JP5922796B2 - シール装置、および、回転機械 - Google Patents
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Description
本発明は、シール装置、および、回転機械に関する。
タービン、圧縮機、ポンプなどの回転機械には、差圧のある静止側と回転側との隙間からの流体の漏洩量を低減するシール装置が通常設けられている。
上記シール装置としては、非接触型で信頼性の高いシール装置が用いられる場合が多い。代表的な非接触型のシール装置(以下、単に非接触型シールと称する)としては、ラビリンス形状のシール装置が知られている。しかし、このような非接触型シールを備えた回転機械にあっては、ロータの回転による流体の旋回流(以下、単にスワールと称す)によって生じる周方向の非対称圧力分布(以下、圧力分布と称す)のため、ロータに自励もしくは強制振動が生じる場合がある。
そこで、非接触型シールであるラビリンス形状のシール装置の入口に、軸線方向に向く変向板を設けることで、シール装置に流入するスワールを打ち消す技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、シール内の周方向の圧力分布を緩和するために、シールリングの外周に環状のチャンバーを設け、そのチャンバーと、静止体と回転体との隙間(以下、シール隙間と称す)とを周方向に間隔をあけて連通する空隙部を設ける技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
上記シール装置としては、非接触型で信頼性の高いシール装置が用いられる場合が多い。代表的な非接触型のシール装置(以下、単に非接触型シールと称する)としては、ラビリンス形状のシール装置が知られている。しかし、このような非接触型シールを備えた回転機械にあっては、ロータの回転による流体の旋回流(以下、単にスワールと称す)によって生じる周方向の非対称圧力分布(以下、圧力分布と称す)のため、ロータに自励もしくは強制振動が生じる場合がある。
そこで、非接触型シールであるラビリンス形状のシール装置の入口に、軸線方向に向く変向板を設けることで、シール装置に流入するスワールを打ち消す技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、シール内の周方向の圧力分布を緩和するために、シールリングの外周に環状のチャンバーを設け、そのチャンバーと、静止体と回転体との隙間(以下、シール隙間と称す)とを周方向に間隔をあけて連通する空隙部を設ける技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
ところで、ラビリンス形状のシール装置以外の非接触型シールとしては、回転機械内で生じる不安定化力を上回る減衰力を付与する観点から、減衰(ダンパー)型のシール装置(以下、単に減衰シールと称する)が用いられる場合がある。減衰シールとしては、ポケット形状のシール装置、ハニカム形状のシール装置、ホールパターン形状のシール装置などがある。これら減衰シールは、シール回転体とシール静止体とのシール隙間を周方向および軸線方向に仕切ることによって、シール装置内のスワールを低減すると共に、高い減衰力を得ることができる。しかし、使用条件によっては、低減された上記スワールによって周方向に非対称な圧力分布が生じ、十分な減衰力を得られなかったり、ロータのジャーナル軸受の負荷を大きく変えてしまいロータの振動耐力を低下させたりする。そのため、シール隙間を広く設定し、これらの悪影響を低減することが必要となる。しかし、シール隙間を広く設定した場合、減衰シールの漏洩量が増大して回転機械の性能を低下させてしまうという課題がある。
また、減衰シールに流れ込む流体自体のスワールが大きいと、減衰シールの減衰力が低下して回転機械の動作が不安定な状況に陥る場合がある。この場合、減衰シールの上流のスワールを低減するためには、一般に、スワールを堰きとめるフィンを設置したり、シール圧より高圧の流体を径方向から噴入したりする。しかしながら、これらの手法では、スワールの低減が十分でなかったり、シール差圧が大きくなりシール漏洩量が増大したりするという課題が生じる。
また、減衰シールに流れ込む流体自体のスワールが大きいと、減衰シールの減衰力が低下して回転機械の動作が不安定な状況に陥る場合がある。この場合、減衰シールの上流のスワールを低減するためには、一般に、スワールを堰きとめるフィンを設置したり、シール圧より高圧の流体を径方向から噴入したりする。しかしながら、これらの手法では、スワールの低減が十分でなかったり、シール差圧が大きくなりシール漏洩量が増大したりするという課題が生じる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、漏洩量の低減、軸振動の要因となるシール隙間を流れる流体からの力の低減および軸振動を抑える減衰の増加を図ることが可能となるシール装置、および、このシール装置を備える回転機械を提供することを目的とする。
本発明に係るシール装置の第一態様は、シール回転体と、該シール回転体の外周面に対して径方向に隙間を有して配されるシール静止体とを備え、これらシール回転体とシール静止体との間の流体の流れを抑制するシール装置であって、前記シール静止体は、前記シール回転体の外周面と対向する内側面に複数の穴部を有するとともに、前記内側面の周方向に溝部を備え、前記シール回転体は、前記溝部へ向かって突出する第一凸部を備え、前記溝部は、軸線方向両側の壁面のうち少なくとも一方に、流体の流れを乱す凹凸部を備え、前記凹凸部は、前記シール回転体の軸線を中心とした径方向から見て、断面円弧状に凹んだ凹部を備える。
このように構成することで、シール静止体とシール回転体との隙間を高圧側から低圧側に向かって流体が流れるときに、第一凸部および溝部によって流体の流れが大きく乱される。この乱れは、流体の流れに対し大きな抵抗となるため、高圧側から低圧側への流体の漏洩量は、溝部や第一凸部が無いシールの漏洩量よりも少なくなり、減衰も増大する。また、シール回転体側の第一凸部とシール静止体側の溝部による流れの乱れによって、シール静止体の複数の穴部におけるスワールを抑制する効果を増大することもできる。そのため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一が低減し、この圧力分布による軸振動量を低減することができる。
さらに、溝部の壁面に形成された凹凸部によって、流体の流れを乱すと共に流体のスワールの一部を堰き止めることができるため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一を更に低減することができる。
さらに、穴部を横断するように溝を形成することで、凹凸部を形成することができるため、溝の壁面に切削等により凹凸を形成する場合と比較して、容易に凹凸部を形成することができる。
このように構成することで、シール静止体とシール回転体との隙間を高圧側から低圧側に向かって流体が流れるときに、第一凸部および溝部によって流体の流れが大きく乱される。この乱れは、流体の流れに対し大きな抵抗となるため、高圧側から低圧側への流体の漏洩量は、溝部や第一凸部が無いシールの漏洩量よりも少なくなり、減衰も増大する。また、シール回転体側の第一凸部とシール静止体側の溝部による流れの乱れによって、シール静止体の複数の穴部におけるスワールを抑制する効果を増大することもできる。そのため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一が低減し、この圧力分布による軸振動量を低減することができる。
さらに、溝部の壁面に形成された凹凸部によって、流体の流れを乱すと共に流体のスワールの一部を堰き止めることができるため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一を更に低減することができる。
さらに、穴部を横断するように溝を形成することで、凹凸部を形成することができるため、溝の壁面に切削等により凹凸を形成する場合と比較して、容易に凹凸部を形成することができる。
本発明に係るシール装置の第二態様では、上記第一態様のシール装置において、前記シール回転体の外周面と前記シール静止体との隙間に流入する流体に対して、当該流体に含まれるスワールに抗する方向から流体を吹き付ける旋回流防止機構を備えていてもよい。
シール回転体の外周面とシール静止体との隙間に流入する流体に対してスワールに抗する方向から流体を吹き付けることで、シール静止体とシール回転体との隙間に流入する流体のスワールを打ち消すことができる。
シール回転体の外周面とシール静止体との隙間に流入する流体に対してスワールに抗する方向から流体を吹き付けることで、シール静止体とシール回転体との隙間に流入する流体のスワールを打ち消すことができる。
本発明に係るシール装置の第三態様では、上記第二態様の旋回流防止機構が、外周側に向かって延びるフィン部と、該フィン部の外周部から前記隙間に通じる通路を備えていてもよい。
シール回転体の近傍のスワールをフィン部によって外周側に導いて減速させることができると共に、通路を介してシール回転体とシール静止体との隙間に流体を導いて、流れを乱し、隙間に流れる流体に含まれるスワール量を低減することができる。
シール回転体の近傍のスワールをフィン部によって外周側に導いて減速させることができると共に、通路を介してシール回転体とシール静止体との隙間に流体を導いて、流れを乱し、隙間に流れる流体に含まれるスワール量を低減することができる。
本発明に係るシール装置の第四態様では、上記第三態様のフィン部が、径方向内側から外側に向かうにつれてロータの回転方向後方から前方に向かうように傾斜するようにしてもよい。
より多くのスワールを傾斜したフィン部によって外周側に導いて減速させることができると共に、通路を介してシール回転体とシール静止体との隙間に流体を導いて、流れを乱し、隙間に流れる流体に含まれるスワール量を低減することができる。
より多くのスワールを傾斜したフィン部によって外周側に導いて減速させることができると共に、通路を介してシール回転体とシール静止体との隙間に流体を導いて、流れを乱し、隙間に流れる流体に含まれるスワール量を低減することができる。
本発明に係るシール装置の第五態様では、上記第三態様又は第四態様の旋回流防止機構が、フィン部の外周部を覆うカバー部を備えてもよい。
カバー部によってフィン部によって導かれた流体の圧力回復により、通路に流れ込む流体量を増加させることができる。
カバー部によってフィン部によって導かれた流体の圧力回復により、通路に流れ込む流体量を増加させることができる。
本発明に係るシール装置の第六態様では、上記第三態様から第五態様の何れか一つの旋回流防止機構が、軸線方向で、前記通路の前記隙間側の開口部と、前記フィン部との間に非接触シールを備えてもいてもよい。
スワールを持った流体がシール装置に多量に流れ込むことを防止し、スワールに抗する方向からの流体が、非接触シールの下流に主に流れ込むようにすることができる。また、非接触シールを設けることで、スワールに抗する流体にシール上流の流体圧よりも高い圧の流体を用いる場合には、スワールに抗する流体が上流に流れるのを制限することができる。
スワールを持った流体がシール装置に多量に流れ込むことを防止し、スワールに抗する方向からの流体が、非接触シールの下流に主に流れ込むようにすることができる。また、非接触シールを設けることで、スワールに抗する流体にシール上流の流体圧よりも高い圧の流体を用いる場合には、スワールに抗する流体が上流に流れるのを制限することができる。
本発明に係るシール装置の第七態様では、第六態様の非接触シールが、前記シール回転体の外周面と対向する内側面に減衰穴部を有していてもよい。
フィン部と通路の隙間側の開口部との間で、高圧側から隙間に流入した流体に含まれるスワールを減衰穴部により低減させることができる。
フィン部と通路の隙間側の開口部との間で、高圧側から隙間に流入した流体に含まれるスワールを減衰穴部により低減させることができる。
本発明に係るシール装置の第八態様では、上記第一態様から第七態様の何れか一つのシール装置において、前記シール回転体の外周面の前記シール静止体よりも高圧側に、流体の流れを前記隙間に流れ込む前に乱す第二凸部を備えていてもよい。
第二凸部で、隙間に流入する流体の流れを乱すことができるため、この流体のスワール量を抑制することができる。また、シール静止体の高圧側に旋回流防止機構を備えている場合には、第二凸部で流れを乱された流体を旋回流防止機構に供給して、この旋回流防止機構により吹き付けられる流体として有効利用することができる。
第二凸部で、隙間に流入する流体の流れを乱すことができるため、この流体のスワール量を抑制することができる。また、シール静止体の高圧側に旋回流防止機構を備えている場合には、第二凸部で流れを乱された流体を旋回流防止機構に供給して、この旋回流防止機構により吹き付けられる流体として有効利用することができる。
本発明に係るシール装置の第九態様は、上記第一態様から第八態様の何れか一つのシール装置における前記シール静止体が、前記穴部に連通し前記穴部よりも流路面積が狭い狭幅通路と、該狭幅通路が複数連通し前記穴部の外周側に配置される環状通路とを備えていてもよい。
スワールによって、シール回転体の周方向に圧力差が生じてしまったとしても、圧力が相対的に高い箇所の狭幅通路から流体が環状通路に流れ込み、圧力が相対的に低い箇所の狭幅通路を介して、圧力が相対的に低い箇所へと流体が流れ出すため、この圧力差を低減できる。その結果、この圧力差で発生する軸振動が低減される。また、これら狭幅通路に流体が出入りするときの抵抗が減衰として作用するので、減衰シール自体の減衰と共に軸振動を低減することができる。
スワールによって、シール回転体の周方向に圧力差が生じてしまったとしても、圧力が相対的に高い箇所の狭幅通路から流体が環状通路に流れ込み、圧力が相対的に低い箇所の狭幅通路を介して、圧力が相対的に低い箇所へと流体が流れ出すため、この圧力差を低減できる。その結果、この圧力差で発生する軸振動が低減される。また、これら狭幅通路に流体が出入りするときの抵抗が減衰として作用するので、減衰シール自体の減衰と共に軸振動を低減することができる。
本発明に係る回転機械は、上記第一態様から第九態様の何れか一つのシール装置を備えている。
流体の漏洩量を低減しつつ軸振動を低減できるため、運転性能を向上することができる。
流体の漏洩量を低減しつつ軸振動を低減できるため、運転性能を向上することができる。
本発明の上記態様に係るシール装置および回転機械によれば、シール隙間を流れる流体の流れを大きく乱すと共にスワール量を低減することで、漏洩量の低減、軸振動の要因となるシール隙間を流れる流体からの力の低減および軸振動を抑える減衰の増加を図ることが可能となる。
以下、本発明の実施形態に係るシール装置および、回転機械について説明する。
図1は、本実施形態の回転機械である遠心圧縮機1を示している。
遠心圧縮機1は、軸線O回りに回転する回転軸2を備えている。回転軸2には、遠心力を利用してプロセスガス(流体)Gを圧縮する複数のインペラ3が取り付けられている。また、遠心圧縮機1は、プロセスガスGを低圧側から高圧側に流す流路4を備えるケーシング5を備えている。
図1は、本実施形態の回転機械である遠心圧縮機1を示している。
遠心圧縮機1は、軸線O回りに回転する回転軸2を備えている。回転軸2には、遠心力を利用してプロセスガス(流体)Gを圧縮する複数のインペラ3が取り付けられている。また、遠心圧縮機1は、プロセスガスGを低圧側から高圧側に流す流路4を備えるケーシング5を備えている。
ケーシング5の軸線O方向の両端部には、軸封装置5a、ジャーナル軸受5b、およびスラスト軸受5cが設けられている。回転軸2の両端部は、ジャーナル軸受5bによって回転可能にケーシング5に支持されている。
本実施形態における遠心圧縮機1のインペラ3は、回転軸2の軸線O方向においてブレードの向きが互いに反対側を向く2組のインペラ群3A,3Bを備えている。インペラ群3A、インペラ群3Bは、回転軸2が回転駆動された場合、それぞれ吸込口5d,5fから排出口5e,5gに向かって、プロセスガスGを流しつつ圧縮する。
すなわち、遠心圧縮機1は、インペラ群3Aにおいて、吸込口5dから吸込まれたプロセスガスGを、流路4に流入させて、インペラ群3Aの1段目から3段目まで流しながら圧縮する。インペラ群3Aの3段目まで流れて圧縮されたプロセスガスGは、排出口5eから排出される。排出口5eから排出されたプロセスガスGは、排出口5eから吸込口5fへとつながる図示しない管路を通って吸込口5fへと送られる。
次いで、遠心圧縮機1は、インペラ群3Bにおいて、吸込口5fから吸込まれたプロセスガスGを、流路4に流入させて、インペラ群3Bの1段目から最終段目まで流しながら更に圧縮する。インペラ群3Bの最終段目まで流れて圧縮されたプロセスガスGは、排出口5gから排出される。
上述したインペラ群3Bの排出口5g近傍のプロセスガスGは、インペラ群3Aの排出口5e近傍のプロセスガスGと比較して、インペラ群3Bにより圧縮が行われた分だけ高圧となっている。つまり、軸線O方向で排出口5e側の回転軸2周りと、軸線O方向で排出口5g側の回転軸2周りとに存在する各プロセスガスGには圧力差が生じる。そのため、インペラ群3A,3Bの各インペラ3の最終段間には、回転軸2の回転を許容しつつ、回転軸2の軸線O方向における高圧側と低圧側とを区画してプロセスガスGの漏洩量を低減するシール装置20が設けられている。
図2は、シール装置20を構成するシール静止体30の部分断面を示す斜視図である。また、図3は、シール装置20上部の子午線断面図である。
図3に示すように、回転軸2には、回転軸2の外周面を覆うように略円環状のスリーブであるシール回転体40が固定されている。
図3に示すように、回転軸2には、回転軸2の外周面を覆うように略円環状のスリーブであるシール回転体40が固定されている。
一方で、回転軸2の外周面2aと対向するケーシング5の内周面5hには、シール回転体40の外周面40aと径方向に隙間を有して、略円環状のシール静止体30が取り付けられている。シール静止体30は、例えば、その係合凸部30cが、ケーシング5や仕切板(図示せず)等の内周面に形成された係合凹部5iに係合するなどして固定されている。
図2、図3に示すように、シール静止体30は、いわゆるホールパターン形状の減衰シールリングであって、その内周面30aには、径方向内側を向いて円形に開口する複数の穴部31が形成されている。これら穴部31の開口部31aは、互いに所定間隔をあけて略千鳥状に配置されている。ここで、シール静止体30の内周面30aにおける穴部31の基本配列を図4に示す。この図4において、左右方向がシール静止体30の軸線O方向に相当し、上下方向がシール静止体30の周方向に相当する。なお、図4においては、以下に述べる溝部32が形成される位置を一点鎖線で示している。
図2、図3、図5、図6に示すように、シール静止体30の内周面30aには、軸線O方向に所定幅を有した環状の溝部32が全周に形成されている。これら溝部32は、内周面30aから径方向外側に向かって凹設され、それぞれシール静止体30に形成された穴部31を周方向に横断するように形成される。これにより、溝部32の、軸線O方向で向かい合う2つの側壁32aには、軸線O方向の両外側に向かって断面円弧状に凹んだ部分が断続的に形成され、これにより側壁32aに凹凸部32bが形成される。図6においては、左右方向がシール静止体30の軸線O方向であり、上下方向がシール静止体30の周方向である。
ここで、図5、図6に示すシール静止体30の場合、周方向で隣り合う穴部31の各軸線O方向の中心を通るような幅寸法で溝部32が形成される一例について説明した。しかし、溝部32の幅寸法は、後述するシール回転体の第一凸部34と溝部32の側壁32aが接触しないように、回転軸2の軸線O方向の許容移動量よりも大きい幅寸法であり、且つ、側壁32aに凹凸部32bが形成されるような幅寸法であればよい。また、側壁32aに凹凸部32bが形成されることについて述べたが、溝部32の幅内に穴部31が配置されている場合には、溝部32の底面にも穴部31の開口部31aが形成される。
シール静止体30の内周面30aに対向するシール回転体40の外周面40aには、上記シール静止体30の溝部32に向かって突出するように、径方向外側全周に第一凸部34が形成されている。この第一凸部34の幅寸法は、強度上必要十分なものであればよく、その高さもシール隙間を漏洩する流体の流れを乱すに必要な高さ(例えば、シール隙間S程度もしくは多少高い程度)であれば良い。
図2、図3に示すように、シール静止体30には、軸線O方向に配列される穴部31のうち、所定数毎の穴部31に、狭幅通路35が接続されている。狭幅通路35は、穴部31の底部31bから径方向外側に延びると共に、穴部31の周方向断面よりも小さい周方向断面(換言すれば、流路面積)となるように形成されている。ここで、上記狭幅通路35の周方向断面は、使用条件を考慮して適切な大きさとされる。さらに、狭幅通路35の径方向外側(外周側)には、シール静止体30の全周に亘り環状通路36が形成されている。これら環状通路36には、周方向に並ぶ複数の狭幅通路35がそれぞれ径方向内側から接続されている。このように狭幅通路35と環状通路36とが接続されることで、穴部31と環状通路36との内部流路が狭幅通路35を介して連通されている。
ここで、狭幅通路35および環状通路36は、例えば、環状通路36、狭幅通路35、および、穴部31をそれぞれ別部品で形成して、各部品同士を結合することで形成できる。
図3、図7に示すように、シール静止体30には、その高圧側に旋回流防止機構37が設けられている。この旋回流防止機構37は、回転軸に取り付けられたシール回転体40の外周面40aとシール静止体30の内周面30aとの間のシール隙間Sに流入するプロセスガスGに対してスワール(旋回流)に抗する方向からプロセスガスGを吹き付ける。ここで、スワールに抗する方向とは、径方向と、回転方向とは逆方向となる周方向との間の適宜の方向である。
旋回流防止機構37は、略長方形板状の複数のフィン部38を備えている。これらフィン部38は、その短辺38aが軸線O方向を向くとともに、長辺38bが径方向よりもプロセスガスGの旋回方向に旋回流をすくいあげるよう傾斜して設けられている。さらに、旋回流防止機構37は、フィン部38よりも低圧側の径方向外側部(外周部)に、開口部39aを備えている。これら開口部39aには、軸線O方向に向かった後に径方向内側に向かって延びる吹出し通路39bの径方向外側の端部が接続されている。これら吹出し通路39bの径方向内側の端部は、シール静止体30の内周面30aとシール回転体40の外周面40aとの間のシール隙間Sに臨むと共にスワールに抗する方向を向く開口部39cに接続される。
回転軸2に取り付けられたシール回転体40の外周面40aには、軸線O方向でシール静止体30よりも高圧側となる位置に、プロセスガスGの流れを乱す目的で、シール回転体40の外周面40aに対して第二凸部42が形成されている。より具体的には、第二凸部42は、フィン部38の近傍に配置されている。この第二凸部42は、周方向に連続して形成されており、フィン部38の内周側の短辺38aとシール回転体40の外周面40aとの間の距離と同等以上の高さ有している。
また、第二凸部42を設けることによって流れを乱されたプロセスガスGの一部を、上述したフィン部38に沿って径方向外側に向かって流すことができる。一般に、回転軸2やインペラ3などの回転体によって発生したプロセスガスGに含まれるスワールは、回転体の近傍では大きくなる。また、上記スワールは、静止体の近くではその壁面の摩擦損失によって小さくなる。つまり、上記フィン部38によって回転軸2近傍のスワールの多くを回転軸2の径方向外側に配置される静止体の近くまで導きスワールを減速させることができる。また、シール隙間Sに流れ込むプロセスガスGのスワール量をこれにより低減することができる。
軸線O方向でフィン部38と開口部39cとの間には、シール静止体30の内周面30aから径方向内側に向かってラビリンスフィン部39dが突出している。ラビリンスフィン部39dは、シール静止体30の内周面30aの周方向に連続して形成されている。このラビリンスフィン部39dによって、シール静止体30の内周面30aとシール回転体40の外周面40aとのシール隙間Sが部分的に狭められている。これにより、このシール隙間Sに流れ込むプロセスガス量を低減すると共に、ラビリンスフィン部39dの高圧側と低圧側との圧力差を保持することとなる。この低圧側の圧力は、このラビリンスフィン部39dの漏洩量と吹き出し通路39bからの吹き出し量と、これらの下流にある減衰シール(シール静止体30およびシール回転体40)の漏洩量が釣り合う圧力となる。つまり、上述したフィン部38の外径部のプロセスガスGの静圧と、この低圧側圧力との圧力差とを利用して、プロセスガスGを吹出し通路39bからラビリンスフィン部39dの低圧側に吹出させることになっている。ここで、フィン部38の径方向外側において、図8に示す第一変形例のように、フィン部38の径方向外側部分を高圧側から覆うようにして環状のカバー部50を取り付けてもよい。このようにすることで、吹出し通路39bに流れ込むプロセスガスGの流量をスワールの動圧回復を利用して若干増加させることができる。
したがって、上述した実施形態のシール装置20によれば、シール静止体30とシール回転体40とのシール隙間Sを高圧側から低圧側に向かってプロセスガスGが流れるときに、第一凸部34、溝部32、および、穴部31によって軸線O方向・周方向の流れが共に大きく乱される。そのため、プロセスガスGの流れに対し大きな抵抗となり、シール隙間Sを流れるプロセスガスGのスワールを抑制して、漏洩量の低減、減衰の増大を図ることができる。
また、シール回転体40側の第一凸部34とシール静止体30側の溝部32とにより生じる流れの乱れによって、シール静止体30の複数の穴部31でのスワールを抑制する効果を増大することができる。そのため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一が低減し、この圧力分布による軸振動量を低減することができる。
また、シール回転体40側の第一凸部34とシール静止体30側の溝部32とにより生じる流れの乱れによって、シール静止体30の複数の穴部31でのスワールを抑制する効果を増大することができる。そのため、スワールによって生じる周方向の圧力の不均一が低減し、この圧力分布による軸振動量を低減することができる。
また、シール静止体30の溝部32の側壁32aに形成された凹凸部32bによって更に流れを乱し、一部のスワールを堰き止めることができるため、シール静止体30における更なるスワールの抑制、漏れ量の低減、減衰の増大を図ることが可能となる。
さらに、穴部31を横断するように溝部32を形成することで、溝部32の側壁32aに凹凸部32bを形成することができるため、溝部32の平面状の側壁32aに対して切削等により凹凸部32bを形成する場合と比較して、容易に凹凸部32bを形成することができる。
また、旋回流防止機構37によってシール隙間Sに流入するプロセスガスGに対してスワールに抗する方向からプロセスガスGを吹き付けることで、スワール量を低減することができるため、シール静止体30とシール回転体40とのシール隙間Sに流入するプロセスガスGのスワールを打ち消すことができる。
また、旋回流防止機構37のフィン部38によって、シール回転体40近傍のスワールをフィン部38によって外周側に導いて減速させることができると共に、吹出し通路39bを介してシール隙間SにプロセスガスGを導いて、流れを乱し、シール隙間Sに流れるプロセスガスGに含まれるスワール量を低減することができる。
さらに、フィン部38が径方向に対してスワールをすくい上げる方向に傾斜していることで、より多くのスワールをフィン部38によって外周側に導いて減速させることができる。
また、軸線O方向で、吹出し通路39bのシール隙間S側の開口部39cと、フィン部38との間に、ラビリンスフィン部39dを備えていることで、スワールを持ったプロセスガスGがシール隙間Sに多量に流れ込むことを防止し、スワールに抗する方向からのプロセスガスGが、ラビリンスフィン部39dの下流に主に流れ込むようにすることができる。また、ラビリンスフィン部39dを設けることで、スワールに抗するプロセスガスGにシール上流の流体圧よりも高い圧のプロセスガスGを用いる場合には、スワールに抗するプロセスガスGが上流に流れるのを制限することができる。
さらに、第二凸部42で、シール隙間Sに流入するプロセスガスGの流れを乱すことができるため、このプロセスガスGのスワール量を抑制することができる。また、シール静止体30の高圧側に旋回流防止機構37を備えている場合には、第二凸部42で流れを乱されたプロセスガスGを旋回流防止機構37に供給して、この旋回流防止機構37により吹き付けられるプロセスガスGとして有効利用することができる。
さらに、シール隙間Sの周方向に、抑制されたスワールによって圧力差が生じてしまったとしても、相対的に圧力が高い箇所の狭幅通路35からプロセスガスGが環状通路36に流れ込み、圧力が相対的に低い箇所の狭幅通路35を介して、相対的に圧力が低い箇所へとプロセスガスGを供給することができる。その結果、回転軸2周りのシール隙間Sにおける圧力差は低減され、この圧力差によって回転軸2に働く力が低減するので、この回転軸2に働く力に起因する振動の増加を防止することができる。
また、この実施形態の遠心圧縮機1によれば、プロセスガスGのスワールを抑制、漏洩量を低減、減衰を増加できるため、運転性能を向上することが可能となる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な形状や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述した実施形態においては、軸線O方向に一つのシール装置20を設ける一例を説明したが、例えば、軸線O方向に分割して設置してもよい。また、回転機械である遠心圧縮機1内部の複数個所に設置してもよい。
また、回転軸2に第一凸部34が形成された円管状のシール回転体40を取り付ける場合について説明したが、回転軸2の外周面2aに第一凸部34を形成して回転軸2をシール回転体としても良い。
さらに、上述した実施形態においては、シール静止体30の穴部31の配置を千鳥状に配列する場合について説明したが、穴部31の配列は千鳥状に限られるものではなく、例えば、正方配列などであっても良い。
さらに、上述した実施形態においては、シール静止体30の穴部31の配置を千鳥状に配列する場合について説明したが、穴部31の配列は千鳥状に限られるものではなく、例えば、正方配列などであっても良い。
さらに、上述した実施形態においては、ホールパターン形状のシール静止体30を一例に説明したが、上記形状のシール静止体30に限られるものではない。シール静止体30は、周方向および軸線O方向に区切られた穴部を有し減衰力を付与可能なシール静止体であればよく、ポケット形状やハニカム形状のシール静止体などでもよい。ポケット形状やハニカム形状のシール静止体を用いた場合も、上記ホールパターン形状のシール静止体30と同様に、その周方向に溝部32を形成し、その際に穴部31を横断するように形成することで、側壁32aに凹凸部32bを形成することができる。
更に、上述した実施形態においては、溝部32の軸線O方向の両側の側壁32aに凹凸部32bを形成する場合について説明したが、何れか一つの側壁32aに凹凸部32bを形成するようにしても良い。
さらに、図9に示す第二変形例のように、溝部32の側壁32aに形成されていた上記凹凸部32bを省略してもよい。この場合も、溝部32と第一凸部34と穴部31とによって、プロセスガスGの流れを乱して、プロセスガスGに含まれるスワールを低減することができる。
また、上述した実施形態においては、シール静止体30よりも高圧側に旋回流防止機構37を設ける場合について説明したが、シール静止体30の途中に旋回流防止機構37を設けても良い。また、旋回流防止機構37は、必要に応じて設ければよく、省略するようにしても良い。同様に、上述した実施形態においては、狭幅通路35および環状通路36を形成する場合について説明したが、回転軸2などの回転によるスワールが十分に低減されている場合には省略しても良い。
さらに、上述した実施形態においては、穴部31を切り欠くことにより断面円弧状に凹む部分を形成して溝部32の側壁32aに凹凸部32bを形成する場合について説明したが、切り欠くこと以外で溝部32の側壁32aに凹凸部32bを形成するようにしてもよい。例えば、溝部32の側壁32aを軸線O方向に凹ませる加工を行ったり、溝部32の側壁32aから軸線O方向内側に向かって突出させる加工を行ったりしてもよい。
また、上述した実施形態においては、第一凸部34に対向する溝部32の底面にも穴部31が形成される場合について説明したが、必ずしも設ける必要は無い。また、溝部32の底面に形成される穴部31の個数は、所望のシール性能に応じた適宜の個数に設定すればよく、例えば、溝部32以外のシール静止体30の穴部31の周方向の個数よりも少なくしてもよい。
また、旋回流防止機構37の高圧側に第二凸部42を設ける場合について説明したが、シール装置20の高圧側のスワールの状況に応じて省略するようにしてもよい。
さらに、図10に示す第三変形例のように、旋回流防止機構37が、軸線O方向で、吹出し通路(通路)39bのシール隙間S側の開口部39cとフィン部38との間のシール回転体の外周面と対向する内側面に複数の減衰穴部45を形成してもよい。この減衰穴部45は、上述した穴部31と同様の構成であり、フィン部38と吹出し通路39bのシール隙間S側の開口部39cとの間で、高圧側からシール隙間Sに流入したプロセスガスGに含まれるスワールを減衰穴部45により低減させることができる。なお、減衰穴部45の軸線O方向の列数は、図10の個数に限られるものではなく、少なくとも一列形成されていればよい。また、開口部39cとフィン部38との間のフィン部38、すなわちラビリンスフィン部39dの代わりに、他の非接触シール(例えば、ポケット形状やハニカム形状の非接触シールなど)を用いても良い。
本発明は、回転体の外周面上での軸線方向への流体の流れを低減するシール装置として、また、ロータの振動耐力を向上させるために減衰を付加するシール装置として適用可能である。また、このシール装置を備える回転機械に適用可能である。
2 回転軸
2a 外周面
20 シール装置
31 穴部
30 シール静止体
32 溝部
32a 側壁(壁面)
32b 凹凸部
34 第一凸部
35 狭幅通路
36 環状通路
37 旋回流防止機構
40 シール回転体
42 第二凸部
G プロセスガス(流体)
S シール隙間
2a 外周面
20 シール装置
31 穴部
30 シール静止体
32 溝部
32a 側壁(壁面)
32b 凹凸部
34 第一凸部
35 狭幅通路
36 環状通路
37 旋回流防止機構
40 シール回転体
42 第二凸部
G プロセスガス(流体)
S シール隙間
Claims (10)
- シール回転体と、該シール回転体の外周面に対して径方向に隙間を有して配されるシール静止体とを備え、これらシール回転体とシール静止体との間の流体の流れを抑制するシール装置であって、
前記シール静止体は、
前記シール回転体の外周面と対向する内側面に複数の穴部を有するとともに、前記内側面の周方向に溝部を備え、
前記シール回転体は、
前記溝部へ向かって突出する第一凸部を備え、
前記溝部は、軸線方向両側の壁面のうち少なくとも一方に、流体の流れを乱す凹凸部を備え、
前記凹凸部は、前記シール回転体の軸線を中心とした径方向から見て、断面円弧状に凹んだ凹部を備えるシール装置。 - 請求項1に記載したシール装置であって、
前記シール回転体の外周面と前記シール静止体との隙間に流入する流体に対して、当該流体に含まれるスワールに抗する方向から流体を吹き付ける旋回流防止機構を備えるシール装置。 - 請求項2に記載したシール装置であって、
前記旋回流防止機構は、外周側に向かって延びるフィン部と、該フィン部の外周部から前記隙間に通じる通路を備えるシール装置。 - 請求項3に記載したシール装置であって、
前記フィン部は、
径方向内側から外側に向かうにつれてロータの回転方向後方から前方に向かうように傾斜しているシール装置。 - 請求項3又は4に記載したシール装置であって、
前記旋回流防止機構は、前記フィン部の外周部を覆うカバー部を備えるシール装置。 - 請求項3から5の何れか一項に記載したシール装置であって、
前記旋回流防止機構は、軸線方向で、前記通路の前記隙間側の開口部と、前記フィン部との間に非接触シールを備えるシール装置。 - 請求項6に記載したシール装置であって、
前記非接触シールは、前記シール回転体の外周面と対向する内側面に減衰穴部を有するシール装置。 - 請求項1から7の何れか一項に記載したシール装置であって、
前記シール回転体の外周面の前記シール静止体よりも高圧側に、流体の流れを前記隙間に流れ込む前に乱す第二凸部を備えるシール装置。 - 請求項1から8の何れか一項に記載したシール装置であって、
前記シール静止体は、前記穴部に連通し前記穴部よりも流路面積が狭い狭幅通路と、該狭幅通路が複数連通し前記穴部の外周側に配置される環状通路とを備えるシール装置。 - 前記請求項1から9の何れか一項に記載のシール装置を備える回転機械。
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JP2015090144A (ja) | シール装置、および、回転機械 |
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