JP5916373B2 - ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたブラックカラムスペーサ、該ブラックカラムスペーサを備える表示装置、及び該組成物を用いたブラックカラムスペーサの形成方法に関する。

液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の表示装置では、２枚の基板間の間隔（セルギャップ）を一定に保つためにスペーサが利用されている。

従来、スペーサを形成するには、基板の全面にスペーサとなるビーズ粒子を散布する方法が採られていた。しかし、この方法では高い位置精度でスペーサを形成することが困難であり、画素表示部分にもビーズが付着するため、画像のコントラストや表示画質が低下するという問題があった。

そこで、これらの問題を解決するために、スペーサを感光性樹脂組成物により形成する方法が種々提案されている。この方法は、感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、所定のマスクを介して露光した後、現像して、カラム状等のスペーサを形成するものであり、画素表示部分以外の所定の部分にのみスペーサを形成することができる。また、近年では、カーボンブラック等の遮光剤によってスペーサに遮光性を持たせた、いわゆるブラックカラムスペーサも提案されている（特許文献１等）。

特開２０１１−１７００７５号公報 特開２００６−２２５５０３号公報

ところで、ブラックカラムスペーサとしては、比誘電率をより低くすることや、光漏れを防ぐために遮光性が高いことが要求される。また、基板間での良好なスペーサ効果を得るためには、基板上に形成されたブラックカラムスペーサは、最上部の径と、最下部の径との差が小さいことが要求される。

特許文献１に記載される、カーボンブラックを遮光剤として含む感光性樹脂組成物では、遮光性に優れるブラックカラムスペーサが形成される。しかし、特許文献１に記載のカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物により形成されるブラックカラムスペーサは、カーボンブラックの高い導電性に起因して比誘電率が著しく高い。

これらに加えて、本発明者らが検討したところ、特許文献１に記載のカーボンブラックを遮光剤として含む感光性樹脂組成物を用いてブラックカラムスペーサを形成する場合、基板上に形成されたブラックカラムスペーサの最上部の径が最下部の径よりも顕著に小さくなり、ブラックカラムスペーサの形状が悪くなること、及び、露光された感光性樹脂組成物のうち、その上層側（露光面側）に比べて下層側（基板側）での硬化が不足し、現像時に、下層側の感光性組成物が現像液の侵食によるアンダーカットを受け、ブラックカラムスペーサの最下部の径が小さくなりやすいことが判明した。

また、液晶表示装置等の表示装置では、基板上に素子が形成されたＴＦＴ基板等の基板が使用されることも多い。かかる基板を用いる場合、基板に形成された素子上、又は素子が形成された基板と対になる基板の素子と対向する個所にブラックカラムスペーサを形成する必要がある場合がある。このような場合、素子の高さを考慮して、素子が形成された個所と、その他の個所とで、ブラックカラムスペーサの高さを変える必要がある。

かかる場合、ブラックカラムスペーサが形成される場所に応じて露光量を変化させることによって、異なる高さのブラックカラムスペーサを一度で形成できるため、ハーフトーンマスクを介して露光を行うのが好ましい。

しかし、本発明者らが検討したところ、特許文献１に記載のカーボンブラックを遮光剤として含む感光性樹脂組成物では、ハーフトーンマスクを介して露光を行っても、高さに差のあるブラックカラムスペーサを形成しにくいことが判明した。

従来、遮光性が高く、比誘電率の低いブラックマトリクスを実現可能な遮光剤としては、銀錫合金を主成分とする微粒子が提案されており（特許文献２等）、この銀錫合金を主成分とする微粒子を遮光剤として用いることが考えられる。

銀錫合金を主成分とする微粒子を遮光剤として含む感光性樹脂組成物を用いる場合、遮光性に優れ、比誘電率が小さく、アンダーカットにより最下部の径が小さくなっていないブラックカラムスペーサを形成できる。また、かかる感光性樹脂組成物は、ハーフトーンマスクを介して露光することにより、十分に高さの差のあるブラックカラムスペーサを形成できる、良好なハーフトーン特性を有している。

しかし、銀錫合金を主成分とする微粒子を遮光剤として含む感光性樹脂組成物を用いても、やはり、基板上に形成されたブラックカラムスペーサの最上部の径が最下部の径よりも顕著に小さくなりやすかった。

そこで、本発明は、遮光性に優れ、比誘電率が低く、アンダーカットにより最下部が小径化されておらず、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成でき、ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、十分に高さの差があるブラックカラムスペーサを形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、該組成物を用いて形成されたブラックカラムスペーサ、該ブラックカラムスペーサを備える表示装置、及び該組成物を用いたブラックカラムスペーサの形成方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた。その結果、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び遮光剤を含有する、ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物において、ペリレン系黒色顔料と、銀錫合金を主成分とする微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上とを含む遮光剤を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。

本発明の第一の態様は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び遮光剤を含有し、上記遮光剤が、ペリレン系黒色顔料と、銀錫合金を主成分とする微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上とを含むブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物である。

本発明の第二の態様は、第一の態様に係るブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物から形成されたブラックカラムスペーサであり、本発明の第三の態様は、第二の態様に係るブラックカラムスペーサを備える表示装置である。

本発明の第四の態様は、第一の態様に係るブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、上記感光性樹脂層を所定のスペーサのパターンに応じて露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂層を現像して、スペーサのパターンを形成する現像工程と、を含むブラックカラムスペーサの形成方法である。

本発明によれば、遮光性に優れ、比誘電率が低く、アンダーカットにより最下部が小径化されておらず、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成でき、ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、十分に高さの差があるブラックカラムスペーサを形成できる感光性樹脂組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、該組成物を用いて形成されたブラックカラムスペーサ、該ブラックカラムスペーサを備える表示装置、及び該組成物を用いたブラックカラムスペーサの形成方法を提供することができる。

≪ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物≫
本発明に係るブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物（以下、単に「感光性樹脂組成物」という。）は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び遮光剤を含有し、前述の遮光剤はペリレン系黒色顔料と、銀錫合金を主成分とする微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上とを含む。以下、本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される各成分について説明する。

＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂＞
アルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、上述のアルカリ可溶性を示す樹脂であれば特に限定されず、従来公知の樹脂から適宜選択して使用できる。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として好適な樹脂としては、（Ａ１）カルド構造を有する樹脂が挙げられる。

（Ａ１）カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式（ａ−１）で表される樹脂が好ましい。

上記式（ａ−１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ−２）で表される基を示す。

上記式（ａ−２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｗ^ａは、単結合又は下記式（ａ−３）で表される基を示す。

また、上記式（ａ−１）中、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。

また、上記式（ａ−１）中、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式（ａ−１）中、ｍは、０〜２０の整数を示す。

（Ａ１）カルド構造を有する樹脂の質量平均分子量は、１０００〜４００００であることが好ましく、２０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。

また、破壊強度や基板への密着性に優れるブラックカラムスペーサを得やすいことから、（Ａ２）（ａ１）不飽和カルボン酸と（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させた共重合体も、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として好適に使用することができる。

（ａ１）不飽和カルボン酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、得られる樹脂のアルカリ溶解性、入手の容易性等の点から、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸が好ましい。これらの（ａ１）不飽和カルボン酸は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式エポキシ基を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

具体的に、（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、例えば下記式（ａ２−１）〜（ａ２−１６）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−６）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−４）で表される化合物がより好ましい。

上記式中、Ｒ^１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^１２は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^１３は炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を示し、ｎは０〜１０の整数を示す。Ｒ^１２としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^１３としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−ＣＨ_２−Ｐｈ−ＣＨ_２−（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。

（Ａ２）共重合体は、上記（ａ１）不飽和カルボン酸及び（ａ２）上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物とともに、エポキシ基を有さない（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物を重合させたものであってもよい。
（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物としては、脂環式基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

具体的に、（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物としては、例えば下記式（ａ３−１）〜（ａ３−７）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ３−３）〜（ａ３−８）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ３−３），（ａ３−４）で表される化合物がより好ましい。

上記式中、Ｒ^２１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２２は単結合又は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^２３は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｒ^２２としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^２３としては、例えばメチル基、エチル基が好ましい。

また、（Ａ２）共重合体は、上記（ａ１）不飽和カルボン酸及び上記（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物、さらには上記（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物とともに、脂環式基を有さない（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物を重合させたものであってもよい。
（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシアルキルエステル類；α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、及び６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレートが好ましい。これらの（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

また、（Ａ２）共重合体は、上記以外の他の化合物をさらに重合させたものであってもよい。このような他の化合物としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；等が挙げられる。

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。

スチレン類としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。

（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ１）不飽和カルボン酸由来の構成単位の割合は、１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。
また、（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合と上記（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合との合計は、７１質量％以上であることが好ましく、７１〜９５質量％であることがより好ましく、７５〜９０質量％であることがさらに好ましい。特に、（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合が単独で７１質量％以上であることが好ましく、７１〜８０質量％であることがより好ましい。上記（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合を上記の範囲にすることにより、感光性樹脂組成物の経時安定性をより向上させることができる。
また、（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合は、１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。

（Ａ２）共重合体の質量平均分子量（Ｍｗ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）のスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。）は、２０００〜２０００００であることが好ましく、５０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ３）上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、後述する（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体、又は（Ａ４）上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、上記（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位と、後述する光重合性モノマー（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体を含む樹脂も好適に使用できる。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が（Ａ３）共重合体、又は（Ａ４）共重合体を含む場合、感光性樹脂組成物の基板への密着性、感光性樹脂組成物の硬化後の破壊強度を高めることができる。

（Ａ３）共重合体、及び（Ａ４）共重合体は、共重合体（Ａ２）について他の化合物として記載される、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等をさらに共重合させたものであってもよい。

（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位を有する構成単位は、（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位としてエチレン性不飽和基を有するものが好ましい。このような構成単位を有する共重合体化は、（Ａ３）共重合体については、上記（ａ１）不飽和カルボン酸の単独重合体に含まれるカルボキシル基の少なくとも一部と、上記（ａ２）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物及び、エポキシ基を有さない（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物から選択されるエポキシ基含有不飽和化合物とを反応させることにより、調製することができる。また、（Ａ４）共重合体は、上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、上記（ａ４）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位とを有する共重合体におけるエポキシ基の少なくとも一部と、（ａ１）不飽和カルボン酸とを反応させることにより、調製することができる。

（Ａ３）共重合体、及び（Ａ４）共重合体の質量平均分子量は、２０００〜５００００であることが好ましく、５０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して４０〜８５質量％であることが好ましく、４５〜７５質量％であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスをとりやすい傾向がある。

＜（Ｂ）光重合性モノマー＞
光重合性モノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ−メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（Ｂ）光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。

＜（Ｃ）光重合開始剤＞
光重合開始剤としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。

光重合開始剤として具体的には、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ−２−エチルヘキシル安息香酸、４−ジメチルアミノ−２−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２−クロロチオキサンテン、２，４−ジエチルチオキサンテン、２−メチルチオキサンテン、２−イソプロピルチオキサンテン、２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、２−メルカプトベンゾイミダール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン（すなわち、ミヒラーズケトン）、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン（すなわち、エチルミヒラーズケトン）、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパン、ｐ−メトキシトリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」（商品名：ＢＡＳＦ製）、「ＮＣＩ−８３１」（商品名：ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、オキシム系光重合開始剤を用いることが感度の面で特に好ましく、カルバゾール骨格を有するオキシム系光重合開始剤を用いることが特に好ましい。

オキシム系光重合開始剤の好ましい例としては、下記式（ｃ−１）で表される光重合開始剤が挙げられる。

上記式（ｃ−１）中、Ｒ^ｃ１は、置換基を有していてもよい、複素環基、縮合環式芳香族基、又は芳香族基を示す。Ｒ^ｃ２〜Ｒ^ｃ４はそれぞれ独立に１価の有機基を示す。

Ｒ^ｃ１における複素環基としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５員環又は６員環の複素環基が挙げられる。複素環基の例としては、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の含窒素５員環基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ピリダジニル基等の含窒素６員環基；チアゾリル基、イソチアゾリル基等の含窒素含硫黄基；オキサゾリル基、イソオキサゾリル基等の含窒素含酸素基；チエニル基、チオピラニル基等の含硫黄基；フリル基、ピラニル基等の含酸素基；等が挙げられる。この中でも、窒素原子又は硫黄原子を１つ含むものが好ましい。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。縮合環が含まれる複素環基の例としてはベンゾチエニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１における縮合環式芳香族基としては、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ１における芳香族基としては、フェニル基が挙げられる。

複素環基、縮合環式芳香族基、又は芳香族基は、置換基を有していてもよい。特にＲ^ｃ１が芳香族基である場合には、置換基を有していることが好ましい。このような置換基としては、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＳＯ_２Ｒ^ｃ５、−ＣＯＲ^ｃ５、−ＮＲ^ｃ６Ｒ^ｃ７、−Ｒ^ｃ８、−ＯＲ^ｃ８、−Ｏ−Ｒ^ｃ９−Ｏ−Ｒ^ｃ１０等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５は、それぞれ独立にアルキル基を示し、これらはハロゲン原子で置換されていてもよく、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。Ｒ^ｃ５におけるアルキル基は、炭素数１〜５であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、これらはハロゲン原子で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアルコキシ基のアルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、又はエステル結合により中断されていてもよい。また、Ｒ^ｃ６とＲ^ｃ７とが結合して環構造を形成していてもよい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７におけるアルキル基又はアルコキシ基は、炭素数１〜５であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６とＲ^ｃ７とが結合して形成し得る環構造としては、複素環が挙げられる。この複素環としては、少なくとも窒素原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環が挙げられる。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。複素環の例としては、ピペリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環等が挙げられる。これらの中でも、モルホリン環が好ましい。

Ｒ^ｃ８は、水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ^ｃ８におけるアルキル基は、炭素数１〜６であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ９及びＲ^ｃ１０は、それぞれ独立にアルキル基を表し、これらはハロゲン原子で置換されていてもよく、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。好ましい炭素数やその具体例は、上記Ｒ^ｃ１の説明と同様である。

これらの中でも、Ｒ^ｃ１としては、ピロリル基、ピリジル基、チエニル基、チオピラリル基、ベンゾチエニル基、ナフチル基、置換基を有するフェニル基が好ましい例として挙げられる。

上記式（ｃ−１）中、Ｒ^ｃ２は、一価の有機基を示す。この有機基としては、−Ｒ^ｃ１１、−ＯＲ^ｃ１１、−ＣＯＲ^ｃ１１、−ＳＲ^ｃ１１、−ＮＲ^ｃ１１Ｒ^ｃ１２で表される基が好ましい。Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２は、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基を示し、これらはハロゲン原子、アルキル基、又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。また、Ｒ^ｃ１１とＲ^ｃ１２とが結合して窒素原子とともに環構造を形成していてもよい。

Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２におけるアルキル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、炭素数１〜５のものがより好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、イソデシル基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。また、このアルキル基は置換基を有していてもよい。置換基を有するものの例としては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピロキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２におけるアルケニル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、炭素数１〜５のものがより好ましい。アルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、エテニル基、プロピニル基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。また、このアルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基を有するものの例としては、２−（ベンゾオキサゾール−２−イル）エテニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２におけるアリール基としては、炭素数６〜２０のものが好ましく、炭素数６〜１０のものがより好ましい。アリール基の例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２におけるアラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、炭素数７〜１２のものがより好ましい。アラルキル基の例としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルエテニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２における複素環基としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられる。この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。複素環基の例としては、ピロリル基、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。

これらのＲ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２のうち、アルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。

また、Ｒ^ｃ１１とＲ^ｃ１２とが結合して形成し得る環構造としては、複素環が挙げられる。この複素環としては、少なくとも窒素原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環が挙げられる。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。複素環の例としては、ピペリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環等が挙げられる。

これらの中でも、Ｒ^ｃ２としては、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基であることが最も好ましい。

上記式（ｃ−１）中、Ｒ^ｃ３は、１価の有機基を示す。この有機基としては、炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基、下記式（ｃ−２）で表される基、又は置換基を有していてもよい複素環基が好ましい。置換基としては、上記Ｒ^ｃ１の場合と同様の基が挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。

上記式（ｃ−２）中、Ｒ^ｃ１３は、酸素原子で中断されていてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示す。このようなアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ｓｅｃ−ペンチレン基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｃ１３はイソプロピレン基であることが最も好ましい。

上記式（ｃ−２）中、Ｒ^ｃ１４は、−ＮＲ^ｃ１５Ｒ^ｃ１６で表される１価の有機基を示す（Ｒ^ｃ１５及びＲ^ｃ１６は、それぞれ独立に１価の有機基を示す）。そのような有機基の中でも、Ｒ^ｃ１４の構造が下記式（ｃ−３）で表されるものであれば、光重合開始剤の溶解性を向上することができる点で好ましい。

上記式（ｃ−３）中、Ｒ^ｃ１７及びＲ^ｃ１８は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基を示す。このようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｃ１７及びＲ^ｃ１８はメチル基であることが最も好ましい。

Ｒ^ｃ３における複素環基としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５員環又は６員環の複素環基が挙げられる。複素環基の例としては、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の含窒素５員環基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ピリダジニル基等の含窒素６員環基；チアゾリル基、イソチアゾリル基等の含窒素含硫黄基；オキサゾリル基、イソオキサゾリル基等の含窒素含酸素基；チエニル基、チオピラニル基等の含硫黄基；フリル基、ピラニル基等の含酸素基；等が挙げられる。この中でも、窒素原子又は硫黄原子を１つ含むものが好ましい。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。縮合環が含まれる複素環基の例としてはベンゾチエニル基等が挙げられる。

また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上記Ｒ^ｃ１の場合と同様の基が挙げられる。

上記式（ｃ−１）中、Ｒ^ｃ４は、１価の有機基を示す。この中でも、炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましい。このようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｃ４はメチル基であることが最も好ましい。

また、オキシム系光重合開始剤の好ましい他の例としては、特開２０１０−１５０２５号公報で提案されている下記式（ｃ−４）で表される光重合開始剤が挙げられる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２は、それぞれ独立に、Ｒ^ｃ３１、ＯＲ^ｃ３１、ＣＯＲ^ｃ３１、ＳＲ^ｃ３１、ＣＯＮＲ^ｃ３２Ｒ^ｃ３３、又はＣＮを示す。

Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、及びＲ^ｃ３３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、又は炭素数２〜２０の複素環基を示す。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、及び複素環基の水素原子は、さらにＯＲ^ｃ４１、ＣＯＲ^ｃ４１、ＳＲ^ｃ４１、ＮＲ^ｃ４２Ｒ^ｃ４３、ＣＯＮＲ^ｃ４２Ｒ^ｃ４３、−ＮＲ^ｃ４２−ＯＲ^ｃ４３、−ＮＣＯＲ^ｃ４２−ＯＣＯＲ^ｃ４３、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＲ^ｃ４１）−Ｒ^ｃ４２、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＣＯＲ^ｃ４１）−Ｒ^ｃ４２、ＣＮ、ハロゲン原子、−ＣＲ^ｃ４１＝ＣＲ^ｃ４２Ｒ^ｃ４３、−ＣＯ−ＣＲ^ｃ４１＝ＣＲ^ｃ４２Ｒ^ｃ４３、カルボキシル基、又はエポキシ基で置換されていてもよい。Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、又は炭素数２〜２０の複素環基を示す。

上記Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３における置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合、又はウレタン結合により１〜５回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、また、Ｒ^ｃ３２とＲ^ｃ３３、及びＲ^ｃ４２とＲ^ｃ４３はそれぞれ結合して環構造を形成していてもよい。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ２３及びＲ^ｃ２４は、それぞれ独立に、Ｒ^ｃ３１、ＯＲ^ｃ３１、ＣＯＲ^ｃ３１、ＳＲ^ｃ３１、ＣＯＮＲ^ｃ３２Ｒ^ｃ３３、ＮＲ^ｃ３１ＣＯＲ^ｃ３２、ＯＣＯＲ^ｃ３１、ＣＯＯＲ^ｃ３１、ＳＣＯＲ^ｃ３１、ＯＣＳＲ^ｃ３１、ＣＯＳＲ^ｃ３１、ＣＳＯＲ^ｃ３１、ＣＮ、ハロゲン原子、又は水酸基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。
Ｒ^ｃ２３は、−Ｘ^ｃ２−を介して隣接するベンゼン環の炭素原子の１つと結合して環構造を形成していてもよく、Ｒ^ｃ２３とＲ^ｃ２４とが結合して環構造を形成していてもよい。

上記式（ｃ−４）中、Ｘ^ｃ１は、単結合又はＣＯを示す。

上記式（ｃ−４）中、Ｘ^ｃ２は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ^ｃ５１Ｒ^ｃ５２、ＣＯ、ＮＲ^ｃ５３、又はＰＲ^ｃ５４を示す。Ｒ^ｃ５１、Ｒ^ｃ５２、Ｒ^ｃ５３、及びＲ^ｃ５４は、それぞれ独立に、Ｒ^ｃ３１、ＯＲ^ｃ３１、ＣＯＲ^ｃ３１、ＳＲ^ｃ３１、ＣＯＮＲ^ｃ３２Ｒ^ｃ３３、又はＣＮを示す。Ｒ^ｃ５１、Ｒ^ｃ５３、及びＲ^ｃ５４は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環構造を形成していてもよい。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３におけるアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスレニル基等が挙げられる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３におけるアリールアルキル基としては、ベンジル基、クロロベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルエテニル基等が挙げられる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３における複素環基としては、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、ベンゾオキサゾール−２−イル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジル基、イミダゾリジル基、ピラゾリジル基、チアゾリジル基、イソチアゾリジル基、オキサゾリジル基、イソオキサゾリジル基、ピペリジル基、ピペラジル基、モルホリニル基等の５〜７員環が好ましく挙げられる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３２とＲ^ｃ３３とが結合して形成し得る環、Ｒ^ｃ４２とＲ^ｃ４３とが結合して形成し得る環、及びＲ^ｃ２３が隣接するベンゼン環と一緒になって形成し得る環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環、ラクタム環等の５〜７員環が挙げられる。
なお、Ｘ^ｃ２がＮＲ^ｃ５３であり、Ｒ^ｃ２３が隣接するベンゼン環の炭素原子の１つと結合して、Ｘ^ｃ２とともに５員環構造を形成する場合、光重合開始剤はカルバゾール骨格を有することになる。

上記式（ｃ−４）中、Ｒ^ｃ３１、Ｒ^ｃ３２、Ｒ^ｃ３３、Ｒ^ｃ４１、Ｒ^ｃ４２、及びＲ^ｃ４３を置換してもよいハロゲン原子、及びＲ^ｃ２４、Ｒ^ｃ２５におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

上記置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合、又はウレタン結合により１〜５回中断されていてもよい。この場合、中断する結合基は１種又は２種以上の基でもよく、連続して中断し得る基の場合は２つ以上連続して中断してもよい。また、上記置換基のアルキル部分は分岐鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよい。

（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して０．５〜２０質量部であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。

＜（Ｄ）遮光剤＞
（Ｄ）遮光剤は、ペリレン系黒色顔料と、銀錫合金を主成分とする微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上とを含む。これらの着色剤を含む（Ｄ）遮光剤を含有する、感光性樹脂組成物によれば、低い比誘電率と、高い光学密度（ＯＤ）とを有し、アンダーカットを受けておらず、ブラックカラムスペーサのボトムの径（Ｂ）に対するトップの径（Ｔ）の比率であるＴ／Ｂ比が高い、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成することができる。また、これらの着色剤を含む（Ｄ）遮光剤を含有する感光性樹脂組成物によれば、ハーフトーンマスクを介して露光することによって、十分に高さの差があるブラックカラムスペーサを形成することができる。

上記の遮光剤を感光性樹脂組成物に均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。

以下、ペリレン系黒色顔料、銀錫合金を主成分とする微粒子、及びカーボンブラックについて順に説明する。

〔ペリレン系黒色顔料〕
ペリレン系黒色顔料は、ペリレン骨格を有するものであって、従来から黒色顔料として使用されているものであれば特に限定されない。好適なペリレン系黒色顔料の具体例としては、下記一般式（ｄ−１）で表されるペリレン系黒色顔料、及び下記一般式（ｄ−２）で表されるペリレン系黒色顔料が挙げられる。また市販品ではＢＡＳＦ社製の製品名Ｋ００８４、及びＫ００８６や、ピグメントブラック２１、３０、３１、３２、３３、及び３４等を好ましく用いることができる。

（式（ｄ−１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２は、それぞれ独立して炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ^ｄ３、Ｒ^ｄ４は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、メトキシ基又はアセチル基を表す。）

（式（ｄ−２）中、Ｒ^ｄ５、Ｒ^ｄ６は、それぞれ独立して炭素数１〜７のアルキレン基を表す。）

上記の一般式（ｄ−１）で表される化合物、及び一般式（ｄ−２）で表される化合物は、例えば特開昭６２−１７５３号公報、特公昭６３−２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−３，５，９，１０−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。

また、感光性樹脂組成物中においてペリレン系黒色顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒径が１０〜１０００ｎｍであることが好ましい。

〔銀錫合金を主成分とする微粒子〕
銀錫合金を主成分とする微粒子（以下、「銀錫合金微粒子」という。）は、銀錫合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕ等が含まれていてもよい。
この銀錫合金微粒子の平均粒子径は、１〜３００ｎｍが好ましい。

この銀錫合金は、化学式Ａｇ_ｘＳｎにて表した場合、化学的に安定した銀錫合金が得られるｘの範囲は１≦ｘ≦１０であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるｘの範囲は３≦ｘ≦４である。
ここで、上記ｘの範囲で銀錫合金中の銀の質量比を求めると、
ｘ＝１の場合、 Ａｇ／ＡｇＳｎ＝０．４７６２
ｘ＝３の場合、 ３・Ａｇ／Ａｇ_３Ｓｎ＝０．７３１７
ｘ＝４の場合、 ４・Ａｇ／Ａｇ_４Ｓｎ＝０．７８４３
ｘ＝１０の場合、１０・Ａｇ／Ａｇ_１０Ｓｎ＝０．９００８
となる。したがって、この銀錫合金は、銀を４７．６〜９０質量％含有した場合に化学的に安定なものとなり、銀を７３．１７〜７８．４３重量％含有した場合に銀の量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。

この銀錫合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。

この銀錫合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化イットリウム（イットリア）、酸化チタン（チタニア）等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。

絶縁膜の膜厚は、銀錫合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには１〜１００ｎｍの厚みが好ましく、５〜５０ｎｍの厚みがより好ましい。
この絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。

〔カーボンブラック〕
カーボンブラックは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、公知のカーボンブラックから適宜選択して使用できる。カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。

（Ｄ）遮光剤におけるペリレン系黒色顔料と、銀錫合金微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上との含有量の合計は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、（Ｄ）遮光剤の質量に対して、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、１００質量％であるのが特に好ましい。

（Ｄ）遮光剤における、ペリレン系黒色顔料の含有量に対する、銀錫合金微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。（Ｄ）遮光剤における、銀錫合金微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上の含有量は、典型的には、ペリレン系黒色顔料１００質量部に対して、１〜１５０質量部が好ましく、５〜１３０質量部が好ましく、１０〜１００質量部が特に好ましい。

また（Ｄ）遮光剤は、色調の調整の目的等で、ペリレン系黒色顔料、銀錫合金微粒子、及びカーボンブラックの他に、赤、青、緑、黄、紫等の有彩色の色素を含んでいてもよい。有彩色の色素は、公知の色素から適宜選択して用いることができる。有彩色の色素の使用量は、（Ｄ）遮光剤の全質量に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。

さらに（Ｄ）遮光剤は、本発明の目的を阻害しない範囲で、ペリレン系黒色顔料、銀錫合金微粒子、及びカーボンブラック以外の他の黒色の着色剤を含んでいてもよい。他の黒色の着色剤の例としては、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等が挙げられる。他の黒色の着色剤の含有量は、（Ｄ）遮光剤における、前述の有彩色の色素の含有量と、他の黒色の着色剤の含有量との合計が、２０質量％以下となる量が好ましく、１０質量％以下となる量がより好ましい。

感光性樹脂組成物における（Ｄ）遮光剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、感光性樹脂組成物の固形分に対して、５〜５０質量％が好ましい。かかる範囲の量の遮光剤を用いることにより、感光性樹脂組成物を用いて得られるブラックカラムスペーサの遮光性を良好なものとしつつ、感光性樹脂組成物を露光する際の露光不良や硬化不良を抑制しやすい。

＜（Ｅ）光吸収剤＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、光吸収剤を含有することが好ましい。
光吸収剤としては、特に限定されず、露光光を吸収することができるものを用いることができるが、特に、２００〜４５０ｎｍの波長領域の光を吸収するものが好ましい。例えば、ナフタレン化合物、ジナフタレン化合物、アントラセン化合物、フェナントロリン化合物、染料等が挙げられる。

具体的には、桂皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソアミル等の桂皮酸誘導体；α−ナフトール、β−ナフトール、α−ナフトールメチルエーテル、α−ナフトールエチルエーテル、１，２−ジヒドロキシナフタレン、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン等のナフタレン誘導体；アントラセン、９，１０−ジヒドロキシアントラセン等のアントラセン及びその誘導体；アゾ系染料、ベンゾフェノン系染料、アミノケトン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料等の染料；等が挙げられる。これらの中でも、桂皮酸誘導体、ナフタレン誘導体を用いることが好ましく、桂皮酸誘導体を用いることが特に好ましい。これらの光吸収剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（Ｅ）光吸収剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して０．５〜２０質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、硬化後の破壊強度を良好に保ちながら、露光量を変化させたときの膜厚変化の割合を大きくすることができる。

＜（Ｓ）有機溶剤＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、希釈のための有機溶剤を含有することが好ましい。有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル部炭酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。

これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。これらの溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（Ｓ）有機溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分濃度が１〜５０質量％となる量が好ましく、５〜３０質量％となる量がより好ましい。

＜その他の成分＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。

＜感光性樹脂組成物の調製方法＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。

ブラックカラムスペーサ、表示装置、ブラックカラムスペーサの形成方法≫
本発明に係るブラックカラムスペーサは、本発明に係る感光性樹脂組成物から形成されたことを除き、従来のブラックカラムスペーサと同様である。また、本発明に係る表示装置は、本発明に係る感光性樹脂組成物から形成されたブラックカラムスペーサを備えることを除き、従来の表示装置と同様である。以下では、ブラックカラムスペーサの形成方法についてのみ説明する。

本発明に係るブラックカラムスペーサの形成方法は、本発明に係る感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、感光性樹脂層を所定のブラックカラムスペーサのパターンに応じて露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂層を現像して、ブラックカラムスペーサのパターンを形成する現像工程と、を含む。

まず、塗布工程では、ブラックカラムスペーサが形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて本発明に係る感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥により溶媒を除去して、感光性樹脂層を形成する。

次いで、露光工程では、ネガ型のマスクを介して、感光性樹脂層に紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射し、感光性樹脂層をブラックカラムスペーサのパターンに応じて部分的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば１０〜６００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。

なお、基板がＴＦＴ基板等の、基板上に素子が形成されたものである場合、素子上又は、素子が形成された基板と対になる基板の素子と対向する個所にブラックカラムスペーサを形成する必要がある場合がある。かかる場合、素子の高さを考慮して、素子が形成された個所と、その他の個所とで、ブラックカラムスペーサの高さを変える必要がある。そこで、このような場合には、ハーフトーンマスクを介して露光を行うのが好ましい。本発明に係る感光性樹脂組成物を用いれば、ハーフトーンマスクを介して露光を行うことにより、高さの異なるブラックカラムスペーサを容易に形成できる。

次いで、現像工程では、露光後の感光性樹脂層を現像液で現像することにより、ブラックカラムスペーサを形成する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

その後、現像後のブラックカラムスペーサにポストベークを施して加熱硬化する。ポストベークは、１５０〜２５０℃で１５〜６０分間が好ましい。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。

＜実施例１〜３、及び比較例１〜４＞
下記表１に示す各成分を混合し、固形分含有量が２０質量％となるように溶剤に溶解して感光性樹脂組成物を調製した。なお、溶剤としては、溶剤全体中、メトキシブチルアセテートが６５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＭ）１０質量％、シクロヘキサノン２５質量％となるように調整した。

表１中、各略号はそれぞれ以下のものを示し、括弧内の数値は感光性樹脂組成物中の固形分の部数（質量部）である。

（アルカリ可溶性樹脂）
Ａ−１：下記製造方法により得られた樹脂（固形分５５％、溶剤：３−メトキシブチルアセテート）

（光重合性モノマー）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート

（光重合開始剤）
ＯＸＥ０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２」）

（遮光剤）
下記構造のペリレン系顔料の分散液（固形分含有量：２０質量％、溶剤：３−メトキシブチルアセテート）を用いた。

ＡｇＳｎ分散液：銀錫合金微粒子分散液（平均粒子径２００〜３００ｎｍの銀錫合金微粒子２５質量％、分散剤：ＤＰＫ−１６４（ビックケミー製）３．７質量％、溶剤：３−メトキシブチルアセテート）
ＣＢ分散液：カーボンブラック分散液「ＣＦブラック」（商品名：御国色素社製、固形分含有量：２５質量％、溶剤：３−メトキシブチルアセテート）

なお、上記樹脂（Ａ−１）の合成法は下記のとおりである。
まず、５００ｍｌ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２３５）２３５ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１１０ｍｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール１００ｍｇ、及びアクリル酸７２．０ｇを仕込み、これに２５ｍｌ／分の速度で空気を吹き込みながら９０〜１００℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、１２０℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで１２時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式（ａ−４）で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート３０７．０ｇに３−メトキシブチルアセテート６００ｇを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物８０．５ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇを混合し、徐々に昇温して１１０〜１１５℃で４時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸３８．０ｇを混合し、９０℃で６時間反応させ、樹脂（Ａ−１）を得た。酸無水物基の消失はＩＲスペクトルにより確認した。
なお、この樹脂（Ａ−１）は、上記式（ａ−１）で表される樹脂に相当する。

［ＯＤ値の評価］
６インチのガラス基板（ダウ・コーニング製、１７３７ガラス）上に、実施例１〜３、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で６０秒間乾燥して感光性樹脂層を形成した。次いで、この感光性樹脂層に６０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量でｇｈｉ線を照射した。そして、２３０℃で２０分間、ホットプレート上でポストベークを行った。形成された遮光膜の膜厚は０．８μｍ、１．０μｍ、１．２μｍの３水準であった。この遮光膜について、Ｄ２００−ＩＩ（Ｍａｃｂｅｔｈ製）を用いて各膜厚におけるＯＤ値を測定し、近似曲線にて１μｍあたりのＯＤ値を算出した。結果を表２に示す。

［形状（Ｔ／Ｂ比）の評価］
６インチのガラス基板（ダウ・コーニング製、１７３７ガラス）上に、実施例１〜３、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で６０秒間乾燥して、膜厚３．０μｍの感光性樹脂層を形成した。次いで、この感光性樹脂層に、マスクサイズ３０μｍのネガマスクを介して、５０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量でｇｈｉ線を選択的に照射し、０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて２３℃で７０秒間、スプレー現像することにより、ブラックカラムスペーサを形成した。その後、２３０℃で２０分間、ホットプレート上でポストベークを行った。
そして、ポストベーク後のブラックカラムスペーサの最下部における径Ｂと、最上部近傍（最下部から９５％の膜厚部分）における径Ｔとを測定し、下記式によりＴ／Ｂ比を算出した。Ｔ／Ｂ比５０超を「○」と判定し、５０以下を「×」と判定した。結果を表２に示す。
Ｔ／Ｂ比＝（Ｔ／Ｂ）×１００

［アンダーカットの評価］
ＳＥＭにより、形状（Ｔ／Ｂ比）の評価において形成されたブラックカラムスペーサの断面形状を観察して、アンダーカットの発生の程度を評価した。アンダーカットが発生していないものを「○」と判定し、アンダーカットが発生しているものを「×」と判定した。結果を表２に示す。

［比誘電率の評価］
６インチのシリコンウエハ上に、実施例１〜３、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で６０秒間乾燥して感光性樹脂層を形成した。次いで、この感光性樹脂層に６０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量でｇｈｉ線を照射した。そして、２３０℃で２０分間、ホットプレート上でポストベークを行った。形成された遮光膜の膜厚は１．０μｍであった。この遮光膜について、誘電率測定装置ＳＳＭ４９５（日本ＳＳＭ製）を用いて、遮光膜の膜厚方向の真空に対する比誘電率（１ｋＨｚにおけるもの）を測定した。結果を表２に示す。

［ハーフトーン（ＨＴ）特性の評価］
６インチのガラス基板（ダウ・コーニング製、１７３７ガラス）上に、実施例１〜３、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で６０秒間乾燥して、膜厚３．０μｍの感光性樹脂層を形成した。次いで、この感光性樹脂層に、マスクサイズ３０μｍのネガマスクを介して、ｇｈｉ線を選択的に照射した。露光量を５〜５０ｍＪ／ｃｍ^２の範囲で変化させて露光を行った後、０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて２３℃で７０秒間、スプレー現像することにより、ブラックカラムスペーサを形成した。その後、必要露光量にて露光を行って形成されたブラックカラムスペーサに対して、２３０℃で２０分間、ホットプレート上でポストベークを行った。
なお、各実施例、及び比較例の感光性樹脂組成物について、ポストベーク後に膜圧３μｍのブラックカラムスペーサが形成されている露光量を、必要露光量と定めた。
次いで、露光量を必要露光量の１０％に変えることの他は、上記操作と同様の操作によって、実施例１〜３、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を用いてブラックカラムスペーサを形成した。
必要露光量で形成されたブラックカラムスペーサのポストベーク後の高さ（Ｈ_ＦＴ）と、必要露光量の１０％の露光量で形成されたブラックカラムスペーサのポストベーク後の高さ（Ｈ_ＨＴ）とを測定し、ΔＨ（＝Ｈ_ＦＴ−Ｈ_ＨＴ）によりハーフトーン特性を評価した。結果を表２に示す。

［密着性の評価］
６インチのガラス基板（ダウ・コーニング製、１７３７ガラス）上に、実施例１〜３、、及び比較例１〜４の感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃で６０秒間乾燥して、膜厚３．０μｍの感光性樹脂層を形成した。次いで、この感光性樹脂層に、マスクサイズ３０μｍのネガマスクを介して、５０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量でｇｈｉ線を選択的に照射し、０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて２３℃で７０秒間スプレー現像することにより、ブラックカラムスペーサを形成した。現像時間は、未露光部が完全に溶解されるまでの時間（ＢＰ：ブレイクポイント）を基準として、ＢＰの約１．５倍とした。その後、２３０℃で２０分間、ホットプレート上でポストベークを行った。
そして、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２にてブラックカラムスペーサを形成可能な最小マスク寸法を調べ、密着性の指標とした。結果を表２に示す。

表２によれば、ペリレン系黒色顔料と、銀錫合金微粒子及びカーボンブラックから選ばれる１種以上とを含む遮光剤を含有する、実施例１〜３の感光性樹脂組成物を用いる場合、１．０を以上の良好なＯＤ値と、４．５以下の低い比誘電率とを有し、Ｔ／Ｂ比が高く、現像時のアンダーカットの影響の少ない、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成できることが分かる。また、実施例１〜３の感光性樹脂組成物は、ハーフトーン特性が良好であり、実施例１〜３の感光性樹脂組成物によれば、基板への密着性に優れるブラックカラムスペーサを形成できた。

比較例１によれば、遮光剤としてカーボンブラックのみを含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されるブラックカラムスペーサは、比誘電率が著しく高く、Ｔ／Ｂ比が低く、基板への密着性に劣ることが分かる。また、比較例１の感光性樹脂組成物はハーフトーン特性に劣るものであった。

比較例２によれば、遮光剤として銀錫合金微粒子のみを含有する感光性樹脂組成物を用いてブラックカラムスペーサを形成する場合、ブラックカラムスペーサのＴ／Ｂ比が小さくなり、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成しにくいことが分かる。

比較例３によれば、遮光剤としてペリレン系黒色顔料のみを含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されるブラックカラムスペーサは、ＯＤ値が低く、遮光性に劣ることが分かる。

比較例４によれば、感光性樹脂組成物においてペリレン系黒色顔料を多量に用いることにより、形成されるブラックカラムスペーサのＯＤ値を改善することはできるが、この場合、現像時にブラックカラムスペーサがアンダーカットを受けやすくなり、良好な形状のブラックカラムスペーサを形成しにくいことが分かる。

Claims (9)

1. アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び遮光剤を含有し、
   前記遮光剤が、ペリレン系黒色顔料と、銀錫合金を主成分とする微粒子とを含むブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物。
2. 前記銀錫合金を主成分とする微粒子の含有量が、前記ペリレン系黒色顔料１００質量部に対して１〜１５０質量部である請求項１記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物。
3. 前記アルカリ可溶性樹脂が、カルド構造を有する樹脂を含有する請求項１又は２記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物。
4. さらに光吸収剤を含有する請求項１から３のいずれか１項記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物。
5. 該ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物からなる膜厚３μｍの感光性樹脂層を、ｇｈｉ線を用いて所定の露光量で露光し、０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて２３℃で７０秒間現像した後、２３０℃で２０分間、ポストベークを行って得られるブラックカラムスペーサの膜厚であって、前記所定の露光量が、厚さ３μｍのブラックカラムスペーサを形成するために必要な露光量であるときの膜厚Ｈ _ＦＴ と、前記所定の露光量が、前記必要露光量の１０％の露光量であるときの膜厚Ｈ_ＨＴとの差ΔＨ（＝Ｈ_ＦＴ−Ｈ_ＨＴ）が６０００〜８０００Åである請求項１から４のいずれか１項記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物。
6. 請求項１から５のいずれか１項記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物から形成されたブラックカラムスペーサ。
7. 請求項６記載のブラックカラムスペーサを備える表示装置。
8. 請求項１から５のいずれか１項記載のブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、
   前記感光性樹脂層を所定のスペーサのパターンに応じて露光する露光工程と、
   露光後の感光性樹脂層を現像して、スペーサのパターンを形成する現像工程と、を含むブラックカラムスペーサの形成方法。
9. 前記露光工程において、ハーフトーンマスクを介して露光が行われる、請求項８記載のブラックカラムスペーサの形成方法。