JP5905830B2 - 処理を行うための装置で使用する表面改善壁部を形成する方法、表面改善壁部、及び、表面改善壁部を組み入れた装置 - Google Patents
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Description
表面改善管を作る方法(図17)
円管(図18A〜図18C)
矩形管(図19A〜図19C)
U字形管(図20A〜図20C)
円管から形成されたコイル(図21A〜図21D)
表面改善フィンの製造方法(図22)
冷却管開口部及びフロー・スルー開口部を有するフィン(図23A〜図25E)
改良された熱交換器(図26)
改良された冷却器(図27A〜図27E)
改良された流体流動容器(図28)
改良された熱交換器平板(図29A〜図29B)
変更
Claims (34)
- 処理を行うための装置で使用する表面改善壁部を形成する方法において、
両側に初期表面を有する1本の材料を用意するステップであって、前記材料が前記初期表面の間の実質的に中ほどに位置する長手方向中心線を有し、前記材料が、前記中心線から、前記初期表面のどちらか一方の、前記中心線から最も遠くにある位置まで測定された初期横断寸法を有し、前記初期表面の各々が初期面密度を有し、前記面密度が単位投影表面積あたりの表面にある特徴部の数として定義される、ステップと、
2次模様面密度を有する2次模様を前記初期表面の各々に型押しして、前記材料をゆがめ、且つ、前記表面の各々の面密度を増大させ、且つ、前記中心線からこのようなゆがめられた材料の最も遠い位置までの前記材料の横断寸法を増大させるステップであって、前記中心線から前記ゆがめられた材料の最も遠い位置までの前記材料の最大横断寸法を、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方の最も遠い位置までの最大横断寸法の150%まで増大させるステップと、
1次模様面密度を有する1次模様をこのようなゆがめられた表面の各々に型押しして、前記材料をさらにゆがめ、且つ、各々の前記表面の面密度をさらに増大させるステップであって、前記中心線から、このようなさらにゆがめられた表面のどちらか一方にある任意の位置まで測定した場合のこのようなさらにゆがめられた材料の最小寸法を、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方の最も遠い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法の50%より減少させないステップと
を含み、
これにより、処理を行うための装置で使用する表面改善壁部を提供する、方法。 - 各2次模様面密度は、各1次模様面密度よりも大きい、請求項1に記載の方法。
- 前記2次模様を前記初期表面の各々に型押しするステップは、
前記材料を冷間加工する追加のステップを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記ゆがめられた表面の各々に前記1次模様を型押しするステップは、
前記材料を冷間加工する追加のステップを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記初期表面の各々に型押された前記2次模様の各々は、同じものである、請求項1に記載の方法。
- 前記2次模様は、前記中心線から一方のゆがめられた表面までの最大寸法が、前記中心線から他方のゆがめられた表面までの最小寸法に対応するように、互いに位置がずらされている、請求項5に記載の方法。
- 前記2次模様を前記材料に型押しするステップは、このようなゆがめられた表面の一方にある任意の位置から、このようなゆがめられた表面の反対側の方にある最も近い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法を、前記初期表面の一方にある任意の位置から、反対側の初期表面にある最も近い位置までの最小寸法の95%より減少させない、請求項1に記載の方法。
- 前記2次模様を前記材料に型押しするステップは、このようなゆがめられた表面の一方にある任意の位置から、このようなゆがめられた表面の反対側の方にある最も近い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法を、前記初期表面の一方にある任意の位置から、反対側の初期表面にある最も近い位置までの最小寸法の50%より減少させない、請求項1に記載の方法。
- 前記このようなゆがめられた表面の各々に型押された前記1次模様の各々は、同じものである、請求項1に記載の方法。
- 前記1次模様は、前記中心線から一方のさらにゆがめられた表面までの最大寸法が、前記中心線から他方のさらにゆがめられた表面までの最小寸法に対応するように、互いに位置がずらされている、請求項9に記載の方法。
- 前記1次模様を前記材料に型押しするステップは、前記中心線から、このようなさらにゆがめられた表面のどちらか一方にある任意の位置まで測定した場合のこのようなさらにゆがめられた材料の最小寸法を、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方の最も遠い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法の95%より減少させない、請求項1に記載の方法。
- 前記材料のはじめの両面は、平坦である、請求項1に記載の方法。
- 前記模様を型押しするステップは、型打ち作業及び圧延作業の少なくとも一方によって前記模様を型押しするステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記表面改善壁部を最も近い端部が互いに隣接して位置するように曲げる追加のステップと、
前記材料の最も近い端部を接合する追加のステップと、をさらに含み、
これにより表面改善管を形成する、請求項1に記載の方法。 - 前記材料の最も近い端部を接合するステップは、
前記材料の最も近い端部を溶接して接合するさらなるステップ、を含む、請求項14に記載の方法。 - 前記材料に穴を通す追加のステップ、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記表面改善壁部を熱伝達機器に取り付ける追加のステップ
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記表面改善壁部を流体処理装置に取り付ける追加ステップ
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記1次模様に方向性がある、請求項1から18までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記2次模様に方向性がない、請求項1から19までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記表面改善壁部は、以下のASME/ASTM規格、A249/A、A135、A370、A751、E213、E273、E309、E1806、A691、A139、A213、A214、A268、A269、A270、A312、A334、A335、A498、A631、A671、A688、A691、A778、A299/A、A789、A789/A、A789/M、A790、A803、A480、A763、A941、A1016、A1012、A1047/A、A250、A771、A826、A851、B674、E112、A370、A999、E381、E426、E527、E340、A409、A358、A262、A240、A537、A530、A435、A387、A299、A204、A20、A577、A578、A285、E165、A380、A262、及び、A179、の1つを満たす、請求項1から20までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記材料は均一である、請求項1から21までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記材料は、前記初期表面の少なくとも一方にコーティングが施されている、請求項1から22までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記材料が化学的に処理されている、請求項請求項1から23までのいずれか1項に記載の方法。
- 処理を行うための装置で使用する表面改善壁部において、
両側に初期表面を有する1本の材料であって、前記初期表面の間の実質的に中ほどに位置する長手方向中心線を有し、前記中心線から、前記初期表面のどちらか一方にあり、前記中心線から最も遠くにある位置まで測定された初期横断寸法を有し、前記初期表面の各々が初期面密度を有し、前記面密度が単位投影表面積あたりの表面にある特徴部の数として定義される、材料と、
前記初期表面の各々に型押しの凸部と凹部を有する2次模様であって、前記材料をゆがめ、且つ、前記初期表面の各々の面密度を増大させ、且つ、前記中心線からこのようなゆがめられた材料の最も遠い位置までの前記材料の横断寸法を増大させる、2次模様面密度を有する2次模様の各々であって、
前記中心線からこのようなゆがめられた材料の最も遠い位置までの前記材料の最大横断寸法は、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方の最も遠い位置までの最大横断寸法の150%より小さい、2次模様と、
このようなゆがめられた表面の各々に型押しのさらなる凸部と凹部を有し、且つ、前記中心線から、このようなさらにゆがめられた表面のどちらか一方の最も遠い位置までの寸法をさらに増大させるために前記材料をさらにゆがめ、且つ、このようなさらにゆがめられた表面の各々の面密度をさらに増大させる、1次模様面密度を有する1次模様の各々であって、
前記中心線からこのようなさらにゆがめられた表面のどちらか一方にある任意の位置まで測定した場合のこのようなさらにゆがめられた材料の最小寸法は、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方の最も遠い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法の少なくとも50%である、1次模様と
を備える、表面改善壁部。 - 各2次模様面密度は、各1次模様面密度よりも大きい、請求項25に記載の表面改善壁部。
- 前記初期表面の各々に型押しの凸部と凹部を有する前記2次模様の各々は、同じものである、請求項25に記載の表面改善壁部。
- 前記2次模様は、前記中心線から一方のゆがめられた表面までの最大寸法が、前記中心線から他方のゆがめられた表面までの最小寸法に対応するように、互いに対して位置がずらされている、請求項25に記載の表面改善壁部。
- このようなゆがめられた表面の一方にある任意の位置から、このようなゆがめられた表面の反対側の方にある最も近い位置まで測定した場合の前記材料の最小寸法は、前記初期表面の一方にある任意の位置から、反対側の初期表面にある最も近い位置までの最小寸法の少なくとも95%ある、請求項25に記載の表面改善壁部。
- 前記このようなゆがめられた表面の各々に型押しのさらなる凸部と凹部を有する前記1次模様の各々は、同じものである、請求項25に記載の表面改善壁部。
- 前記1次模様は、前記中心線から一方のさらにゆがめられた表面までの最大寸法が、前記中心線から他方のさらにゆがめられた表面までの最小寸法に対応するように、互いに対して位置がずらされている、請求項30に記載の表面改善壁部。
- 前記中心線から、このようなさらにゆがめられた表面のどちらか一方にある任意の位置まで測定した場合のこのようなさらにゆがめられた材料の最小寸法は、前記中心線から前記初期表面のどちらか一方まで測定した場合の前記材料の最小寸法の少なくとも95%である、請求項25に記載の表面改善壁部。
- 請求項25から32までのいずれか1項によって定義される表面改善壁部を組み入れた熱交換器。
- 請求項25から32までのいずれか1項によって定義される表面改善壁部を組み込んだ流体処理装置。
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---|---|---|---|
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