JP5911903B2 - レーザ光の強度分布を計測するビームプロファイラ、レーザ発振器、およびレーザ加工装置 - Google Patents
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- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims description 108
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 55
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 48
- 230000006870 function Effects 0.000 description 34
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 19
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 14
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
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- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/0648—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J11/00—Measuring the characteristics of individual optical pulses or of optical pulse trains
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/139—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08018—Mode suppression
- H01S3/0804—Transverse or lateral modes
- H01S3/08045—Single-mode emission
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- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
12,142,168,188 制御部
14,15,72,102 レーザ光検出部
24 部分反射鏡
26,28,30,74,76,104,106,108,110,112 受光部
50,52,54,88,90,130,132,134,136,138 レーザ強度センサ
Claims (13)
- レーザ発振器から出射されたレーザ光を受光して該レーザ光の強度分布を計測するビームプロファイラであって、
前記レーザ発振器から出射された前記レーザ光の光路の上に配置される部分反射鏡と、
前記部分反射鏡を透過したレーザ光のレーザ照射領域のうち、互いに異なる領域を各々受光する複数の受光部であって、レーザ光の光軸と中心が略一致するように配置される第1の受光部を有する、複数の受光部と、
前記複数の受光部に個別に取り付けられ、該複数の受光部の各々で受光された前記レーザ光の強度を感知する複数のレーザ強度センサと、
前記複数の受光部に取り付けられた前記複数のレーザ強度センサからの出力の中で、前記第1の受光部に取り付けられた前記レーザ強度センサからの第1の出力が最大であるか否かを判断する光軸ずれ判断部と、を備える、ビームプロファイラ。 - 前記レーザ強度センサは、熱電対、サーモパイル、サーミスタ、または白金測温抵抗体を含む、請求項1に記載のビームプロファイラ。
- 前記レーザ強度センサは、歪みゲージを含む、請求項1に記載のビームプロファイラ。
- 前記第1の受光部は、円形部材であり、
前記複数の受光部は、前記第1の受光部から熱的に絶縁される第2の受光部を有し、
前記第2の受光部は、前記第1の受光部と同心に配置された円環部材である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のビームプロファイラ。 - 前記複数の受光部は、前記第1の受光部から熱的に絶縁される第2の受光部を有し、
前記第2の受光部の中心が前記第1の受光部の前記中心よりも前記レーザ照射領域の外縁に近くなるように、前記第2の受光部は、前記第1の受光部に対して位置決めされる、請求項1〜3のいずれか1項に記載のビームプロファイラ。 - 前記複数のレーザ強度センサからの出力に基づいて、前記複数の受光部によって受光された前記レーザ光のレーザパワーを算出するレーザパワー演算部をさらに備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載のビームプロファイラ。
- 前記レーザパワーが、予め定められた閾値の範囲内にあるか否かを判断するレーザパワー判断部をさらに備える、請求項6に記載のビームプロファイラ。
- 前記レーザパワー演算部は、前記複数のレーザ強度センサからの出力の和を算出し、
前記レーザパワー判断部は、前記和が予め定められた閾値の範囲内にあるか否かを判断する、請求項7に記載のビームプロファイラ。 - 前記複数のレーザ強度センサからの前記出力に基づいて、前記レーザ光の強度分布を算出する分布算出部をさらに備える、請求項1〜8のいずれか1項に記載のビームプロファイラ。
- 前記レーザ光の強度分布が予め定められた閾値の範囲内にあるか否かを判断する分布判断部をさらに備える、請求項9に記載のビームプロファイラ。
- 前記複数の受光部は、前記第1の受光部から熱的に絶縁される第2の受光部を有し、
前記分布判断部は、
前記第1の出力が第1の前記閾値の範囲内にあるか否かを判断し、且つ、
前記第2の受光部に取り付けられた前記レーザ強度センサからの第2の出力が第2の前記閾値の範囲内にあるか否かを判断する、請求項10に記載のビームプロファイラ。 - 前記分布判断部が、前記レーザ光の強度分布が予め定められた閾値の範囲内にないと判断し、且つ、前記光軸ずれ判断部が、前記第1の出力が最大であると判断した場合に、ユーザに対する第1の警告を生成し、
前記分布判断部が、前記レーザ光の強度分布が予め定められた閾値の範囲内にないと判断し、且つ、前記光軸ずれ判断部が、前記第1の出力が最大でないと判断した場合に、前記第1の警告とは異なる第2の警告を生成する警告生成部をさらに備える、請求項10または11に記載のビームプロファイラ。 - 前記レーザ発振器と、
請求項1〜12のいずれか1項に記載のビームプロファイラと、を備える、レーザ加工装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014070055A JP5911903B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | レーザ光の強度分布を計測するビームプロファイラ、レーザ発振器、およびレーザ加工装置 |
DE102015003697.1A DE102015003697B4 (de) | 2014-03-28 | 2015-03-20 | Strahlprofilmessgerät mit Messung der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls und Laser-Bearbeitungsvorrichtung |
US14/666,501 US9304036B2 (en) | 2014-03-28 | 2015-03-24 | Beam profiler measuring intensity distribution of laser beam, laser oscillator, and laser processing device |
CN201510136956.9A CN104942429B (zh) | 2014-03-28 | 2015-03-26 | 光束分析仪以及激光加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014070055A JP5911903B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | レーザ光の強度分布を計測するビームプロファイラ、レーザ発振器、およびレーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015190934A JP2015190934A (ja) | 2015-11-02 |
JP5911903B2 true JP5911903B2 (ja) | 2016-04-27 |
Family
ID=54066895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014070055A Active JP5911903B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | レーザ光の強度分布を計測するビームプロファイラ、レーザ発振器、およびレーザ加工装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9304036B2 (ja) |
JP (1) | JP5911903B2 (ja) |
CN (1) | CN104942429B (ja) |
DE (1) | DE102015003697B4 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6254985B2 (ja) * | 2015-09-17 | 2017-12-27 | ファナック株式会社 | レーザ光路内の不純ガスを監視するレーザ加工システム |
JP6825234B2 (ja) * | 2016-06-03 | 2021-02-03 | 株式会社リコー | 計測装置、計測方法、加工装置、および被加工物の生産方法 |
CN106644098A (zh) * | 2017-02-27 | 2017-05-10 | 杭州博源光电科技有限公司 | 一种大功率无线光功率计 |
JP6553688B2 (ja) * | 2017-08-23 | 2019-07-31 | ファナック株式会社 | レーザ加工前に光学系の汚染検出を行うレーザ加工装置 |
JP7334165B2 (ja) * | 2018-02-20 | 2023-08-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | センサシステム |
JP6740299B2 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-08-12 | ファナック株式会社 | 加工条件調整装置及び機械学習装置 |
JP7299597B2 (ja) | 2018-12-27 | 2023-06-28 | 国立大学法人 東京大学 | レーザ加工におけるレーザ光強度への依存性の判定方法及びレーザ加工装置 |
CN114764190B (zh) * | 2021-01-11 | 2024-02-09 | 深圳市大族数控科技股份有限公司 | 激光加工设备自动校正方法及计算机设备 |
CN114485930B (zh) * | 2022-04-15 | 2022-07-22 | 宜科(天津)电子有限公司 | 激光光斑图像处理系统 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6215416A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ光エネルギ分布測定器 |
JPH06215416A (ja) | 1993-01-14 | 1994-08-05 | Nec Corp | 光ディスク媒体および光ディスクカートリッジおよび光ディスク再生装置 |
US5424538A (en) * | 1993-02-10 | 1995-06-13 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Scanning optical system having first and second knife edge detectors and first and second rise time detection circuits |
IT1290576B1 (it) * | 1997-03-07 | 1998-12-10 | Cise Spa | Dispositivo per la rilevazione di parametri ottici di un fascio laser |
JPH10328874A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Tanaka Seisakusho Kk | レーザ位置検出器およびレーザ加工機 |
JP3385218B2 (ja) * | 1998-09-16 | 2003-03-10 | 三菱電機株式会社 | レーザビーム光軸ずれ検出装置 |
JP2001177165A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-06-29 | Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 加工用レーザ装置の光学部品モニタ装置 |
JP4133422B2 (ja) * | 2003-02-20 | 2008-08-13 | シャープ株式会社 | 球面収差測定装置 |
JP2005322855A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Nikon Corp | 光強度分布の評価方法、調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
WO2006129473A1 (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Phoeton Corp. | レーザー加工装置及びレーザー加工方法 |
JP2007133956A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Hitachi Ltd | 光ディスク装置 |
WO2009066370A1 (ja) * | 2007-11-20 | 2009-05-28 | Mitsubishi Electric Corporation | レーザ発振器内出射ミラーの劣化状態測定方法およびレーザ加工装置 |
JP5185698B2 (ja) * | 2008-06-05 | 2013-04-17 | 三菱重工業株式会社 | プロファイル測定装置及びレーザ光のプロファイル測定方法 |
JP5324202B2 (ja) | 2008-12-12 | 2013-10-23 | ファナック株式会社 | レーザ発振器を備えたレーザ加工機 |
JP2010249727A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ光強度測定方法およびカメラ付き携帯電話 |
JP5931537B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-06-08 | 東レエンジニアリング株式会社 | レーザの光軸アライメント方法およびそれを用いたレーザ加工装置 |
JP2015182104A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | ファナック株式会社 | レーザ光の伝播監視機能を備えたレーザ加工機 |
-
2014
- 2014-03-28 JP JP2014070055A patent/JP5911903B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-20 DE DE102015003697.1A patent/DE102015003697B4/de active Active
- 2015-03-24 US US14/666,501 patent/US9304036B2/en active Active
- 2015-03-26 CN CN201510136956.9A patent/CN104942429B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104942429B (zh) | 2017-07-07 |
US9304036B2 (en) | 2016-04-05 |
DE102015003697B4 (de) | 2021-03-04 |
CN104942429A (zh) | 2015-09-30 |
US20150276473A1 (en) | 2015-10-01 |
DE102015003697A1 (de) | 2015-10-01 |
JP2015190934A (ja) | 2015-11-02 |
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