KR20180121669A - 히드로클로로플루오로카본의 촉매적 탈염화수소화 - Google Patents
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Abstract
RfCHClCH2Cl 및/또는 RfCCl=CH2 및 화학식 Cr2OxFy로 표시되는 탈염화수소화 촉매를 포함하는 조성물이 개시된다. 상기 조성물에서 x + y/2 = 3이고 Rf는 퍼플루오린화된 알킬 기이다.
Description
본 개시내용은 일반적으로 히드로클로로플루오로올레핀 (HCFO)을 제조하는 히드로클로로플루오로카본 (HCFC)의 선택적 촉매적 탈염화수소화에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 촉매는 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매이다.
낮은 오존 파괴 지수 및 낮은 지구 온난화 지수를 갖는 히드로클로로플루오로올레핀 (HCFO)은 포화된 CFC (클로로플루오로카본) 및 HCFC (히드로클로로플루오로카본)를 대체하는 후보군으로서 간주된다. HCFO는 냉매, 용매, 발포제, 청정제, 에어로졸 분사제, 유전체, 소화기 및 동력 사이클 작동액으로서의 그의 용도를 비롯하여, 광범위한 적용분야에서 이용가능하다. 예를 들어, HCFO-1233xf (CF3CCl=CH2)는 발포제, 소화기, 냉매 등으로서 사용가능하다. HCFO-1233xf는 또한 오존 파괴 지수가 0이고 낮은 지구 온난화 지수를 갖는 냉매인 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜 (HFO-1234yf)의 제조에서 중간체이다.
본 개시내용은 RfCHClCH2Cl 및 화학식 Cr2OxFy로 표시되는 탈염화수소화 촉매를 포함하는 조성물을 제공한다. 상기 조성물에서 x + y/2 = 3이고 Rf는 퍼플루오린화된 알킬 기이다.
상기의 개괄적인 설명 및 하기의 상세한 설명은 단지 예시적이며 설명하기 위한 것이고, 첨부된 특허청구범위에서 정의된 본 발명을 제한하지 않는다. 하나 이상의 실시양태의 기타 특징 및 이점은 하기 상세한 설명 및 특허청구범위로부터 자명할 것이다.
본원에서 사용된 용어 "포함한다", "포함하는", "포함된다", "비롯한", "갖는다", "갖는" 또는 이들의 기타 파생어는 비제한적 포함을 다루고자 한다. 예를 들어, 나열된 요소를 포함하는 공정, 방법, 물품, 또는 장치는 반드시 그러한 요소로만 제한되는 것이 아니라, 명시적으로 나열되지 않았거나 그러한 공정, 방법, 물품, 또는 장치에 내재적인 다른 요소를 포함할 수 있다. 또한, 명시적으로 그 반대로 서술하지 않는 한, "또는"은 포괄적인 "또는"을 나타내며, 배타적인 "또는"을 나타내는 것이 아니다. 예를 들어, 조건 A 또는 B는 다음 중 어느 하나가 충족시킨다: A가 참이고 (또는 존재하고) B가 거짓이고 (또는 존재하지 않고), A가 거짓이고 (또는 존재하지 않고) B가 참이고 (또는 존재하고), 또한 A와 B가 둘다 참이다 (또는 존재한다).
또한, "하나의" 또는 "한"이 본원에 기재된 요소 및 구성요소를 기재하기 위해 사용된다. 이는 단지 편의를 위한 것이고 본 발명의 범주에 관한 일반적인 의미를 제공하기 위한 것이다. 이러한 기재는 하나 또는 하나 이상을 포함하는 것으로 해석되어야 하고, 단수형은 또한, 그것이 다르게 의미함이 명백하지 않는 한, 복수형도 포함한다.
달리 정의하지 않는 한, 본원에서 사용된 모든 기술 용어 및 과학 용어는 본 발명이 속하는 당업자가 일반적으로 이해하고 있는 것과 동일한 의미를 갖는다. 본원에 기재된 것과 유사하거나 그와 대등한 방법 및 물질이 본 발명의 실시양태의 실시 또는 시험에서 사용될 수 있지만, 적합한 방법 및 물질이 하기에 기재되어 있다. 본원에서 언급된 모든 공보, 특허 출원, 특허 및 기타 참고문헌은, 특정 구절이 인용되지 않는 한, 그 전문이 참고로 포함된다. 상충되는 경우에는, 정의를 비롯하여 본 명세서가 우선할 것이다. 또한, 물질, 방법 및 실시예는 단지 설명하기 위한 것이며 제한하려는 것이 아니다.
양, 농도, 또는 기타 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상위값 및/또는 바람직한 하위값의 나열로서 주어진 경우에, 이는 임의의 범위 상한값 또는 바람직한 상위값과 임의의 범위 하한값 또는 바람직한 하위값이 짝을 이루어 형성되는 모든 범위가, 이러한 범위가 별도로 기재되었는지의 여부와 상관없이 구체적으로 기재된 것으로 이해되어야 한다. 수치값의 범위가 본원에서 언급된 경우에, 달리 서술하지 않는 한, 그 범위는 그의 종점, 및 그 범위 내의 모든 정수 및 분수를 포함시키고자 한다.
본원에서 사용된 용어 "탈염화수소화"는 분자 내의 인접한 탄소 상에 있는 수소 및 염소가 제거되는 공정을 의미한다.
본원에서 사용된 용어 "히드로클로로플루오로올레핀"은 수소, 탄소, 플루오린, 염소, 및 하나 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 분자를 의미한다. 본 개시내용에서 히드로클로로플루오로올레핀의 예에는 HCFO-1233xf가 포함된다.
본원에서 사용된 용어 "알킬"은, 단독으로 또는 "퍼플루오린화된 알킬 기"와 같은 합성어에서, 시클릭 또는 비-시클릭 및 직쇄형 또는 분지형 알킬 기, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 또는 이들의 상이한 이성질체를 포함한다.
본원에서 사용된 용어 "퍼플루오린화된 알킬 기"는 탄소 원자 상의 모든 수소가 플루오린으로 치환된 알킬 기를 의미한다. 퍼플루오린화된 알킬 기의 예에는 -CF3 및 -CF2CF3가 포함된다.
용어 "크로뮴 옥시플루오라이드 촉매"는 화학식 Cr2OxFy로 표시되는 크로뮴 옥시플루오라이드를 의미하기 위한 것이고, 여기서 x + y/2 = 3이다.
용어 "무정형"이란 해당 고체의 X선 회절 패턴에서 실질적인 피크가 없다는 것을 의미하기 위한 것이다.
본원에서 사용된 용어 "RfCCl=CH2에 대한 생성물 선택성"이란 수득된 모든 생성물의 총 몰량에 대한 공정에서 수득된 RfCCl=CH2의 몰%를 의미한다.
본원에서 사용된 용어 "RfCCl=CH2에 대한 탈염화수소화 선택성"이란 RfCHClCH2Cl의 탈염화수소화 반응에서 수득된 RfCCl=CH2 및 RfCH=CHCl의 총 몰량을 기준으로 한 RfCCl=CH2의 몰%를 의미한다.
본원에서 사용된 용어 "승온"이란 실온보다 높은 온도를 의미한다.
RfCHClCH2Cl을 반응 구역에서 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매와 접촉시켜 RfCCl=CH2를 포함하는 생성물 혼합물을 생성하는 것을 포함하고, 여기서 Rf는 퍼플루오린화된 알킬 기인 탈염화수소화 방법이 기재되어 있다.
본 발명의 일부 실시양태에서, Rf는 -CF3 또는 -CF2CF3이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, RfCHClCH2Cl은 CF3CHClCH2Cl (HCFC-243db)이고, RfCCl=CH2는 CF3CCl=CH2 (HCFO-1233xf)이다.
본 개시내용의 일부 히드로클로로플루오로올레핀, 예를 들어 CF3CH=CHCl (HCFO-1233zd)은 상이한 배위 이성질체 또는 입체이성질체로서 존재한다. 특정 이성질체가 지정되지 않은 경우에, 본 개시내용은 모든 단일 배위 이성질체, 단일 입체이성질체, 또는 이들의 임의의 조합물을 포함시키고자 한다. 예를 들어, HCFO-1233zd는 E-이성질체, Z-이성질체 또는 이들 두 이성질체의 임의의 비율의 임의의 조합물 또는 혼합물을 나타내려는 것이다.
본 개시내용에서 탈염화수소화 방법을 위한 출발 물질, 즉 RfCHClCH2Cl은 당업계에 공지된 방법으로 합성할 수 있다. 예를 들어, HCFC-243db는 CF3CH=CH2의 염소화에 의해 또는 CF2=CHCl의 CFClH2와의 부가 반응에 의해 제조할 수 있다.
탈염화수소화 방법은 연속식, 반연속식 또는 회분식 작업을 포함하는 널리 공지된 화학 공학 기술을 사용하여 액체상 또는 기체상에서 수행할 수 있다. 반응 구역에서의 온도는 전형적으로 약 200℃ 내지 약 500℃이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서의 온도는 약 275℃ 내지 약 450℃이다. 탈염화수소화 방법은 대기압보다 높은 압력에서, 대기압에서 또는 대기압보다 낮은 압력에서 수행할 수 있다. 출발 물질 RfCHClCH2Cl과 촉매의 접촉 시간은 크게 다양할 수 있다. 전형적으로, 접촉 시간은 약 5초 내지 약 150초이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 접촉 시간은 약 10초 내지 약 100초이다.
본 발명의 접촉 단계는 당업계에 공지된 방법으로 수행할 수 있다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 출발 물질 RfCHClCH2Cl은, 임의로 불활성 기체 및/또는 HF와 함께 촉매를 함유하는 반응기에 공급된다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 출발 물질 RfCHClCH2Cl은, 임의로 불활성 기체 및/또는 HF와 함께 반응기에서 촉매층을 통해 통과한다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 출발 물질 RfCHClCH2Cl은, 임의로 불활성 기체 및/또는 HF와 함께 교반 또는 흔들기에 의해 반응기에서 촉매와 혼합될 수 있다.
임의로, 탈염화수소화 방법은 HF의 존재 하에 수행할 수 있다. 본 발명의 일부 실시양태에서, HF는 출발 물질과 함께 반응기에 공동-공급된다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서 HF 대 출발 물질 RfCHClCH2Cl의 몰비는 약 0.1:1 내지 약 50:1이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서 HF 대 출발 물질 RfCHClCH2Cl의 몰비는 약 5:1 내지 약 25:1이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서 출발 물질 RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비는 0.9 이하이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서 출발 물질 RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비는 0.5 이하이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 반응 구역에서 출발 물질 RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비는 0.1 이하이다.
임의로, 탈염화수소화 방법은 또한 불활성 기체, 예컨대 He, Ar, 또는 N2의 존재 하에 수행할 수 있다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 불활성 기체는 출발 물질과 함께 반응기에 공동-공급된다.
크로뮴 옥시플루오라이드 촉매가 본 개시내용의 선택적 탈염화수소화 방법에 적합하다는 것이 실험을 통해 밝혀졌다.
크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 Cr2O3를 HF, CCl3F, COF2 또는 히드로플루오로카본으로 처리함으로써 제조할 수 있다. 본 발명의 한 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 무수 Cr2O3를 플루오린화제, 예컨대 CCl3F 또는 HF로 처리함으로써 제조한다. 상기 처리는, 예컨대 실시예 1에 기재된 바와 같이 Cr2O3를 적합한 용기 (후속되는 선택적 촉매적 탈염화수소화 반응을 수행하기 위해 사용되는 반응기일 수 있음)에서 넣고, 그 후에 HF를 무수 Cr2O3 상으로 적합한 시간 동안 (예를 들어, 약 15 내지 약 800분) 적합한 온도에서 (예를 들어, 약 200℃ 내지 약 450℃) 통과시킴으로써 달성할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 Cr2O3를 승온에서 히드로플루오로카본으로 처리함으로써 제조한다.
Cr2O3는 미국 뉴저지주 08830-0770 이젤린 미들섹스 에섹스 턴파이크 25에 소재하는 바스프 카탈리스트 엘엘씨(BASF Catalysts LLC)로부터 시판되고 있다.
Cr2O3는 또한 미국 특허 3,258,500에 개시된 바와 같이, 수중의 산화크로뮴 (VI)을 적합한 환원제, 에컨대 에탄올로 환원시킴으로써 제조할 수 있다. 문헌 ["Inorganic Synthesis", Vol. II, pp. 190-193, 1946, McGraw-Hill Book Co., New York]에서 루트러프(Ruthruff)에 의해, 또한 미국 특허 2,271,356에서 투르케비히(Turkevich) 및 루트러프에 의해 개시된 방식으로 삼산화크로뮴 (CrO3)을 환원시키고 환원된 생성물을 탈수시킴으로써 수득되는 소위 겔형 활성 Cr2O3가 중요하다. 본 발명의 한 실시양태에서, Cr2O3는 삼산화크로뮴을 물에 용해시키고, 에탄올 또는 다른 적합한 환원제를 상기 용액에 서서히 첨가하고, Cr2O3 겔이 침전될 때까지 환류 조건 하에 가열하고, 겔을 반응 혼합물로부터 분리하고, 이것을 건조시킨 후에, 약 400℃ 내지 약 600℃의 온도에서 불활성 분위기 하에 물이 제거되어 무수 생성물이 수득될 때까지 가열함으로써 생성물을 탈수시키고 활성화함으로써 제조한다.
Cr2O3는 또한 미국 특허 5,036,036에 개시된 바와 같이, 암모늄 디크로메이트 ((NH4)2Cr2O7)의 열분해에 의해 제조할 수 있다. 암모늄 디크로메이트를 열분해하고 생성된 Cr2O3를 처리하여 (예를 들어, 탈이온수 세척) 알칼리 금속 함량을 100 ppm 이하로 감소시킴으로서 제조되는 Cr2O3가 중요하다. 먼저 60 내지 2000 ppm의 알칼리 금속을 함유하는 암모늄 디크로메이트를 처리하여 그의 알칼리 금속 함량을 60 ppm 미만으로 감소시킨 후에, 알칼리 금속 함량이 감소한 생성된 암모늄 디크로메이트를 열분해하여 100 ppm 이하의 알칼리 금속 함량을 함유하는 Cr2O3를 형성함으로써 제조되는 Cr2O3가 또한 중요하다.
Cr2O3는 또한 미국 특허 4,828,818에 개시된 바와 같이, 산화크로뮴 (VI)을 환원 용매, 예컨대 메탄올과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
Cr2O3 중의 칼륨 및 다른 알칼리 금속의 양은 미국 특허 5,036,036에 개시된 바와 같이, 물 세척 단계에 의해 감소할 수 있다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 물 세척 단계는 Cr2O3 5 내지 15 wt% 및 탈이온수를 함유하는 슬러리를 형성하는 것을 포함한다. 상기 물 슬러리의 교반을 35℃ 내지 65℃에서 1시간 이상 동안, 또한 일부 실시양태에서는 2시간 이상 동안 수행할 수 있다. 그 후에, 고체를, 적합하게는 플레이트 및 프레임 필터 프레스에서의 여과에 의해 회수하였다. 필터 케이크를 알칼리 금속 함량에 대하여 분석할 수 있다. 세척 단계를 반복하여 목적하는 수준의 알칼리 금속 함량을 수득할 수 있다.
본 발명의 한 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 10 m2/g 내지 약 800 m2/g의 표면적을 갖는다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 20 m2/g 내지 약 400 m2/g의 표면적을 갖는다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 40 m2/g 내지 약 300 m2/g의 표면적을 갖는다.
본 발명의 한 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 2000 ppm 이하의 알칼리 금속 함량을 함유한다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 300 ppm 이하의 알칼리 금속 함량을 함유한다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 약 100 ppm 이하의 알칼리 금속 함량을 함유한다.
본 발명의 한 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 무정형이다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매는 결정질 α-Cr2O3로부터 제조한다.
촉매의 형태는 중요하지 않으며, 펠릿, 분말 또는 과립으로서 사용가능하다.
반응 구역으로부터의 유출물은 전형적으로 잔여 출발 물질 RfCHClCH2Cl, 목적하는 히드로클로로플루오로올레핀 생성물 RfCCl=CH2, 탈염화수소화 부산물 RfCH=CHCl 및 일부 다른 부산물을 포함한다. 목적하는 생성물 RfCCl=CH2는 통상적인 방법으로 생성물 혼합물로부터 회수할 수 있다. 본 발명의 일부 실시양태에서, 생성물 RfCCl=CH2는 증류에 의해 정제 또는 회수할 수 있다.
본 개시내용의 촉매적 탈염화수소화 방법이 높은 선택성으로 목적하는 생성물을 생성한다는 것이 실험을 통해 밝혀졌다. 본 발명의 일부 실시양태에서, RfCCl=CH2에 대한 생성물 선택성은 90 몰% 이상이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, RfCCl=CH2에 대한 생성물 선택성은 95 몰% 이상이다.
또한, 본 개시내용의 탈염화수소화 반응이 매우 선택적이라는 것이 실험을 통해 밝혀졌다. RfCHClCH2Cl의 탈염화수소화 반응은 두 이성질체 RfCCl=CH2 및 RfCH=CHCl을 생성할 수 있다. 본 개시내용의 탈염화수소화 방법이 RfCH=CHCl보다 RfCCl=CH2를 실질적으로 더 많이 생성한다는 것이 밝혀졌다. 본 발명의 일부 실시양태에서, RfCCl=CH2에 대한 탈염화수소화 선택성은 95 몰% 이상이다. 본 발명의 일부 실시양태에서, RfCCl=CH2에 대한 탈염화수소화 선택성은 99 몰% 이상이다.
본 발명의 실시양태의 방법을 적용하는 데에 있어서 사용되는 반응기, 증류 컬럼, 및 이들의 연관 공급 라인, 유출 라인, 및 연관 유닛은 내부식성 물질로 구성될 수 있다. 전형적인 구성 물질에는 테플론(Teflon)™ 및 유리가 포함된다. 전형적인 구성 물질에는 또한 스테인리스강, 특히 오스테나이트계(austenitic) 스테인리스강, 널리 공지된 고급 니켈 합금, 예컨대 모넬(Monel)™ 니켈-구리 합금, 하스텔로이(Hastelloy)™ 니켈-기재 합금, 및 인코넬(Inconel)™ 니켈-크로뮴 합금, 및 구리-클래드강이 포함된다.
다수의 측면 및 실시양태가 상기에 기재되었고 이들은 단지 예시적인 것이며 제한하는 것이 아니다. 본 명세서를 정독한 후에, 당업자라면 기타 측면 및 실시양태가 본 발명의 범주로부터 이탈함이 없이 가능하다는 것을 알 것이다.
실시예
본원에 기재된 개념은 하기 실시예에서 더욱 상세히 설명될 것이고, 이들 실시예는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범주를 제한하지 않는다.
실시예 1
실시예 1은 HCFC-243db와 크로뮴 옥시플루오라이드 촉매의 접촉이 HCFO-1233xf를 생성한다는 것을 입증한다.
크로뮴 옥시플루오라이드 촉매의 제조
α-산화크로뮴 6 cc (cm3) (8.97 gm)를 12/20 메시로 분쇄하여 체질하고, 인코넬™ 반응기 튜브 (0.43 인치의 ID)에 충전하여 촉매층을 형성하고, 하기 절차에 따라 HF로 처리하였다. α-산화크로뮴을 37.5 sccm (standard cubic centimeters per minute)의 질소 유동 하에 2시간 동안 400℃로 가열하였다. 동일한 유량의 질소에서, 80분 동안 온도를 300℃로 낮췄다. 300℃에서, 질소 유동을 26.5 sccm으로 낮추고 HF 유동을 9 sccm으로 개시하였다. 이들 유동을 유지하면서, 온도를 80분 동안 325℃로, 80분 동안 350℃로, 200분 동안 375℃로, 40분 동안 400℃로, 또한 55분 동안 425℃로 상승시켰다. 온도를 425℃에서 유지하면서, 25분 동안 질소 유동을 18.8 sccm으로 낮추고 HF는 15 sccm으로 상승시켰다. 그 후에, 30분 동안 질소 유동을 11.3 sccm으로 낮추고, HF 유동을 21 sccm으로 상승시켰다. 이어서, 30분 동안 질소 유동을 3.8 sccm으로 낮추고, HF 유동을 27 sccm으로 상승시켰다. 그 후에, 질소 유동을 중단하고, HF 유동을 160분 동안 30 sccm으로 상승시켰다. 이후에, HF 유동을 중단하고, 반응기 튜브 온도를 주위 온도로 냉각시키면서 질소 유동을 20 sccm으로 상승시켰다.
탈염화수소화 반응
반응기 튜브 온도를 이어서 목적하는 온도로 상승시켰고, HCFC-243db를 하기 표 1에 나타나 있는 바와 같이 N2 및 임의로 HF와 함께 반응기 튜브에 공급하였다. 생성물을 GC-MS로 분석하여, 몰%로서 표로 만들었다. 나머지 백분율은 미확인 부산물이었다.
<표 1>
상기 개괄적인 설명 또는 실시예에서 기재된 작업이 모두 필요한 것은 아니며, 특정 작업 중 일부는 필요하지 않을 수 있고, 또한 기재된 작업 이외에 하나 이상의 추가 작업을 수행할 수 있다는 점에 주목한다. 또한, 작업이 나열된 순서가 반드시 그러한 작업이 수행되는 순서는 아니다.
상기 명세서에서, 특정 실시양태를 참조로 하여 개념이 설명되었다. 그러나, 당업자라면 다양한 수정 및 변화가 하기 특허청구범위에 상술된 본 발명의 범주로부터 이탈함이 없이 있을 수 있다는 것을 알 것이다. 따라서, 본 명세서는 제한적인 의미보다는 설명적인 의미로 간주되어야 하고, 모든 그러한 수정은 본 발명의 범주 내에 포함시키고자 한다.
이점, 기타 장점 및 문제의 해결책이 특정 실시양태와 관련하여 상기에 설명되었다. 그러나, 이점, 장점, 문제 해결책, 및 이점, 장점 또는 해결책이 나타나거나 더욱 분명해지게 할 수 있는 임의의 특징(들)은 임의의 또는 모든 청구항의 중요하거나, 필요하거나, 또는 필수적인 특징으로서 해석되어서는 안된다.
명확성을 위해 독립된 실시양태 상황에서 본원에 기재된 특정한 특징이 또한 조합되어 단일 실시양태로 제공될 수 있다는 것을 알아야 한다. 반대로, 간결성을 위해 단일 실시양태 상황에서 기재된 다양한 특징이 또한 독립적으로 또는 임의로 재조합되어 제공될 수 있다.
Claims (20)
- RfCHClCH2Cl 및 화학식 Cr2OxFy로 표시되는 탈염화수소화 촉매를 포함하고, 여기서 x + y/2 = 3이고 Rf는 퍼플루오린화된 알킬 기인 조성물.
- 제1항에 있어서, Rf가 CF3 또는 CF2CF3인 조성물.
- 제1항에 있어서, HF가 추가로 존재하는 조성물.
- 제3항에 있어서, HF 대 RfCHClCH2Cl의 몰비가 약 0.1:1 내지 약 50:1인 조성물.
- 제4항에 있어서, HF 대 RfCHClCH2Cl의 몰비가 약 5:1 내지 약 25:1인 조성물.
- 제4항에 있어서, RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비가 0.9 이하인 조성물.
- 제4항에 있어서, RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비가 0.5 이하인 조성물.
- 제4항에 있어서, RfCHClCH2Cl에 대한 HF의 몰비가 0.1 이하인 조성물.
- 제1항에 있어서, 불활성 기체가 추가로 존재하는 조성물.
- 제3항에 있어서, 불활성 기체가 추가로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, RfCCl=CH2가 추가로 존재하는 조성물.
- 제11항에 있어서, RfCH=CHCl이 추가로 존재하는 조성물.
- 제4항에 있어서, Rf가 CF3 또는 CF2CF3인 조성물.
- 제11항에 있어서, Rf가 CF3 또는 CF2CF3인 조성물.
- RfCCl=CH2 및 화학식 Cr2OxFy로 표시되는 탈염화수소화 촉매를 포함하고, 여기서 x + y/2 = 3이고 Rf는 퍼플루오린화된 알킬 기인 조성물.
- 제15항에 있어서, Rf가 CF3 또는 CF2CF3인 조성물.
- 2-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜 78 몰% 내지 95 몰%; 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜 0.6 몰% 내지 7.3 몰%; 및 1-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜 0.9 몰% 내지 4.2 몰%를 포함하는 조성물.
- 제17항에 있어서, 2-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜이 80 몰% 내지 95 몰%의 양으로 존재하고; 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜이 1.9 몰% 내지 6.8 몰%의 양으로 존재하고; 1-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜이 0.9 몰% 내지 3.2 몰%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제17항에 있어서, 2-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜이 91 몰% 내지 95 몰%의 양으로 존재하고; 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜이 1.9 몰% 내지 4.2 몰%의 양으로 존재하고; 1-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜이 0.9 몰% 내지 1.9 몰%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제11항에 있어서, 2-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜이 추가로 존재하는 조성물.
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