JP5931600B2 - ガラス光学素子の製造装置、及び、ガラス光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
図1及び図2は、本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置1を背面側から見た断面図及び正面側から見た正面側の断面図である。
上断熱ブロック2bは、上ヒータブロック2aの上部に配置されている。
シリンダ2dは、プレス軸2cに接続され、上ヒータブロック2a、上断熱ブロック2b、及びプレス軸2cを上下動させる。
第2の加熱ステージ3、加圧ステージ4、第1の冷却ステージ5、及び第2の冷却ステージ6も、第1の加熱ステージ2と同様に、上ヒータブロック(2a)と、上断熱ブロック(2b)と、プレス軸(2c)と、シリンダ(2d)と、下ヒータブロック(2e)と、下断熱ブロック(2f)と、を含むため、これらのステージ3〜6の説明は省略する。
型投入口シャッタ7hは、右側面板7c(図1は背面側から見た図面であるため、図1では成形室7の左端に位置する。)に設けられ、型セット100が後述する型投入台14から成形室7へ投入される際に開放する。
不活性ガス供給源9は、例えば、窒素、アルゴンなどの不活性ガスA(供給直後をA1と呼ぶ。)を供給する。
第1の供給路10aは、不活性ガス供給源9に連結され、不活性ガス供給源9から不活性ガスA1を供給される。
2つのスイベルブロック13は、それぞれスイベルシャフト12の下端に連結され、内部には不活性ガスA2の流路が形成されている。
これにより、不活性ガス供給部8は、スイベルシャフト12の長手方向(軸方向)及び不活性ガス供給部8の長手方向(軸方向)を回動軸として2軸回りに回動可能である。そのため、不活性ガス供給部8の向き、ひいては後述する不活性ガスA2の向きを2軸回りに調整可能である。
第1のガス噴出口8aは、型セット100の移送方向Dに配列された貫通孔であり、不活性ガスA2−1を噴出させる。
型排出台15には、成形室7から排出された直後の型セット100が載置される。
ガス排出キャップ17の例えば中央には、ガス排出口17aが形成され、その周囲には、各ステージ2〜6の上ヒータブロック2aに接続されたヒータ線16が挿入される例えば5つのヒータ線導入口17bが形成されている。ヒータ線導入口17bには、ガス排出キャップ17の外周面からヒータ線16を抜き挿し可能なスリット17cが形成されるようにしてもよい。
なお、本実施の形態では、不活性ガス供給源9により供給されガス排出キャップ17から排出される不活性ガスAを再利用はしないが、ガス排出キャップ17から排出される気体から、触媒などを用いて酸素を除去し、再び不活性ガス導入口7gから成形室7に導入するように循環させてもよい。
まず、図1及び図2に示す第1の加熱ステージ2、第2の加熱ステージ3、加圧ステージ4、第1の冷却ステージ5、及び第2の冷却ステージ6の上ヒータブロック2a及び下ヒータブロック2eは、図示しない制御手段により、各ステージに適した温度に設定され、その温度が保持される。
2 :第1の加熱ステージ
2a :上ヒータブロック
2b :上断熱ブロック
2c :プレス軸
2d :シリンダ
2e :下ヒータブロック
2f :下断熱ブロック
3 :第2の加熱ステージ
4 :加圧ステージ
5 :第1の冷却ステージ
6 :第2の冷却ステージ
7 :型排出口シャッタ
7 :成形室
7a :天板
7b :底板
7c :右側面板
7d :左側面板
7e :正面板
7f :背面板
7g :不活性ガス導入口
7h :型投入口シャッタ
7i :型排出口シャッタ
8 :不活性ガス供給部
8a :第1のガス噴出口
8b :第2のガス噴出口
9 :不活性ガス供給源
10 :不活性ガス供給路
10a :第1の供給路
10b :第2の供給路
10c :第3の供給路
11 :流量調整器
12 :スイベルシャフト
13 :スイベルブロック
14 :型投入台
15 :型排出台
16 :ヒータ線
17 :ガス排出キャップ
17a :ガス排出口
17b :ヒータ線導入口
17c :スリット
18 :風偏向部材
19 :ヒンジ部材
100 :型セット
101 :ガラス材料
102 :ガラス光学素子
Claims (4)
- ガラス材料を加熱する加熱部と、
前記ガラス材料を加圧する加圧部と、
前記ガラス材料を冷却する冷却部と、
前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部が配置された成形室と、
を備えるガラス光学素子の製造装置において、
互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成する不活性ガス供給部と、
前記不活性ガス供給部により前記成形室に供給された前記不活性ガスを前記成形室から排出する不活性ガス排出部と、
を備え、
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットが前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部に順次移送され、
前記ガラス光学素子の製造装置は、前記不活性ガス供給部により形成される前記不活性ガスの流れを前記型セットに向けて偏向する偏向部材を更に備える、
ことを特徴とするガラス光学素子の製造装置。 - ガラス材料を加熱する加熱部と、
前記ガラス材料を加圧する加圧部と、
前記ガラス材料を冷却する冷却部と、
前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部が配置された成形室と、
を備えるガラス光学素子の製造装置において、
互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成する不活性ガス供給部と、
前記不活性ガス供給部により前記成形室に供給された前記不活性ガスを前記成形室から排出する不活性ガス排出部と、
を備え、
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットが前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部に順次移送され、
前記不活性ガス供給部は、複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ前記不活性ガスを噴出させ、
前記複数のガス噴出口は、前記型セットの移送方向に配列され前記不活性ガスを噴出させる複数の第1のガス噴出口と、前記型セットの移送方向に配列され前記第1のガス噴出口が前記不活性ガスを噴出させる方向とは交差する方向へ前記不活性ガスを噴出させる複数の第2のガス噴出口と、を含み、
前記複数の第1のガス噴出口と前記複数の第2のガス噴出口とは、90度以上の角度に亘って位置する、
ことを特徴とするガラス光学素子の製造装置。 - 成形室内でガラス材料を加熱、加圧、及び冷却するガラス光学素子の製造方法において、
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットを、前記ガラス材料を加熱する加熱部、前記ガラス材料を加圧する加圧部、及び前記ガラス材料を冷却する冷却部に順次移送し、
複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成し、
形成される前記不活性ガスの流れを前記型セットに向けて偏向し、
前記成形室に導入された前記不活性ガスを前記成形室から排出する、
ことを特徴とするガラス光学素子の製造方法。 - 成形室内でガラス材料を加熱、加圧、及び冷却するガラス光学素子の製造方法において、
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットを、前記ガラス材料を加熱する加熱部、前記ガラス材料を加圧する加圧部、及び前記ガラス材料を冷却する冷却部に順次移送し、
複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成し、
前記成形室に導入された前記不活性ガスを前記成形室から排出し、
前記複数のガス噴出口は、前記型セットの移送方向に配列され前記不活性ガスを噴出させる複数の第1のガス噴出口と、前記型セットの移送方向に配列され前記第1のガス噴出口が前記不活性ガスを噴出させる方向とは交差する方向へ前記不活性ガスを噴出させる複数の第2のガス噴出口と、を含み、
前記複数の第1のガス噴出口と前記複数の第2のガス噴出口とは、90度以上の角度に亘って位置する、
ことを特徴とするガラス光学素子の製造方法。
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