KR101472417B1 - 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성 해석 방법 및 이를 이용한 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하는 단계; b) 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향(radial direction)으로 N개의 블록을 만드는 단계; c) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하는 단계; 및 d) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계를 포함하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법에 관한 것이다.

Description

순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성 해석 방법 및 이를 이용한 시스템{METHOD FOR ANALYSIS OF CHARACTERISTICS OF MOLECULAR ORBITAL USING ASSEMBLY OF CONSECUTIVE BULIDING BLOCK AND SYSTEM USING THE SAME}
본 발명은 분자 오비탈 특성의 해석 방법 및 이를 이용한 시스템에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 정량적으로 분자 오비탈 (molecular orbital) 특성을 해석할 수 있는 새로운 분석방법을 이용한 분자 오비탈 특성의 해석 방법 및 이를 이용한 시스템에 관한 것이다.
분자 오비탈(Molecular Orbital)은 분자 내에서 전자가 존재할 수 있는 확률을 나타내는 것으로 전자의 거동을 나타내는 중요한 물성이기 때문에 분자 오비탈 분포는 물질의 전기화학적 특성을 결정짓는 중요한 요소 중 하나이다. 분자 오비탈은 양자역학 방법에 의한 계산을 통해서만 파악될 수 있다.
분자 오비탈이 전체 구조 내에서 분포할 수 있는 패턴은 매우 다양하고 복잡하다. 예를 들면 분자 오비탈은 (1) 전체 구조의 중심에만 분포할 수 있고, (2) 분자 중심에서 멀리 떨어진 외곽에만 분포할 수 있고, (3) 분자 중심 근처와 외곽에서만 분포할 수 있고, (4) 전체 분자에 걸쳐 분포하고 있지만 세부 영역에서 분포하는 경향이 매우 다를 수 있다. 이와 같이 매우 많은 경우의 분포 형태를 나타낼 수 있는 분자 오비탈이 전체 구조에서 분포하는 경향을 파악하는 것은 전자 거동 예측에 필수적이기 때문에 이를 정확하고 직관적으로 평가할 수 있는 정량적인 방법이 필요하다.
이러한 분자 오비탈 정보를 평가하고 해석하는 방법은 현재까지는 그림을 생성해서 시각적으로 비교하는 정성적인 방법 밖에 없기 때문에 정량적인 평가가 가능한 다른 전기화학적 물성에 비해서 물질 개발이나 물성 평가와 같은 관련 분야에서 체계적으로 잘 이용되지 못하고 있다.
그러나, 전자의 거동을 나타내는 분자 오비탈이 주는 정보의 중요성을 감안하면 분자 오비탈을 다른 전기화학적 물성과 마찬가지로 정량적인 평가를 통해 체계적으로 이용할 수 있다면 물질 개발이나 물성 평가와 같은 관련 분야에서 효용성이 아주 클 것이기 때문에 분자 오비탈 정보를 정량적으로 명확하게 평가할 수 있는 방법이 필요한 실정이다.
JP 2011-173821 A
Mireia Guell, Eduard Matito, Josep M. Luis, Jordi Poater, and Miquel Sola, Analysis of Electron Delocalization in Aromatic System: Individual Molecular Orbital Contributions to Para-Delocalization Indexes (PDI), J. Phys. Chem. A. 2006, 110, 11569-11574.
상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 분자 오비탈 특성을 정량적으로 해석할 수 있는 방법을 개발하여 분자 오비탈 특성을 정량적으로 간단하고 정확하게 평가함으로써, 신규 물질의 개발에 이용하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하는 단계; b) 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향(radial direction)으로 N개의 블록을 만드는 단계; c) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하는 단계; 및 d) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계를 포함하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법을 포함하는 분자 오비탈 특성의 해석 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하고, 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향으로 N개의 순차적인 블록으로 나타내는 제1 블록화 모듈; b) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하여 데이터를 입력하는 데이터 입력 모듈; 및 c) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 제2 블록화 모듈을 포함하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템을 제공한다.
본 발명의 분자 오비탈 특성 해석 방법은, 전체 분자 구조를 블록의 조합으로 나타내고 각각의 블록의 분자 오비탈 비율을 계산하여 재배열된 순차적 블록 정보를 제공함으로써, 분자 오비탈 특성을 정량적으로 간단하고 정확하게 평가하게 할 수 있으며, 이를 통해 분자 오비탈 특성 유사성을 비교할 수 있어 OLED(organic light-emitting diode) 또는 태양전지 등과 같은 분야의 신규 물질 개발에 이용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에서 사용한 OLED의 구성 물질로 사용되는 NPB (N,N'-Di[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-(biphenyl)-4,4'-diamine) 분자의 전체 분자 구조를, 전체 블록 개수를 5개로 지정하여 분자 중심으로부터의 거리를 기준으로 5개의 블록으로 구성한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 AC2B(Assembly of Consecutive Building Block) 법에 따른 계산과정을 나타낸 Flow chart이다.
도 3a 및 도 4a는 ACCELRYS사에서 개발한 MATERIAL STUDIO패키지의 VISUALIZER를 사용하여 실시예 1 및 실시예 2의 NPB 분자의 분자 오비탈 분포를 각각 시각화한 것이다.
도 3b 및 도 4b는, 도 3a 및 도 4a에 도시된 전체 분자 구조를 분자 중심을 기준으로 5개의 순차적 블록으로 구성한 후, 이를 BX(k)순으로 재배열한 결과 얻은 재배열된 블록 스펙트럼이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명자는 분자 오비탈 특성을 해석하기 위해 새로운 해석방법인 AC2B(Assembly of Consecutive Building Block)법을 개발하게 되었다.
본 발명에서 AC2B(Assembly of Consecutive Building Block)법은 분자 오비탈 특성의 해석 방법으로서, a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하는 단계; b) 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향(radial direction)으로 N개의 블록을 만드는 단계; c) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하는 단계; 및 d) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 AC2B법은 분자 오비탈 특성 해석을 위해 전체 분자 구조의 각 세부 영역을 블록화한 후 배열하여 전체 분자 구조를 블록의 조합으로 나타낸 것을 의미한다.
본 발명은, a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하는 단계; 및 b) 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향(radial direction)으로 N개의 블록을 만드는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
분자 상태에서의 분자 오비탈은 분자 내에서의 전자의 파동적(wave-like) 거동을 나타내는 수학적인 모사로 정의할 수 있다. 분자 오비탈이 존재하는 영역은 양자역학 계산을 통해 구할 수 있다. 분자 오비탈이 존재하는 영역을 구하기 위한 양자역학 계산은, 양자역학을 이용한 방법이라면 특별한 제한은 없으나, 바람직하게는 물질의 분자 구조에서 계산되는 각 지점에서의 오비탈 파동 함수(orbital wave function, ψ)의 제곱인 전자 밀도(ψ2)의 분포를 통하여 계산하는 것을 사용할 수 있고, 단일지점　에너지（single point energy）　계산　또는　기하학적　최적화（geometry optimization）계산을　이용할 수도 있다. 구체적으로, 본 발명의 발명자들은 DFT(Density Functional Theory)에 근간을 둔 ACCELRYS 사에서 개발한 MATERIAL STUDIO 패키지의 DMol3를 이용하여 분자 오비탈을 계산하였고, 분자 오비탈 그림을 생성하기 위해 MATERIAL STUDIO 패키지의 VISUALIZER를 이용하였다.
본 발명에서, 분자 오비탈 특성을 해석할 상기 대상 분자의 전체 분자 구조는, 지정된 분자 전체 블록 개수(N)에 따라 분자 중심을 기준으로 생성된 N 개의 순차적인 블록의 조합으로 구성된다.
이를 위해, 분자 중심(r=0.0)을 시작점으로 해서 방사방향(radial direction)으로 분자 전체를 포함하는 크기가 가장 큰 RDM (radially discrete mesh)을 계산하고 이때의 크기를 r=1.0으로 지정한다. 상기 RDM은 분자의 중심으로부터 출발해서 방사방향 (radial direction)으로 분자 구조 내의 모든 구성 원자(atom)를 포함하는 메쉬(mesh)를 나타낸다. 상기 RDM에 의한 분자 구조 계산에 있어서, 분자 내 중심(xc, yc, zc)을 구하는 방법은 하기 수학식 1-1 내지 1-3과 같다.
(수학식 1-1)
Figure 112013061805288-pat00001
(수학식 1-2)
Figure 112013061805288-pat00002
(수학식 1-3)
Figure 112013061805288-pat00003
상기 수학식 1-1 내지 1-3에서 NCoord는 분자를 구성하는 원자 좌표의 총 개수를 나타낸다.
블록의 총 개수 N 값은 특별한 제한은 없으나 바람직하게는 3 내지 100의 범위를 갖는다.
상기와 같이 RDM에 의한 분자 구조 계산에 의해, 상기 대상 분자의 전체 분자 구조는 분자 중심으로부터의 거리를 기준으로 블록화될 수 있다.
이를 도 1을 참조하여 보다 자세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예로서, 전체 블록 개수를 5개로 지정하여 분자 중심으로부터의 거리를 기준으로 NPB 분자의 분자오비탈 분포를 5개의 블록(N=5)으로 구성한 것이다. 분자 전체를 포함하는 RDM을 계산한 후 RDM을 BL1, BL2, BL3, BL4, BL5로 균등하게 분할해서 5개의 블록을 생성했으며, 도 1에서 BL1은 분자 중심에 가장 가까운 블록이고 BL5는 가장 외곽에 있는 블록이다. 각 블록의 크기는 특별한 제한은 없지만 바람직하게는 크기가 동일해야 한다. 이와 같이 전체 분자 구조는 BL1-BL2-BL3-BL4-BL5의 순서로 구성된 순차적인 블록의 배열로 나타낼 수 있다.
즉, 상기 a) 단계에서, 대상 분자의 분자오비탈 분포는 순차적 블록(AC2B, Assembly of Consecutive Building Block)으로 구성되는 것이다.
본 발명은, c) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))은 전체 분자 오비탈 중에서 k번째 블록에 연관되어 있는 분자 오비탈이 차지하고 있는 양을 의미한다. 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))은 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈(BMO(k))을 계산하고 이를 통해서 전체 분자 오비탈 합인 SUM을 계산한 다음, 전체 분자 오비탈 합에 대한 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈의 비율(BX(k))을 계산함으로써 구할 수 있다.
본 발명은, d) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 d)단계는, 상기 a) 단계에서 얻은 순차적 블록(AC2B, Assembly of Consecutive Building Block)을 BX(k)를 기준으로 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계이다. 본 발명에서 "재배열된 블록 스펙트럼"은 상기 a) 단계에서 얻은 순차적 블록의 조합(AC2B, Assembly of Consecutive Building Block)을 BX(k)를 기준으로 순차적으로 재배열하여 얻은 순차적 블록의 조합을 의미한다.
만약 상기 c) 단계에서 계산된 분자 오비탈 비율의 순서가 BX(5)>BX(4)>BX(3)>BX(2)>BX(1)이면 상기 a) 단계에서 얻은 순차적 블록의 조합은 BL5-BL4-BL3-BL2-BL1으로 재배열된다. 재배열된 블록 스펙트럼을 통해서 분자 중심에서 가장 먼 블록인 BL5에 가장 많은 양의 분자 오비탈이 분포하고 분자 중심에 가장 가까운 블록인 BL1에 가장 적은 양의 분자 오비탈이 분포한다는 것을 알 수 있다.
따라서 본 발명에 따르면 재배열된 블록 스펙트럼을 통해 어느 블록에 가장 많은 분자 오비탈이 분포하고 어느 블록에 가장 적은 분자 오비탈이 분포하는 지를 직관적으로 정확하게 평가할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 분자 오비탈 특성의 해석 방법을 이용한 분자 오비탈 특성 분석 시스템을 제공한다.
상기 분자 오비탈 특성 분석 시스템은, a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하고, 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향으로 N개의 순차적인 블록으로 나타내는 제1 블록화 모듈; b) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하여 데이터를 입력하는 데이터 입력 모듈; 및 c) 상기 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기를 기준으로 상기 블록을 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 제2 블록화 모듈을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 블록화 모듈에 있어서, 양자역학 계산법은 물질의 분자 구조에서 계산되는 각 지점에서의 오비탈 파동 함수(orbital wave function, ψ)의 제곱인 전자 밀도(ψ2)의 분포를 통하여 계산하는 것을 사용할 수 있고, 단일지점　에너지（single point energy）　계산　또는　기하학적　최적화　（geometry optimization）　계산을　이용할 수도 있다.
상기 제1 블록화 모듈에 있어서, 전체 분자 구조의 블록화 방법으로 RDM계산방법을 이용할 수 있다.
또한 상기 데이터 입력 모듈에 있어서, 입력되는 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))은 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈(BMO(k))을 계산하고 이를 통해서 전체 분자 오비탈 합인 SUM을 계산한 다음, 전체 분자 오비탈 합에 대한 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈의 비율(BX(k))을 계산함으로써 구할 수 있다.
이하 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로서, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다.
실시예
도 3a 및 도 4a는 MATERIAL STUDIO패키지의 프로그램인 VISUALIZER를 사용하여 NPB(N,N'-Di[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-(biphenyl)-4,4'-diamine)의 분자 오비탈 분포를 시각화한 것이다. 분자 오비탈 분포가 되어 있는 영역(노란색/녹색으로 표시된 영역)에만 전자가 위치할 확률이 있는 것으로, 도 3a의 경우에는 전반적으로 분자 오비탈이 분자 전 영역에 걸쳐 고르게 분포되어 있는 것을 알 수 있으며, 도 4a의 경우에는 분자 오비탈이 분자 중심에서 멀리 떨어진 외곽에 주로 분포하는 것을 알 수 있다.
상기와 같은 정성적인 평가에 대하여, 다음과 같이 본 발명에 따라 AC2B법을 이용하여 NPB 분자의 분자오비탈 분포를 순차적 블록으로 구성함으로써 NPB 분자의 분자 오비탈 특성을 정량적으로 해석하였다.
<실시예 1>
분자 오비탈이 전체 분자에 걸쳐 분포하고 있는 NPB분자에 대해 본 발명에 따라 분자 오비탈 특성 해석을 실시하였다.
도 3a에 도시된 전체 분자 구조를 분자 중심을 기준으로 5개의 순차적 블록(AC2B)으로 구성하고, 이를 BX(k)순으로 재배열한 결과 도 3b와 같이 BL3-BL2-BL4-BL1-BL5 순으로 재배열된 블록 스펙트럼을 얻었다. 재배열된 블록의 밑에 표시한 값은 각 블록에서의 BX(k)값이다. 상기 재배열된 블록 스펙트럼에서 BL3에 가장 많은 양의 분자 오비탈이 존재하고 그 다음은 BL2와 BL4의 순서로 분자 오비탈이 존재하는 반면, 분자 중심에 가장 가까운 BL1(가장 짙은 색)과 가장 먼 BL5(가장 옅은 색)에 있는 분자 오비탈의 양은 상대적으로 작았다. 따라서 전체 분자 구조에 걸쳐서 분자 오비탈이 분포하지만 중앙의 블록(BL3, BL2, BL4)에 더 많은 분자 오비탈이 분포함을 알 수 있다.
<실시예 2>
분자 오비탈이 분자 중심에서 멀리 떨어진 외곽에 주로 분포하는 NPB분자에 대해 본 발명에 따라 분자 오비탈 특성 해석을 실시하였다.
도 4a에 도시된 전체 분자 구조를 분자 중심을 기준으로 5개의 순차적 블록으로 구성하고, 이를 BX(k)순으로 재배열한 결과 도 4b와 같이 BL4-BL5-BL3-BL2-BL1 순으로 재배열된 블록 스펙트럼을 얻었다.
상기 재배열된 블록 스펙트럼에서 분자 중심에서 먼 블록인 옅은 색깔의 BL4와 BL5에 분자 오비탈이 집중적으로 분포하는 반면, 분자 중심에 가까운 짙은 색깔의 BL2와 BL1에는 분자 오비탈이 상대적으로 분포하지 않는다는 것을 알 수 있다.
이와 같이 본 발명에 따르면 전체 분자 구조의 블록화를 통해 얻어진 재배열된 블록 스펙트럼 내지 순차적 블록 구성을 통해서 분자 오비탈 특성을 정량적으로 간단하고 정확하게 평가할 수 있다는 것을 확인하였다.

Claims (10)

  1. a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하는 단계;
    b) 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향(radial direction)으로 N개의 블록을 만드는 단계;
    c) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하는 단계; 및
    d) 상기 블록을 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기가 큰 것부터 작은 것 순으로 또는 작은 것부터 큰 것 순으로 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 단계를 포함하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 단계의 양자역학 계산법은 물질의 분자 구조에서 계산되는 각 지점에서의 오비탈 파동 함수(orbital wave function, ψ)의 제곱인 전자 밀도(ψ2)의 분포를 통하여 계산하는 것을 특징으로 하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 단계의 양자역학 계산법은 단일지점　에너지（single point energy）　계산　또는　기하학적　최적화　（geometry optimization）　계산을　이용하는 것을 특징으로 하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 단계는 RDM계산방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 c) 단계의 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))은 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈(BMO(k))을 계산하고 이를 통해서 전체 분자 오비탈 합인 SUM을 계산한 다음, 전체 분자 오비탈 합에 대한 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈의 비율(BX(k))을 계산함으로써 구하는 것을 특징으로 하는 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성의 해석 방법.
  6. a) 분자 오비탈 특성을 해석할 대상 분자 오비탈을 선택한 후, 양자역학 계산법을 이용하여 상기 분자 오비탈 분포를 계산하고, 상기 분자의 분자 구조 내의 분자 중심에서 방사방향으로 N개의 순차적인 블록으로 나타내는 제1 블록화 모듈;
    b) 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))을 계산하여 데이터를 입력하는 데이터 입력 모듈; 및
    c) 상기 블록을 분자 오비탈 비율(BX(k))의 크기가 큰 것부터 작은 것 순으로 또는 작은 것부터 큰 것 순으로 순차적으로 재배열하여 재배열된 블록 스펙트럼을 얻는 제2 블록화 모듈을 포함하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템.
  7. 청구항 6에 있어서, 상기 제1 블록화 모듈의 양자역학 계산법은 물질의 분자 구조에서 계산되는 각 지점에서의 오비탈 파동 함수(orbital wave function, ψ)의 제곱인 전자 밀도(ψ2)의 분포를 통하여 계산하는 것을 특징으로 하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템.
  8. 청구항 6에 있어서, 상기 제1 블록화 모듈의 양자역학 계산법은 단일지점　에너지（single point energy）　계산　또는　기하학적　최적화　（geometry optimization）　계산을　이용하는 것을 특징으로 하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템.
  9. 청구항 6에 있어서, 상기 제1 블록화 모듈의 블록화 방법으로 RDM계산방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템.
  10. 청구항 6에 있어서, 상기 데이터 입력 모듈에 입력되는 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈 비율(BX(k))은 상기 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈(BMO(k))을 계산하고 이를 통해서 전체 분자 오비탈 합인 SUM을 계산한 다음, 전체 분자 오비탈 합에 대한 각각의 블록에 연관된 분자 오비탈의 비율(BX(k))을 계산함으로써 구하는 것을 특징으로 하는 분자 오비탈 특성 분석 시스템.
KR1020130080511A 2013-07-09 2013-07-09 순차적 블록 구성을 통한 분자 오비탈 특성 해석 방법 및 이를 이용한 시스템 KR101472417B1 (ko)

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