JP5951901B2 - 順次ブロック構成による分子オービタル特性解析方法及びこれを利用したシステム - Google Patents

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Description

本発明は、分子オービタル特性の解析方法及びこれを利用したシステムに関し、より詳細には、定量的に分子オービタル(molecular orbital)特性を解析できる新しい分析方法を利用した分子オービタル特性の解析方法及びこれを利用したシステムに関する。
分子オービタル(Molecular orbital)は、分子内で電子が存在できる確率を表すものであって、電子の挙動を表す重要な物性であるため、分子オービタル分布は、物質の電気化学的特性を決定する重要な要素のうちの1つである。分子オービタルは、量子力学方法による計算によってのみ把握されることができる。
分子オービタルが全体構造内で分布できるパターンは、非常に多様かつ複雑である。例えば、分子オービタルは、(1)全体構造の中心にのみ分布することができ、(2)分子の中心から遠く離れた外郭にのみ分布することができ、(3)分子の中心近傍と外郭でのみ分布することができ、(4)全体分子にわたって分布しているが、細部領域で分布する傾向が非常に異なることができる。このように、非常に多い場合の分布形態を表すことができる分子オービタルが全体構造で分布する傾向を把握することは、電子挙動予測に必須であるため、これを正確かつ直観的に評価できる定量的な方法が必要である。
このような分子オービタル情報を評価し解析する方法は、今までは図形を生成して視覚的に比較する定性的な方法しかないため、定量的な評価が可能な他の電気化学的物性に比べて物質開発や物性評価のような関連分野で体系的によく利用できていない。
しかし、電子の挙動を表す分子オービタルが与える情報の重要性に鑑みれば、分子オービタルを他の電気化学的物性と同様に、定量的な評価によって体系的に利用できるならば、物質開発や物性評価のような関連分野で効用性が極めて大きいであろうから、分子オービタル情報を定量的に明確に評価できる方法が必要な実情である。
上記のような従来技術の問題点を解決するために、本発明は、分子オービタル特性を定量的に解析できる方法を開発して、分子オービタル特性を定量的に簡単かつ正確に評価することにより、新規物質の開発に利用することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算するステップと、b)前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップと、c)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算するステップと、d)前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップとを含む順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法を含む分子オービタル特性の解析方法を提供する。
また、本発明は、a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算し、前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向にN個の順次ブロックで表す第1のブロック化モジュールと、b)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算してデータを入力するデータ入力モジュールと、c)前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得る第2のブロック化モジュールとを備える分子オービタル特性分析システムを提供する。
本発明の分子オービタル特性解析方法は、全体分子構造をブロックの組み合わせで表し、それぞれのブロックの分子オービタル割合を計算して再配列された順次ブロック情報を提供することにより、分子オービタル特性を定量的に簡単かつ正確に評価することができ、これにより、分子オービタル特性類似性を比較することができ、OLED(organic light−emitting diode)または太陽電池などのような分野の新規物質開発に利用されることができる。
本発明の実施例で使用したOLEDの構成物質として使用されるNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1、1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)分子の全体分子構造を、全体ブロック個数を5個に指定して分子の中心からの距離を基準として5個のブロックで構成したものである。 本発明に係るAC2B(Assembly of Consecutive Building Block)法による計算過程を示したFlow chartである。 ACCELRYS社で開発したMATERIAL STUDIOパッケージのVISUALIZERを使用して実施例1及び実施例2のNPB分子の分子オービタル分布を各々視覚化したものである。 図3a及び図4aに示された全体分子構造を分子の中心を基準として5個の順次ブロックで構成した後、これをBX(k)順に再配列した結果から得た、再配列されたブロックスペクトルである。 ACCELRYS社で開発したMATERIAL STUDIOパッケージのVISUALIZERを使用して実施例1及び実施例2のNPB分子の分子オービタル分布を各々視覚化したものである。 図3a及び図4aに示された全体分子構造を分子の中心を基準として5個の順次ブロックで構成した後、これをBX(k)順に再配列した結果から得た、再配列されたブロックスペクトルである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者は、分子オービタル特性を解析するために、新しい解析方法であるAC2B(Assembly of Consecutive Building Block)法を開発するようになった。
本発明においてAC2B(Assembly of Consecutive Building Block)法は、分子オービタル特性の解析方法であって、a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算するステップと、b)前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップと、c)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算するステップと、d)前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップとを含むことを特徴とする。
本発明においてAC2B法は、分子オービタル特性解析のために、全体分子構造の各細部領域をブロック化した後、配列して全体分子構造をブロックの組み合わせで表したことを意味する。
本発明は、a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算するステップと、b)前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップとを含むことを特徴とする。
分子状態での分子オービタルは、分子内での電子の波動的(wave−like)挙動を表す数学的な摸写であると定義することができる。分子オービタルが存在する領域は、量子力学計算によって求めることができる。分子オービタルが存在する領域を求めるための量子力学計算は、量子力学を利用した方法であれば、格別の制限はないが、好ましくは、物質の分子構造で計算される各地点でのオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の自乗の電子密度(ψ2)の分布を介して計算するものを使用することができ、単一地点エネルギー(single point energy)計算または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を利用することもできる。具体的に、本発明の発明者らは、DFT(Density Functional Theory)に基づいたACCELRYS社で開発したMATERIAL STUDIOパッケージのDMol3を利用して分子オービタルを計算し、分子オービタル図形を生成するために、MATERIAL STUDIOパッケージのVISUALIZERを利用した。
本発明において、分子オービタル特性を解析する前記対象分子の全体分子構造は、指定された分子全体ブロック個数(N)によって分子の中心を基準として生成されたN個の順次ブロックの組み合わせで構成される。
このために、分子の中心(r=0.0)を開始点として放射方向(radial direction)に分子全体を含む大きさが最も大きいRDM(radially discrete mesh)を計算し、このときの大きさをr=1.0に指定する。前記RDMは、分子の中心から出発して放射方向(radial direction)に分子構造内の全ての構成原子(atom)を含むメッシュ(mesh)を表す。前記RDMによる分子構造計算において、分子内の中心(xc、yc、zc)を求める方法は、下記数学式1−1〜1−3のとおりである。
前記数学式1−1〜1−3においてNCoordは、分子を構成する原子座標の総個数を表す。
ブロックの総個数N値は、格別の制限はないが、好ましくは、3〜100の範囲を有する。
上記のように、RDMによる分子構造計算により、前記対象分子の全体分子構造は、分子の中心からの距離を基準としてブロック化され得る。
これを、図1を参照してより詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例であって、全体ブロック個数を5個に指定して、分子の中心からの距離を基準としてNPB分子の分子オービタル分布を5個のブロック(N=5)で構成したものである。分子全体を含むRDMを計算した後、RDMをBL1、BL2、BL3、BL4、BL5に均等に分割して5個のブロックを生成し、図1においてBL1は、分子の中心に最も近いブロックであり、BL5は、最も外郭にあるブロックである。各ブロックの大きさは、格別の制限はないが、好ましくは、大きさが同一でなければならない。このように、全体分子構造は、BL1−BL2−BL3−BL4−BL5の順序で構成された順次ブロックの配列として表すことができる。
すなわち、前記a)ステップにおいて、対象分子の分子オービタル分布は、順次ブロック(AC2B、Assembly of Consecutive Building Block)で構成されるものである。
本発明は、c)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算するステップを含むことを特徴とする。
前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))は、全体分子オービタルのうち、k番目ブロックに関連している分子オービタルが占めている量を意味する。前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル(BMO(k))を計算し、これにより、全体分子オービタル合計であるSUMを計算した後、全体分子オービタル合計に対するそれぞれのブロックに関連した分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることができる。
本発明は、d)前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップを含むことを特徴とする。
前記d)ステップは、前記a)ステップで得た順次ブロック(AC2B、Assembly of Consecutive Building Block)を、BX(k)を基準として順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップである。本発明において「再配列されたブロックスペクトル」は、前記a)ステップで得た順次ブロックの組み合わせ(AC2B、Assembly of Consecutive Building Block)を、BX(k)を基準として順次再配列して得た順次ブロックの組み合わせを意味する。
もし、前記c)ステップで計算された分子オービタル割合の順序がBX(5)>BX(4)>BX(3)>BX(2)>BX(1)であれば、前記a)ステップで得た順次ブロックの組み合わせは、BL5−BL4−BL3−BL2−BL1に再配列される。再配列されたブロックスペクトルを介して分子の中心から最も遠いブロックであるBL5に最も多い量の分子オービタルが分布し、分子の中心に最も近いブロックであるBL1に最も少ない量の分子オービタルが分布するということが分かる。
したがって、本発明によれば、再配列されたブロックスペクトルを介して、どのブロックに最も多い分子オービタルが分布し、どのブロックに最も少ない分子オービタルが分布するかを直観的に正確に評価することができる。
また、本発明は、前記分子オービタル特性の解析方法を利用した分子オービタル特性分析システムを提供する。
前記分子オービタル特性分析システムは、a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算し、前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向にN個の順次ブロックで表す第1のブロック化モジュールと、b)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算してデータを入力するデータ入力モジュールと、c)前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさを基準として前記ブロックを順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得る第2のブロック化モジュールとを備えることを特徴とする。
前記第1のブロック化モジュールにおいて、量子力学計算法は、物質の分子構造で計算される各地点でのオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の自乗の電子密度(ψ2)の分布を介して計算するものを使用することができ、単一地点エネルギー(single point energy)計算または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を利用することもできる。
前記第1のブロック化モジュールにおいて、全体分子構造のブロック化方法として、RDM計算方法を利用することができる。
また、前記データ入力モジュールにおいて、入力されるそれぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル(BMO(k))を計算し、これにより、全体分子オービタル合計であるSUMを計算した後、全体分子オービタル合計に対するそれぞれのブロックに関連した分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることができる。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、下記に開示される本発明の実施形態はあくまで例示であり、本発明の範囲は、これらの実施形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲に表示され、さらに、特許請求の範囲の記録と均等な意味及び範囲内での全ての変更を含有している。
実施例
図3a及び図4aは、MATERIAL STUDIOパッケージのプログラムのVISUALIZERを使用してNPB(N,N’−Di[(1−naphthyl)−N,N’−diphenyl]−1、1’−(biphenyl)−4,4’−diamine)の分子オービタル分布を視覚化したものである。分子オービタル分布されている領域(黄色/緑色で表示された領域)にのみ電子が位置する確率があるもので、図3aの場合には、全般的に分子オービタルが分子全領域にわたって均等に分布していることが分かり、図4aの場合には、分子オービタルが分子の中心から遠く離れた外郭に主に分布することが分かる。
前記のような定性的な評価に対して、次のように、本発明によりAC2B法を利用してNPB分子の分子オービタル分布を順次ブロックで構成することにより、NPB分子の分子オービタル特性を定量的に解析した。
<実施例1>
分子オービタルが全体分子にわたって分布しているNPB分子に対して本発明により分子オービタル特性解析を行った。
図3aに示された全体分子構造を、分子の中心を基準として5個の順次ブロック(AC2B)で構成し、これをBX(k)順に再配列した結果、図3bのように、BL3−BL2−BL4−BL1−BL5順に再配列されたブロックスペクトルを得た。再配列されたブロックの下に表示した値は、各ブロックでのBX(k)値である。前記再配列されたブロックスペクトルでBL3に最も多い量の分子オービタルが存在し、その次はBL2とBL4の順序に分子オービタルが存在することに対し、分子の中心に最も近いBL1(最も濃い色)と最も遠いBL5(最も薄い色)にある分子オービタルの量は相対的に少なかった。したがって、全体分子構造にわたって分子オービタルが分布するが、中央のブロック(BL3、BL2、BL4)にさらに多い分子オービタルが分布することが分かる。
<実施例2>
分子オービタルが分子の中心から遠く離れた外郭に主に分布するNPB分子に対して、本発明により分子オービタル特性解析を行った。
図4aに示された全体分子構造を、分子の中心を基準として5個の順次ブロックで構成し、これをBX(k)順に再配列した結果、図4bのように、BL4−BL5−BL3−BL2−BL1順に再配列されたブロックスペクトルを得た。
前記再配列されたブロックスペクトルで分子の中心から遠いブロックである薄い色合いのBL4とBL5に分子オービタルが集中的に分布することに対し、分子の中心に近い濃い色合いのBL2とBL1には分子オービタルが相対的に分布しないということが分かる。
このように、本発明によれば、全体分子構造のブロック化を介して得られた再配列されたブロックスペクトルないし順次ブロック構成を介して分子オービタル特性を定量的に簡単かつ正確に評価できるということを確認した。

Claims (10)

  1. a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算するステップと、
    b)前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向(radial direction)にN個のブロックを作るステップと、
    c)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算するステップと、
    d)前記ブロックを前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさが大きいものから小さいものの順に、または小さいものから大きいものの順に順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得るステップと、
    を含む順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法。
  2. 前記a)ステップの量子力学計算法は、物質の分子構造で計算される各地点でのオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の自乗の電子密度(ψ2)の分布を介して計算することを特徴とする請求項1に記載の順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法。
  3. 前記a)ステップの量子力学計算法は、単一地点エネルギー(single point energy)計算または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を利用することを特徴とする請求項1に記載の順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法。
  4. 前記a)ステップは、RDM計算方法を利用することを特徴とする請求項1に記載の順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法。
  5. 前記c)ステップのそれぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル(BMO(k))を計算し、これにより、全体分子オービタル合計であるSUMを計算した後、全体分子オービタル合計に対するそれぞれのブロックに関連した分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることを特徴とする請求項1に記載の順次ブロック構成による分子オービタル特性の解析方法。
  6. a)分子オービタル特性を解析する対象分子オービタルを選択した後、量子力学計算法を利用して前記分子オービタル分布を計算し、前記分子の分子構造内の分子の中心から放射方向にN個の順次ブロックで表す第1のブロック化モジュールと、
    b)前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))を計算してデータを入力するデータ入力モジュールと、
    c)前記ブロックを前記分子オービタル割合(BX(k))の大きさが大きいものから小さいものの順に、または小さいものから大きいものの順に順次再配列し、再配列されたブロックスペクトルを得る第2のブロック化モジュールと、
    を備える分子オービタル特性分析システム。
  7. 前記第1のブロック化モジュールの量子力学計算法は、物質の分子構造で計算される各地点でのオービタル波動関数(orbital wave function、ψ)の自乗の電子密度(ψ2)の分布を介して計算することを特徴とする請求項6に記載の分子オービタル特性分析システム。
  8. 前記第1のブロック化モジュールの量子力学計算法は、単一地点エネルギー(single point energy)計算または幾何学的最適化(geometry optimization)計算を利用することを特徴とする請求項6に記載の分子オービタル特性分析システム。
  9. 前記第1のブロック化モジュールのブロック化方法としてRDM計算方法を利用することを特徴とする請求項6に記載の分子オービタル特性分析システム。
  10. 前記データ入力モジュールに入力されるそれぞれのブロックに関連した分子オービタル割合(BX(k))は、前記それぞれのブロックに関連した分子オービタル(BMO(k))を計算し、これにより、全体分子オービタル合計であるSUMを計算した後、全体分子オービタル合計に対するそれぞれのブロックに関連した分子オービタルの割合(BX(k))を計算することにより求めることを特徴とする請求項6に記載の分子オービタル特性分析システム。
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