JP5926297B2 - ヒドロクロロフルオロカーボンの選択的触媒接触脱塩化水素化 - Google Patents
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Description
本開示は、一般に、ヒドロフルオロオレフィン（ＨＣＦＯ）を作製するためのヒドロクロロフルオロカーボン（ＨＣＦＣ）の選択的触媒接触脱塩化水素化に関する。より詳細には、触媒は、オキシフッ化クロム触媒である。
ヒドロクロロフルオロオレフィン（ＨＣＦＯ）は、低いオゾン破壊係数および低い地球温暖化係数を有し、飽和ＣＦＣ（クロロフルオロカーボン）およびＨＣＦＣ（ヒドロクロロフルオロカーボン）の代替候補と見なされている。ＨＣＦＯは、冷媒、溶媒、発泡剤、清浄剤、エアロゾル噴射剤、誘電体、消火剤、およびパワーサイクル作動流体としてのそれらの使用を包含する広範囲な用途で使用することができる。例えば、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ（ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＨ２）は、発泡剤、消火剤、冷媒などとして使用することができる。ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆはまた、２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）の生成における中間体であり、オゾン破壊係数がゼロ、かつ地球温暖化係数が低い冷媒である。
Ruthruff in "Inorganic Synthesis", Vol. II, pp. 190-193, published in 1946 by McGraw-Hill Book Co., New York
本開示は、脱塩化水素化プロセスを提供する。
このプロセスは、反応域においてＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌをオキシフッ化クロム触媒と接触させて、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２を含む生成混合物を生成させるステップを含み、式中、Ｒｆは、過フッ化アルキル基である。
前述の全般的説明および以下の詳細な説明は、例示的および説明的なものにすぎず、添付の特許請求の範囲が規定する本発明を限定するものではない。実施形態のいずれか１種または複数の他の特徴および利益は、以下の詳細な説明、および特許請求の範囲から明らかであろう。
本明細書で使用する用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「包含する（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「包含する（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、またはそれらの他のどの変形も、非排他的な包含を網羅することを意図している。例えば、元素の一覧を含むプロセス、方法、品物、または備品は、必ずしもそれら元素のみに限定されず、明確には列挙されていない他の元素、またはそのようなプロセス、方法、品物、または備品に固有の元素を包含することができる。さらに、明確に否定されていない限り、「または」は包含的なまたはを意味し、排他的なまたはを意味しない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれか１つに当てはまる：Ａは真（または存在）、Ｂは偽（または非存在）であり、Ａは偽（または非存在）、Ｂは真（または存在）であり、或いはＡとＢの双方は真（または存在）である。
また、「ａ」または「ａｎ」は、本明細書に記載の元素および成分を記載するのに使用する。これは単に便宜上なされており、本発明の範囲の一般的な意味を示すためになされている。この記述は、１つまたは少なくとも１つを包含するとして読まれるべきであり、単数はまた、明らかにそうではないことを意味していない限り、複数を包含する。
別段の定義がない限り、本明細書に使用する技術用語および科学用語はすべて、本発明が属する当業者によって一般的に理解されているものと同じ意味を有する。本明細書に記載しているものと類似または同等な方法および材料が本発明の実施形態の実施または試験に使用することができるが、適切な方法および材料を下記に記載する。本明細書に挙げた出版物、特許出願、特許、および他の参考文献はすべて、特別な引用を挙げない限り、参照としてそれらの全体が本明細書に援用されている。矛盾する場合は、定義を包含する本明細書が規制する。さらに、材料、方法、および例は例示のみを目的としており、限定する意図はない。
量、濃度、または他の値もしくはパラメーターが、範囲、好ましい範囲、または好ましい値より高い値および／または好ましい値より低い値の一覧として示される場合、これは、範囲を別個に開示しているか否かに関わらず、任意の上限範囲または好ましい値、および任意の下限範囲または好ましい値の任意の対から形成されたすべての範囲を具体的に開示していると理解されたい。ある範囲の数値が本明細書に記載されている場合、別段の指示がない限り、その範囲はその終点、ならびにその範囲内のすべての整数および分数を包含することを意図している。
本明細書で使用する用語「脱塩化水素化」は、分子中の隣接する炭素上の水素および塩素を除去するプロセスを意味する。
本明細書で使用する用語「ヒドロクロロフルオロオレフィン」は、水素、炭素、フッ素、塩素、および少なくとも１個の炭素−炭素二重結合を含有している分子を意味する。本開示の例示的なヒドロクロロフルオロオレフィンはＨＣＦＯ−１２３３ｘｆを包含する。
本明細書で使用する用語「アルキル」は、単独または「過フッ化アルキル基」などの複合語において、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、またはそれらの様々な異性体などの、環状または非環状および直鎖または分岐のアルキル基を包含する。
本明細書で使用する用語「過フッ化アルキル基」は、炭素原子上のすべての水素がフッ素で置換されたアルキル基を意味する。過フッ化アルキル基の例には、−ＣＦ３および−ＣＦ２ＣＦ３が包含される。
用語「オキシフッ化クロム触媒」は、式Ｃｒ２ＯｘＦｙ（式中、ｘ＋ｙ／２＝３）で表されるオキシフッ化クロムを意味することを意図している。
用語「非晶性」は、対象固体のＸ線回折パターンに実質的にピークがないことを意味することを意図している。
本明細書で使用する用語「ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する生成物選択性」は、得られた全生成物の合計モル量と比較した、プロセスで得られたＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２のモル百分率を意味する。
本明細書で使用する用語「ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する脱塩化水素化選択性」は、ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌの脱塩化水素化反応で得られるＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２とＲｆＣＨ＝ＣＨＣｌとの合計モル量に対してのＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２のモル百分率を意味する。
本明細書で使用する用語「高温」は、室温より高い温度を意味する。
脱塩化水素化プロセスであって、反応域においてＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌをオキシフッ化クロム触媒と接触させて、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２を含む生成混合物を生成させるステップを含み、式中、Ｒｆは、過フッ化アルキル基であるプロセスを開示している。
本発明のいくつかの実施形態では、Ｒｆは、−ＣＦ３または−ＣＦ２ＣＦ３である。本発明のいくつかの実施形態では、ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌは、ＣＦ３ＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌ（ＨＣＦＣ−２４３ｄｂ）であり、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２は、ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＨ２（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）である。
本開示のいくつかのヒドロクロロフルオロオレフィン、例えば、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）は、様々な立体配置異性体または立体異性体として存在する。特定の異性体を明示していない場合、本開示は、単一の立体配置異性体、単一の立体異性体、またはそれらの任意の組合せをすべて包含することを意図している。例えば、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄは、Ｅ−異性体、Ｚ−異性体、または両異性体の任意の比での任意の組合せもしくは混合物を意味する。
本開示における脱塩化水素化プロセスの出発材料、すなわち、ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌは、当技術分野で周知の方法によって合成することができる。例えば、ＨＣＦＣ−２４３ｄｂは、ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨ２を塩素化することによって、またはＣＦ２＝ＣＦＣｌをＣＦＣｌＨ２と付加反応させることによって調製することができる。
脱塩化水素化プロセスは、液相または気相において、連続、半連続、またはバッチ操作を包含する周知の化学工学方法を使用して実施することができる。反応域の温度は、一般に約２００℃から約５００℃である。本発明のいくつかの実施形態では、反応域の温度は、約２７５℃から約４５０℃である。脱塩化水素化プロセスは、大気圧より高い圧力、大気圧、または大気圧より低い圧力で行うことができる。出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌと触媒との接触時間は、概して変えることができる。一般に、接触時間は、約５秒から約１５０秒である。本発明のいくつかの実施形態では、接触時間は、約１０秒から約１００秒である。
本発明の接触ステップは、当技術分野で周知の方法によって実施することができる。本発明のいくつかの実施形態では、出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌを、場合により不活性ガスおよび／またはＨＦと共に、触媒を含有する反応器に供給する。本発明のいくつかの実施形態では、出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌを、場合により不活性ガスおよび／またはＨＦと共に、反応器中の触媒ベッドに通す。本発明のいくつかの実施形態では、出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌを、場合により不活性ガスおよび／またはＨＦと共に、撹拌または揺動しながら反応器中で触媒と混合させることができる。
場合により、脱塩化水素化プロセスは、ＨＦの存在下で行うことができる。本発明のいくつかの実施形態では、ＨＦを出発材料と同時に反応器に供給する。本発明のいくつかの実施形態では、反応域におけるＨＦと出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌのモル比は、約０．１：１から約５０：１である。本発明のいくつかの実施形態では、反応域におけるＨＦと出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌのモル比は、約５：１から約２５：１である。本発明のいくつかの実施形態では、反応域における出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌに対するＨＦのモル比は、０．９以下である。本発明のいくつかの実施形態では、反応域における出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌに対するＨＦのモル比は、０．５以下である。本発明のいくつかの実施形態では、反応域における出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌに対するＨＦのモル比は、０．１以下である。
場合により、脱塩化水素化プロセスは、Ｈｅ、Ａｒ、またはＮ２などの不活性ガスの存在下で行うこともできる。本発明のいくつかの実施形態では、不活性ガスを出発材料と同時に反応器に供給する。
オキシフッ化クロム触媒が本開示の選択的脱塩化水素化プロセスに適していることが実験を通して分かった。
オキシフッ化クロム触媒は、Ｃｒ２Ｏ３を、ＨＦ、ＣＣｌ３Ｆ、ＣＯＦ２、またはヒドロフルオロカーボンで処理することによって作製することができる。本発明の一実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、乾燥Ｃｒ２Ｏ３をＣＣｌ３ＦまたはＨＦなどのフッ化剤で処理することによって作製する。この処理は、実施例１に記載するように、Ｃｒ２Ｏ３を適切な容器（後続の選択的触媒接触脱塩化水素化反応の実施に使用する反応器になり得るもの）に入れ、その後、ＨＦを乾燥Ｃｒ２Ｏ３に適切な温度（例えば、約２００℃から約４５０℃）で適切な時間（例えば、約１５から約８００分）通すことによって行うことができる。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、高温でＣｒ２Ｏ３をヒドロフルオロカーボンで処理することによって作製する。
Ｃｒ２Ｏ３は、ＢＡＳＦ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ ＬＬＣ、２５ Ｍｉｄｄｌｅｓｅｘ Ｅｓｓｅｘ Ｔｕｒｎｐｉｋｅ、Ｉｓｅｌｉｎ、ＮＪ０８８３０−０７７０から市販されている。
Ｃｒ２Ｏ３はまた、水中において酸化クロム（ＶＩ）を、エタノールなどの適切な還元剤で還元することによって調製することができる（例えば、特許文献１参照）。注目すべきは、非特許文献１ならびにＴｕｒｋｅｖｉｃｈおよびＲｕｔｈｒｕｆｆの特許文献２に開示される方法において、三酸化クロム（ＣｒＯ３）を還元し、還元生成物を脱水することによって得られる、いわゆる、ゲル−タイプの活性化されたＣｒ２Ｏ３である。本発明の一実施形態では、Ｃｒ２Ｏ３は、三酸化クロムを水中に溶解し、エタノールまたは他の適切な還元剤を溶液に徐々に添加し、Ｃｒ２Ｏ３ゲルが沈澱するまで還流条件下で加熱し、ゲルを反応混合物から分離し、それを乾燥させ、次いで、脱水し、水が除去され、かつ無水生成物が得られるまで、不活性雰囲気中において約４００℃から約６００℃の温度でそれを加熱して生成物を活性化することによって調製する。
Ｃｒ２Ｏ３はまた、二クロム酸アンモニウム（（ＮＨ４）２Ｃｒ２Ｏ７）の熱分解によって調製することができる（例えば、特許文献３参照）。注目すべきは、二クロム酸アンモニウムを熱分解し、得られたＣｒ２Ｏ３を処理（例えば、脱イオン水で洗浄）して、アルカリ金属含有量を１００ｐｐｍ以下に減少させることによって調製されるＣｒ２Ｏ３である。また、注目すべきは、最初に、６０〜２０００ｐｐｍのアルカリ金属を含有する二クロム酸アンモニウムを処理して、そのアルカリ金属含有量を６０ｐｐｍ未満に減少させ、次いで、得られた、アルカリ金属含有量の減少した二クロム酸アンモニウムを熱分解して、１００ｐｐｍ以下のアルカリ金属含有量を含有するＣｒ２Ｏ３を形成することによって調製されるＣｒ２Ｏ３である。
Ｃｒ２Ｏ３はまた、酸化クロム（ＶＩ）と、メタノールなどの還元性溶媒との反応によって調製することができる（例えば、特許文献４参照）。
Ｃｒ２Ｏ３中のカリウムと他のアルカリ金属との量は、水洗ステップによって減少させることができる（例えば、特許文献３参照）。本発明のいくつかの実施形態では、水洗ステップは、５〜１５ｗｔ％のＣｒ２Ｏ３と脱イオン水とを含有するスラリーを形成することを包含する。この水スラリーの撹拌は、３５℃から６５℃で少なくとも１時間、いくつかの実施形態では２時間以上行うことができる。次いで、固体を、ろ過によって、適切には、プレート＆フレームフィルタープレスにおいて回収する。濾滓を、アルカリ金属含有量に関して分析することができる。所望レベルのアルカリ金属含有量を得るために、洗浄ステップを繰り返すことができる。
本発明の一実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約１０ｍ２／ｇから約８００ｍ２／ｇの表面積を有する。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約２０ｍ２／ｇから約４００ｍ２／ｇの表面積を有する。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約４０ｍ２／ｇから約３００ｍ２／ｇの表面積を有する。
本発明の一実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約２０００ｐｐｍ以下のアルカリ金属含有量を含有する。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約３００ｐｐｍ以下のアルカリ金属含有量を含有する。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、約１００ｐｐｍ以下のアルカリ金属含有量を含有する。
本発明の一実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は非晶性である。
本発明の別の実施形態では、オキシフッ化クロム触媒は、結晶性α−Ｃｒ２Ｏ３から調製する。
触媒の形状は、重要ではなく、ペレット、粉末、または粒状として使用することができる。
反応域からの流出物は、一般に、残存する出発材料ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌ、所望のヒドロクロロフルオロオレフィン生成物ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２、脱塩化水素化副生成物ＲｆＣＨ＝ＣＨＣｌおよびいくつかの他の副生成物を包含する。所望の生成物ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２は、従来の方法によって生成混合物から回収することができる。本発明のいくつかの実施形態では、生成物ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２は、蒸留によって精製または回収することができる。
本開示の触媒接触脱塩化水素化プロセスが、高選択性を有する所望の生成物を生成したことが実験を通して判明した。本発明のいくつかの実施形態では、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する生成物選択性は、少なくとも９０モル％である。本発明のいくつかの実施形態では、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する生成物選択性は、少なくとも９５モル％である。
また、本開示の脱塩化水素化反応が高選択性であることが実験を通して分かった。ＲｆＣＨＣｌＣＨ２Ｃｌの脱塩化水素化反応は、異性体のＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２とＲｆＣＨ＝ＣＨＣｌのどちらも生成する可能性がある。本開示の脱塩化水素化プロセスがＲｆＣＨ＝ＣＨＣｌより実質上多くのＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２を生成することが判明した。本発明のいくつかの実施形態では、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する脱塩化水素化選択性は、少なくとも９５モル％である。本発明のいくつかの実施形態では、ＲｆＣＣｌ＝ＣＨ２に対する脱塩化水素化選択性は、少なくとも９９モル％である。
本発明の実施形態のプロセスの適用に使用する反応器、蒸留塔、およびそれらの関連供給ライン、流出ライン、ならびに関連ユニットは、耐食性の材料で構成することができる。典型的な構成材料には、テフロン（登録商標）およびガラスが包含される。また、典型的な構成材料には、ステンレス鋼、特にオーステナイトタイプのもの、Ｍｏｎｅｌ（商標）ニッケル−銅合金、Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ（商標）ニッケルベース合金、およびＩｎｃｏｎｅｌ（商標）ニッケル−クロム合金などの周知の高ニッケル合金、ならびに銅−クラッド鋼も包含される。
多くの態様および実施形態を上記に記載したが、これらは単なる例示であり、限定するものではない。本明細書の記載から、当業者は、本発明の範囲から逸脱することなく、他の態様および実施形態が可能であることを理解されたい。
（実施例）
以下の実施例において本明細書に記載した概念をさらに説明するが、これらは、特許請求の範囲に記載した本発明の範囲を限定するものではない。
以下の実施例において本明細書に記載した概念をさらに説明するが、これらは、特許請求の範囲に記載した本発明の範囲を限定するものではない。
実施例１は、ＨＣＦＣ−２４３ｄｂを、オキシフッ化クロム触媒と接触させて、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆを生成させることを実証する。
オキシフッ化クロム触媒の調製
６ｃｃ（立方センチメートル）（８．９７ｇ）のα−酸化クロムを破砕し、１２／２０メッシュのふるいにかけ、Ｉｎｃｏｎｅｌ（商標）反応器チューブ（０．４３インチＩＤ）に装填して、触媒ベッドを形成し、以下の手順に従ってＨＦで処理した。α−酸化クロムを、３７．５ｓｃｃｍ（立方センチメートル毎分（標準状態下））の窒素流下で４００℃に２時間加熱した。同速度の窒素流下で、温度を３００℃に８０分間低下させた。３００℃の間に、窒素流を２６．５ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を９ｓｃｃｍで開始した。これらの流れを維持しながら、温度を、３２５℃に８０分間、３５０℃に８０分間、３７５℃に２００分間、４００℃に４０分間、４２５℃に５５分間上昇させた。４２５℃の温度を維持しながら、窒素流を１８．８ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦを１５ｓｃｃｍに２５分間上昇させた。次いで、窒素流を１１．３ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を２１ｓｃｃｍに３０分間上昇させた。次いで、窒素流を３．８ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を２７ｓｃｃｍに３０分間上昇させた。次いで、窒素流を停止し、ＨＦ流を３０ｓｃｃｍに１６０分間上昇させた。その後、ＨＦ流を中止し、窒素流を２０ｓｃｃｍに上昇させ、その間、反応器チューブを周囲温度に冷却した。
６ｃｃ（立方センチメートル）（８．９７ｇ）のα−酸化クロムを破砕し、１２／２０メッシュのふるいにかけ、Ｉｎｃｏｎｅｌ（商標）反応器チューブ（０．４３インチＩＤ）に装填して、触媒ベッドを形成し、以下の手順に従ってＨＦで処理した。α−酸化クロムを、３７．５ｓｃｃｍ（立方センチメートル毎分（標準状態下））の窒素流下で４００℃に２時間加熱した。同速度の窒素流下で、温度を３００℃に８０分間低下させた。３００℃の間に、窒素流を２６．５ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を９ｓｃｃｍで開始した。これらの流れを維持しながら、温度を、３２５℃に８０分間、３５０℃に８０分間、３７５℃に２００分間、４００℃に４０分間、４２５℃に５５分間上昇させた。４２５℃の温度を維持しながら、窒素流を１８．８ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦを１５ｓｃｃｍに２５分間上昇させた。次いで、窒素流を１１．３ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を２１ｓｃｃｍに３０分間上昇させた。次いで、窒素流を３．８ｓｃｃｍに低下させ、ＨＦ流を２７ｓｃｃｍに３０分間上昇させた。次いで、窒素流を停止し、ＨＦ流を３０ｓｃｃｍに１６０分間上昇させた。その後、ＨＦ流を中止し、窒素流を２０ｓｃｃｍに上昇させ、その間、反応器チューブを周囲温度に冷却した。
脱塩化水素化反応
次いで、以下の表１に示すように、反応器チューブ温度を所望の温度に上昇させ、ＨＣＦＣ−２４３ｄｂを、Ｎ２および場合によりＨＦと共に、反応器チューブに供給した。生成物をＧＣ−ＭＳによって分析し、モル百分率として表示した。残りの百分率は未知の副生成物であった。
次いで、以下の表１に示すように、反応器チューブ温度を所望の温度に上昇させ、ＨＣＦＣ−２４３ｄｂを、Ｎ２および場合によりＨＦと共に、反応器チューブに供給した。生成物をＧＣ−ＭＳによって分析し、モル百分率として表示した。残りの百分率は未知の副生成物であった。
全般的な説明または実施例において上述の作業のすべてが必要ではないこと、特定の作業の一部が必要ではない可能性があること、および記載した作業に加えて１つまたは複数のさらなる作業を実施する可能性があることに注意されたい。さらに、作業が列挙されている順序は、必ずしもそれらの作業が実施される順序ではない。
以上の詳述において、特定の実施形態に関してその概念を記載した。しかし、様々な改変および変更が、以下の特許請求の範囲に説明する本発明の範囲から逸脱することなく行い得ることを当業者なら理解されるであろう。したがって、明細書は、限定的意味ではなく例示的なものと見なすべきであり、こうした改変はすべて、本発明の範囲内に包含されることが意図されている。
利益、他の利点、および問題に対する解決法を、特定の実施形態に関して上記に説明した。しかし、利益、利点、問題に対する解決法、ならびに、いずれの利益、利点、もしくは解決法を生じさせ得る、またはそれらをより明白にし得るいずれの特徴も、特許請求の範囲の請求項のいずれかまたはすべての重要、必要、または不可欠な特徴として解釈すべきではない。
ある特徴を、明確にするため、本明細書で別個の実施形態の文脈において記載しているが、一つの実施形態において組み合わせて提供し得ることも理解されたい。逆に、簡潔にするために一つの実施形態の文脈において記載している様々な特徴はまた、別個にまたは任意の副次的組合せにおいて提供することができる。
Claims (10)
- 脱塩化水素化プロセスであって、
反応域において、ＲfＣＨＣｌＣＨ2Ｃｌをオキシフッ化クロム触媒と接触させて、ＲfＣＣｌ＝ＣＨ2を含む生成混合物を生成させるステップを含み、
前記Ｒfは、過フッ化アルキル基であり、
前記オキシフッ化クロム触媒は、式Ｃｒ 2 Ｏ x Ｆ y （式中、ｘ＋ｙ／２＝３）を有する、
ことを特徴とするプロセス。 - 前記脱塩化水素化プロセスはＨＦの存在下で行われることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- 前記反応域におけるＲfＣＨＣｌＣＨ2Ｃｌに対するＨＦのモル比は０．９以下であることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- ＲfはＣＦ3であることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- 前記反応域の温度は２００℃から５００℃であることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- 前記反応域の温度は２７５℃から４５０℃であることを特徴とする請求項５に記載の脱塩化水素化プロセス。
- ＲfＣＣｌ＝ＣＨ2に対する生成物選択性は少なくとも９０モル％であることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- ＲfＣＣｌ＝ＣＨ2に対する脱塩化水素化選択性は少なくとも９５モル％であることを特徴とする請求項１に記載の脱塩化水素化プロセス。
- 前記反応域におけるＲ f ＣＨＣｌＣＨ 2 Ｃｌに対するＨＦのモル比は０．５以下であることを特徴とする請求項３に記載の脱塩化水素化プロセス。
- 前記反応域におけるＲ f ＣＨＣｌＣＨ 2 Ｃｌに対するＨＦのモル比は０．１以下であることを特徴とする請求項９に記載の脱塩化水素化プロセス。
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