位置とにおけるブロックが同一で、かつ第1ブロックスペクトルのn=3の位置と第2ブロックスペクトルのn=2の位置とにおけるブロックが同一であれば、SC(m,n)値を付与するステップを含み、前記SC(m,n)値は、前記i)ステップで付与された値が、前記ii)ステップで付与された値より高いことを特徴とする。
<第3ステップの同一性評価>
MBS pairのそれぞれの同一の配列位置において、ブロック距離(d_BL{m,n})を計算する。すなわち、d_BL{m,n}は、N{m}の大きさを有するブロックスペクトルにおいて、nの位置におけるブロック間の交差距離を示す。例えば、N{1}のブロック大きさを有するMBS pairにおいて、MBS1{1,1}=BL5で、かつMBS2{1,1}=BL4であれば、d_BL{1,1}=5−4=1である。これを利用して、3次的な同一性評価を、以下のようなアルゴリズムで行う。
前記第3ステップの同一性評価は、前記MBS pairのそれぞれの同一の配列位置においてブロック配列距離(d_BL{m,n})の基準を設定し、各位置におけるブロック配列距離が前記ブロック配列距離(d_BL{l})の基準と同一であれば、SC(m,n)値を付与するが、前記SC(m,n)値は、n値が増加するにつれて減少するように付与されることを特徴とする。
前記b)ステップにおいて、多段階の同一性評価を通して、それぞれのMBS pairに対して同一性評価の結果を利用して、下記の数式1を用いてそれぞれのMBS pairに対する類似性(TSS、total similarity score)を計算する。
式中、mは、MBSの番号で、1〜NXである。
前記TSS{m}は、ブロック大きさN{m}のMBS pairに対する同一性を示す。MBS pairが互いに正確に同一の場合は、TSSは100%値を示し、類似度が低下するほど、100%より小さい値を示す。
本発明は、c)前記それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価するステップを含むことを特徴とする。
x個のTSSに対して標準偏差(Standard Deviation)を計算する。前記標準偏差は、全体MBSの偏差であるため、結局、分子オービタルの類似性偏差を示すこととなる。前記標準偏差(Standard Deviation)は、0より大きい値を示す。すべてのTSS(m)が同一の値を有して、TSS(m)値の標準偏差(Standard Deviation)が0の場合、分子オービタルの類似性偏差がないもので、標準偏差が0より大きい値を示すほど、分子オービタルの類似性偏差が大きいものであることを意味する。このような標準偏差(Standard Deviation)値によって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価することができる。
また、本発明は、前記分子オービタルの類似性偏差評価方法を用いた分子オービタルの類似性偏差評価システムを提供する。
前記分子オービタルの類似性偏差評価システムは、a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(k:1〜Nの自然数)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、ブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得るステップにより、ブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得るブロック化モジュールと、b)前記2個の対象分子オービタルのそれぞれのNx個のMBS(multi−block spectrum)から同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせた後、前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値を計算し、データが入力されるデータ入力モジュールと、c)前記それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価する評価モジュールとを含むことを特徴とする。
本発明において、モジュール(module)という用語は、特定の機能や動作を処理する1つの単位を意味し、これは、ハードウェアやソフトウェア、またはハードウェアおよびソフトウェアの結合で実現することができる。
以下、本発明を、実施例に基づいてより詳細に説明するが、下記に開示される本発明の実施形態はあくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施形態に限定されない。本発明の範囲は特許請求の範囲に示されており、さらに、特許請求の範囲の記録と均等な意味および範囲内でのすべての変更を含む。
実施例
互いに異なる分子オービタルを有するNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1,1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)に対して、互いに異なる電子状態で量子力学方法で計算された分子オービタルのpairであるT1とT2に対して、本発明のSSDE−MO法を適用してMBS pairに対するTSS値を求めた。その結果、最終的な標準偏差は±8.6であった。これは、非常に小さい値で、T1とT2分子オービタルの間の類似度には偏差があまりないことを表す。定性的な評価のために、MATERIAL STUDIOパッケージのプログラムであるVISUALIZERを用いて分子オービタルT1とT2を視覚化して、図2に示した。図2からも確認できるように、分子オービタルが同一ではないが、類似性が非常に大きいことが分かる。したがって、定性的に確認しても、T1とT2分子オービタルの類似性に対する偏差は大きくないことが分かる。これにより、本発明のSSDE−MO法は、分子オービタルの類似度偏差を定量的に正確に示すことを確認することができる。
互いに異なる分子オービタルを有するNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1,1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)に対して、互いに異なる電子状態で量子力学方法で計算された分子オービタルのpairであるT1とT3に対してSSDE−MO法を適用した結果、標準偏差は±24.9であった。前記T1とT3分子オービタルの間の類似度は、相対的に大きい偏差を示した。このような定量的なSSDE−MO評価は、図3のように、図による定性的な評価と正確に一致する。
これにより、本発明のSSDE−MO法は、分子オービタルの類似性に対する偏差を定量的に正確に評価することを確認した。

Claims (13)

  1. a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、下記のi)〜v)ステップの方法によってブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップ:i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(kは、ブロックの番号で、1〜Nの自然数である)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、対象分子オービタルごとにブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得た後、同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせるステップと、
    b)前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)(mは、MBSの番号で、1〜Nxである)値を計算するステップと、
    c)前記Nx個のMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価するステップとを含むことを特徴とする、分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  2. 前記i)ステップの量子力学計算法は、物質の分子構造で計算される各地点におけるオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の二乗である電子密度(ψ2)の分布により計算することを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  3. 前記i)ステップの量子力学計算法は、単一地点エネルギー(single point energy)計算、または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を利用することを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  4. 前記iii)ステップのそれぞれのブロックに関連付けられたステップの分子オービタルの割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタル(BMO(k))を量子力学計算により計算し、これによって全体分子オービタルの和であるSUMを計算した後、全体分子オービタルの和に対するそれぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  5. 前記a)ステップは、RDM計算方法を利用することを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  6. 前記b)ステップの多段階の同一性評価は、第1ステップ〜第3ステップの同一性評価の計3段階評価で、前記Nx個のMBS pairの類似性を計算するステップであることを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  7. 前記第1ステップの同一性評価は、前記Nx個のMBS pairのそれぞれのブロックスペクトルの配列を同一の配列位置で比較して、ブロックが同一であれば、SC(m,n)値(mは、MBSの番号で、1〜Nxであり、nは、配列番号で、1〜N(m)である)、n値が増加するほど、SC(m,n)値を低く付与することを特徴とする、請求項6に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  8. 前記第1ステップの同一性評価は、mが1の場合、n=1の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=X、n=2の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=Y、n>2の位置でブロックが同一であれば、SC(m,n)=Zであると評価され、
    前記Xは0超過0.6以下で、Yは0超過0.5以下で、Zは0〜0.3以下であり、X、YおよびZの間にはX+Y+(N−2)×Z=1.0の関係が成立することを特徴とする、請求項6に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  9. 前記第2ステップの同一性評価は、i)前記Nx個のMBS pairのそれぞれのブロックスペクトルにおいて、第1ブロックスペクトルのn=1の位置と第2ブロックスペクトルのn=2の位置とにおけるブロックが同一で、かつ第1ブロックスペクトルのn=2の位置と第1ブロックスペクトルのn=1の位置とにおけるブロックが同一であれば、SC(m,n)値を付与するステップと、
    ii)第1ブロックスペクトルのn=2の位置と第2ブロックスペクトルのn=3の位置とにおけるブロックが同一で、かつ第1ブロックスペクトルのn=3の位置と第2ブロックスペクトルのn=2の位置とにおけるブロックが同一であれば、SC(m,n)値を付与するステップとを含み、
    前記SC(m,n)値は、前記i)ステップで付与された値が、前記ii)ステップで付与された値より高いことを特徴とする、請求項6に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  10. 前記第3ステップの同一性評価は、前記MBS pairのそれぞれの同一の配列位置においてブロック配列距離(d_BL{m,n})の基準を設定し、各位置におけるブロック配列距離が前記ブロック配列距離(d_BL{l})の基準と同一であれば、SC(m,n)値を付与するが、前記SC(m,n)値は、n値が増加するにつれて減少するように付与されることを特徴とする、請求項6に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  11. 前記b)ステップのTSS(m)値は、下記の数式1により計算されることを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
    式中、mは、MBSの番号で、1〜Nxである。
  12. 前記c)ステップにおいて、前記標準偏差が0の場合、分子オービタルの類似性偏差がないもので、0より大きい値を示すほど、分子オービタルの類似性偏差が大きいものであると分子オービタルの類似性偏差を評価することを特徴とする、請求項1に記載の分子オービタルの類似性偏差評価方法。
  13. a)分子オービタルの類似性を比較する2個の対象分子オービタルを選択した後、i)量子力学計算法を利用して前記分子オービタルの分布を計算するステップ、ii)前記分子の分子構造内の分子中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップ、iii)前記それぞれのブロックに関連付けられた分子オービタルの割合(BX(k))(k:1〜Nの自然数)を計算するステップ、iv)前記分子オービタルの割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次に再配列し、ブロックスペクトルを得るステップ、およびv)前記ii)〜iv)ステップを繰り返して、ブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得るステップにより、ブロック大きさの異なるNx個のMBS(multi−block spectrum)を得るブロック化モジュールと、
    b)前記2個の対象分子オービタルのそれぞれのNx個のMBS(multi−block spectrum)から同一のブロック大きさのNx個のMBS pairを組み合わせた後、前記Nx個のMBS pairに対して多段階の同一性評価を行い、それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値を計算し、データが入力されるデータ入力モジュールと、
    c)前記それぞれのMBS pairに対するTSS(m)値の標準偏差を計算し、これによって定量的に分子オービタルの類似性偏差を評価する評価モジュールとを含むことを特徴とする、分子オービタルの類似性偏差評価システム。
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