JP5916010B2 - シリコンからのホウ素除去方法 - Google Patents
シリコンからのホウ素除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5916010B2 JP5916010B2 JP2012031993A JP2012031993A JP5916010B2 JP 5916010 B2 JP5916010 B2 JP 5916010B2 JP 2012031993 A JP2012031993 A JP 2012031993A JP 2012031993 A JP2012031993 A JP 2012031993A JP 5916010 B2 JP5916010 B2 JP 5916010B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boron
- slag
- silicon
- alloy
- crucible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/037—Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
本発明の第一実施形態に係る、シリコンからのホウ素除去方法について、図1を用いて説明する。図1(a)〜(f)は、シリコン(Si)の原料からホウ素(B)を除去する際に行う、各工程処理について説明する図である。図1の工程一覧表は、図1(a)〜(f)を用いて説明する各工程処理中における、坩堝、シリコンまたはシリコン合金、スラグの温度、および坩堝周囲の雰囲気についてまとめたものである。
実施例1について、説明する。まず、抵抗加熱炉を1400[℃]に加熱制御し、炉心管内にアルゴンガスを200[ml/min]のレートにて流通させた。
実施例2について、説明する。まず、抵抗加熱炉を1400[℃]に加熱制御し、炉心管内にアルゴンガスを200[ml/min]のレートにて流通させた。
合金に対するスズの含有量と、ホウ素の除去しやすさとの関係を調べるために行った、実験例1について図2を用いて説明する。図2は、合金に含まれたスズのモル濃度と、合金中に含まれたホウ素の蒸気圧との関係を示したグラフである。グラフの縦軸は、ホウ素の蒸気圧の対数log(P)を示し、グラフの横軸はスズのモル濃度を示している。
ホウ素の分配比((スラグ中のホウ素濃度)/(シリコン中のホウ素濃度))に対して、スラグの組成が与える影響を調べるために行った、実験例2について図3〜5を用いて説明する。
合金に含まれるホウ素の分配比に対して、スズの含有量が与える影響を調べるために行った、実験例3について図6を用いて説明する。
Claims (7)
- ホウ素を含むシリコンからなる第一部材およびスズからなる第二部材を坩堝に収容し、該坩堝内において両者を加熱して溶融させ、所望の合金を作製する第一工程と、
前記第一工程を経た坩堝内にスラグを加え、該スラグにより前記合金の表層部が覆われた状態として、該スラグと前記合金とを加熱して反応させ、該合金から該スラグへ前記ホウ素を移動させる第二工程と、
前記第二工程後に、前記坩堝から前記スラグを取り除き、該坩堝内を合金のみとする第三工程と、を含むことを特徴とするシリコンからのホウ素除去方法。 - 前記第二部材が、前記第一部材に対して、モル数で0.3〜3倍量となるように調合されることを特徴とする請求項1に記載のシリコンからのホウ素除去方法。
- 前記スラグとして、酸素が含まれた材料を用いることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のシリコンからのホウ素除去方法。
- 前記第一工程および前記第二工程が、大気圧下にて行われることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のシリコンからのホウ素除去方法。
- 前記第一工程および前記第二工程が、減圧下にて行われることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のシリコンからのホウ素除去方法。
- 前記第一工程および前記第二工程が、不活性ガスを含む雰囲気中にて行われることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のシリコンからのホウ素除去方法。
- 前記合金の表層部を覆う前記スラグ上の空間内において、
前記不活性ガスを流通させることを特徴とする請求項6に記載のシリコンからのホウ素除去方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012031993A JP5916010B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | シリコンからのホウ素除去方法 |
PCT/JP2013/052867 WO2013121970A1 (ja) | 2012-02-16 | 2013-02-07 | シリコンからのホウ素除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012031993A JP5916010B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | シリコンからのホウ素除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013166674A JP2013166674A (ja) | 2013-08-29 |
JP5916010B2 true JP5916010B2 (ja) | 2016-05-11 |
Family
ID=48984082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012031993A Expired - Fee Related JP5916010B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | シリコンからのホウ素除去方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5916010B2 (ja) |
WO (1) | WO2013121970A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106744978B (zh) * | 2016-12-09 | 2019-03-12 | 成都斯力康科技股份有限公司 | 一种利用硅渣进行熔炼生产硅锭的工艺 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4671871B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2011-04-20 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | シリコンの精錬方法 |
-
2012
- 2012-02-16 JP JP2012031993A patent/JP5916010B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-02-07 WO PCT/JP2013/052867 patent/WO2013121970A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013121970A1 (ja) | 2013-08-22 |
JP2013166674A (ja) | 2013-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Chen et al. | Boron removal for solar-grade silicon production by metallurgical route: A review | |
US8329133B2 (en) | Method and apparatus for refining metallurgical grade silicon to produce solar grade silicon | |
CN101018877B (zh) | 精制金属的方法 | |
JP4766837B2 (ja) | シリコンからのホウ素除去方法 | |
JP5311930B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
Lynch | Winning the global race for solar silicon | |
JP5768714B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
US9422611B2 (en) | Al—Sc alloy manufacturing method | |
JP2005529058A (ja) | 炭素含有るつぼ中において希土類塩化物、臭化物もしくは沃化物を処理する方法 | |
US7959707B2 (en) | Methods for producing consolidated materials | |
CN102534262A (zh) | 一种用于生产海绵钛的蒸馏设备 | |
CA2994466A1 (en) | Silica to high purity silicon production process | |
US4446120A (en) | Method of preparing silicon from sodium fluosilicate | |
JP4835867B2 (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP5916010B2 (ja) | シリコンからのホウ素除去方法 | |
Kwon et al. | Impurity stabilization of phases with the manganese silicide (Mn5Si3)-type structure: Questions regarding lanthanum-tin (La5Sn3) and zirconium silicide (Zr5Si3) | |
Lu et al. | Improved removal of boron from metallurgical-grade Si by CaO-SiO2-CaCl2 slag refining with intermittent CaCl2 addition | |
JP2004068082A (ja) | 希土類金属の回収方法 | |
WO2003078319A1 (fr) | Procede pour purifier du silicium, silicium ainsi produit et cellule solaire | |
Villazon et al. | Melt‐synthesis of LiFePO4 over a metallic bath | |
JP2012254894A (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP5191153B2 (ja) | フッ化金属用加熱溶融炉に用いる断熱材の再生方法 | |
JP5534434B2 (ja) | シリコンの精製方法 | |
WO2010126016A1 (ja) | フラックスの不純物除去方法 | |
JPS6338541A (ja) | インジウムの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160301 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160330 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5916010 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |