JP5908857B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る成膜装置100の全体構成を示す概略構成図である。図1に示す成膜装置100は、成膜対象物である基板101(例えばガラス基板)に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えばRPD法(反応性プラズマ蒸着法)による成膜を行う装置である。成膜装置100は、プラズマを生成するプラズマガンを備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料(蒸着源140)をイオン化し、成膜材料の粒子を基板101の表面に付着させることにより成膜を行う。説明の便宜上、図1には、XYZ座標系を示す。Y軸方向は、基板101が搬送される方向である。Z軸方向は、上下方向を示しており、本実施形態では基板101と蒸着源140とが対向する方向である。X軸方向は、Y軸方向とZ軸方向とに直交する方向である。なお、第1実施形態では、基板101の板厚方向が略鉛直方向となるように基板101が真空容器内に配置されて搬送されるいわゆる横型の成膜装置を例示している。ただし、後述の第3実施形態に示す例では、基板101の板厚方向が水平方向となるように、基板101を直立又は直立させた状態から傾斜した状態で、基板101が真空チャンバ内に配置されて搬送される、いわゆる縦型の成膜装置であってもよい。この場合は、横型の成膜装置とはX軸とZ軸とが入れ替わり、X軸方向において、基板101と蒸着源140が対向する。
図8は、第2実施形態に係る成膜装置200の断面図であって、図2に対応する図である。図9は、本実施形態に係る開閉機構を模式的に示した概念図である。第2実施形態に係る成膜装置200は、第1実施形態に係る成膜装置100よりも小型の成膜装置であり、内側回転軸受部41及び内側支持軸受部42を有していない点で第1の実施形態に係る成膜装置100と主に相違する。
図10は、第3実施形態に係る成膜装置300の断面図であって、図1に示すX−X線に沿った断面図である。図11は、本実施形態に係る開閉機構を模式的に示した概念図である。図12は、図10中においてE3で示す部分の拡大図である。第3実施形態に係る成膜装置300は、縦型の成膜装置である点において、第1実施形態に係る成膜装置100と相違しており、クロスチューブ332を分割している点で、第1の実施形態に係る成膜装置100と主に相違する。
Claims (3)
- 成膜材料の粒子を成膜対象物に付着させる成膜装置であって、
前記成膜対象物を搬入又は搬出するための孔部を有する真空チャンバと、
前記孔部を閉じる位置と、前記孔部を介して搬入又は搬出される前記成膜対象物と干渉しない位置との間で移動可能であって、長手方向に延びる弁体と、
前記弁体の前記長手方向に沿って延び、前記弁体に接続された管状部材と、
少なくとも一部が前記管状部材の内部に進入し、前記弁体の前記長手方向における中央位置にて、前記管状部材に締結された棒状部材と、
前記棒状部材に回転駆動力を付与する回転駆動部と、
を備える、成膜装置。 - 前記真空チャンバの内部において、前記棒状部材を回転可能に支持する第1の軸受部を更に備える、請求項1に記載の成膜装置。
- 前記管状部材は、前記弁体の前記長手方向に沿って分割されており、
分割された前記管状部材同士の間には、前記棒状部材が進入していると共に、前記棒状部材を回転可能に支持する第2の軸受部が設けられている、請求項1又は2に記載の成膜装置。
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