JP5901581B2 - 光学部材用粘着剤組成物、および光学部材 - Google Patents

Description

本発明は、粘着剤組成物、光学部材、および表面保護シートに関する。

陰極線において見られるように、フラットディスプレイパネル表面においても静電気が
帯電しやすい。フラットディスプレイパネル表面に静電気が帯電すると、空気中のほこり
がしばしば表示パネルに引き付けられうる。また、静電気は、フラットディスプレイパネ
ルを構成する基材の表示回路、またはパネル中の液晶分子の配向に悪影響を及ぼしうる。
これによって、表示不良を引き起こしうる。

フラットディスプレイパネルの表示性能の試験を行う場合、光学的に障害となりうる表
面保護フィルムを取り除く必要がある。表面保護フィルムを取り除く際には、工程時間を
短縮するために、約１０ｍ／分の速度で剥離させる。このような比較的速い速度で表面保
護フィルムを剥離すると、表示面に静電気が帯電しやすくなる。

そこで従来から、光学フィルムの粘着層または表面保護フィルムに帯電防止剤が含有さ
れている、または別個の帯電防止層のフラットディスプレイパネルが提供されている。

例えば、従来技術では、片面または両面に帯電防止層、二色性偏光板、および１／４波
長板を含む偏光部材を有するコレステリック液晶層が提供される。さらに、他の従来技術
では、ベースフィルム、第四級アンモニウム塩を含む帯電防止層、および粘着層をこの順
に含む帯電防止性粘着シートを有するフラットディスプレイパネルが提供される。

しかしながら、前記従来技術では、別々の工程で帯電防止層および粘着層を形成させる
ため、これらの従来技術では生産性が低い。

一方、最近の技術として、光学フィルムの粘着層または表面保護フィルムに帯電防止剤
が含まれると、前記粘着剤が帯電防止能を有するため、粘着性フィルムおよび帯電防止層
を別々に形成する工程を省略できる。しかしながら、粘着層を光学フィルムまたは表面保
護シート上に粘着剤組成物をコーティングさせて形成する場合、粘着層を形成するための
エージング時間が長くなる結果、不十分な帯電防止性能および生産性の低下の問題が生じ
うる。

本発明は、上記のような従来の技術上の問題点を解決するために着想されたものであり
、本発明の実施様態では、エージング時間が短い結果、高い生産性を有し、良好な帯電防
止能を示す粘着層の形成を可能にしうる粘着剤組成物、並びにこれを含む光学部材および
表面保護フィルムを提供する。

本発明の上記および他の実施様態は、以下の提供によって達成されうる。

本発明の実施様態によれば、粘着剤組成物は、水酸基含有アクリルアミド、水酸基含有
メタアクリルアミドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される水酸基含有（メ
タ）アクリルアミド（ａ１）と、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびこれ
らの組み合わせからなる群から選択される（メタ）アクリレート（ａ２）と、が共重合さ
れて形成される共重合体（Ａ）、およびイオン性化合物を含む帯電防止剤（Ｂ）を含む。

前記水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）は、Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ１）ＡＣＯＮＨＣ
Ｈ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ_３であり、Ａは（ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ、
ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＯＣ−ＣＨ_２ＣＨ_２、単結合、および下記化学式１で表される化合
物１から選択される１つであり、ｎは１または２である）でありうる。

前記共重合体（Ａ）は架橋されていてもよい。

本発明の他の実施様態によれば、光学部材は、光学シートの片面または両面に塗布され
た上記項目のいずれか１つによる粘着剤組成物を含む。

本発明のさらに他の実施様態によれば、表面保護フィルムは、保護フィルムと、前記保
護フィルムの片面または両面に形成された粘着層と、を含み、前記粘着層は、前記保護フ
ィルムの片面または両面に塗布された上記項目のいずれか１つによる粘着剤組成物を含む
。

本発明の一実施形態によれば、前記粘着剤組成物は、エージング時間が短い結果、高い
生産性を有し、良好な帯電防止能を示す粘着層の形成を可能にしうる。

本発明の他の実施形態によれば、光学部材は、光学シートの片面または両面に塗布され
る粘着剤組成物を含み、これによってエージング時間が短くなる結果、高い生産性を有し
、同時に良好な帯電防止性能を示す。

本発明のさらなる実施形態によれば、前記表面保護シートは、保護フィルムと、前記保
護フィルムの片面または両面に粘着剤組成物を含む粘着層と、を含み、これによって、エ
ージング時間が短くなる結果、高い生産性を有し、同時に良好な帯電防止性能を示す。

本発明の一実施形態によれば、粘着剤組成物は、水酸基含有アクリルアミド、水酸基含
有メタアクリルアミドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される水酸基含有（
メタ）アクリルアミド（ａ１）と、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびこ
れらの組み合わせからなる群から選択される（メタ）アクリレート（ａ２）と、が共重合
されて形成される共重合体（Ａ）、およびイオン性化合物を含む帯電防止剤（Ｂ）を含む
。

前記粘着剤組成物において、前記水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）は、Ｈ_２
Ｃ＝Ｃ（Ｒ１）ＡＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ_３であり、Ａは
（ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ、ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＯＣ−ＣＨ_２ＣＨ_２、単結合、および
下記化学式１で表される化合物（１）から選択される１つであり、ｎは１または２である
）でありうる。

さらに、前記共重合体（Ａ）は架橋されていてもよい。

本発明の他の実施形態によれば、光学部材は、光学シートの片面または両面に塗布され
た上記いずれか１つによる粘着剤組成物を含む。

さらに、本発明の実施形態によれば、表面保護フィルムは、保護フィルムと、前記保護
フィルムの片面または両面に形成された粘着層と、を含む。ここで前記粘着層は、前記保
護フィルムの片面または両面に塗布された上記項目のいずれか１つによる粘着剤組成物を
含む。

以下、本発明の具体的な実施形態を詳細に説明する。

「粘着剤組成物」
本発明の一実施形態によれば、粘着剤組成物は、水酸基含有アクリルアミド、水酸基含
有メタアクリルアミドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される水酸基含有（
メタ）アクリルアミド（ａ１）と、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびこ
れらの組み合わせからなる群から選択される（メタ）アクリレート（ａ２）と、が共重合
されて形成される共重合体（Ａ）、およびイオン性化合物を含む帯電防止剤（Ｂ）を含む
。

ベースポリマー（Ａ）は架橋剤によって架橋されていてもよい。前記帯電防止剤は、光
学シートまたは保護フィルムなどの基材に粘着剤組成物を塗布することによって形成され
る粘着層が、例えば、約１×１０⁸〜１×１０^１１Ω／ｃｍ^２の表面抵抗値を有するよう
に、前記ベースポリマー（Ａ）に添加される。

「ベースポリマー」
本発明の本実施形態によれば、ベースポリマーは、水酸基含有アクリルアミド、水酸基
含有メタアクリルアミドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される１つ（以下
、水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）と称する）と、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される１つ（以下、（
メタ）アクリレート（ａ２）と称する）と、が共重合されて形成される。

本実施形態による粘着剤組成物が光学部材に使用される場合、前記ベースポリマー（Ａ
）は、ベースポリマー（Ａ）の全重量に対して、水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ
１）０．１〜５重量％を含みうる。ベースポリマー（Ａ）中の水酸基含有（メタ）アクリ
ルアミド（ａ１）の含量が０．１重量％未満であると、帯電防止性能の向上が不十分であ
る可能性がある。ベースポリマー（Ａ）中の水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）
の含量が５重量％を超えると、耐久性が不十分となる可能性がある。

さらに、本実施形態による粘着剤組成物が表面保護シートに使用される場合、粘着剤組
成物を用いる場合、前記ベースポリマー（Ａ）は、ベースポリマー（Ａ）の全重量に対し
て、水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）０．１〜１０重量％を含みうる。

ベースポリマー（Ａ）中の水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）の含量が０．１
重量％未満であると、帯電防止性能の向上が不十分である可能性がある。ベースポリマー
（Ａ）中の水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）の含量が１０重量％を超えると、
保護フィルムに対して密着性が不十分となる、または粘着層の透明性が不十分となる可能
性がある。

前記水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）の例として、Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ１）ＡＣ
ＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ_３であり、Ａは（ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ
_２）_ｎ、ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＯＣ−ＣＨ_２ＣＨ_２、単結合、および下記化学式１で表さ
れる化合物（１）から選択される１つであり、ｎは１または２である）が挙げられる。

より具体的には、前記水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）は、ヒドロキシエチ
ルアクリルアミド（ＨＥＡＡ）などが挙げられる。

さらに、前記（メタ）アクリレート（ａ２）は、ベースポリマー（Ａ）の主成分であり
、ベースポリマー（Ａ）の全重量に対して、５０〜９９．1重量％が含まれうる。ここで
、ベースポリマー（Ａ）は１または２以上の（メタ）アクリレート（ａ２）を含みうる。

前記（メタ）アクリレート（ａ２）の例として、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレ
ート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ
）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、
ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メ
タ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）ア
クリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−
ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、
ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アク
リレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レートなどが挙げられる。

光学部材用粘着剤組成物のベースポリマーには、高い粘着性を実現するために、（メタ
）アクリレートの主成分として、ｎ−ブチルアクリレートを含むことが好ましい。

さらに、表面保護シート用粘着剤組成物のベースポリマーには、表面保護シートの容易
な分離を考慮して、上記の粘着度を示すため、（メタ）アクリレート（ａ２）の主成分と
して、２−エチルヘキシルアクリレートを含むことが好ましい。

ベースポリマー（Ａ）は、アクリレートポリマーがイオン性化合物と良好な相溶性を示
し、並びに優れた粘着特性を付与することから、主成分として、１以上の（メタ）アクリ
レート（ａ２）を含むアクリレートポリマーでありうる。

本実施形態による粘着剤組成物が光学部材に使用される場合、ベースポリマー（Ａ）の
重量平均分子量は１，０００，０００〜２，０００，０００の範囲でありうる。ベースポ
リマー（Ａ）の重量平均分子量が１０００，０００〜２，０００，０００の範囲であれば
、粘着剤組成物は光学部材の粘着層を構成する組成物として十分な粘着力を付与しうる。

さらに、前記ベースポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィに
よるポリスチレン換算によって求められる。

また、前記ベースポリマー（Ａ）は、０℃以下のガラス転移温度Ｔｇを有しうる。さら
に、前記ベースポリマー（Ａ）は、ガラス転移温度Ｔｇが−１００℃〜−５℃であること
が好ましく、−８０℃〜−１０℃であることがより好ましい。ガラス転移温度Ｔｇが０℃
以下であると、粘着剤組成物は、イオン性化合物を含む際に高い粘着力を付与しうる。

別の方法として、前記ベースポリマー（Ａ）は、前記水酸基含有（メタ）アクリルアミ
ド（ａ１）および（メタ）アクリレート（ａ２）の代わりに、その他の成分を含んでもよ
い。

前記ベースポリマーのその他の成分として、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有
モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物などのような
凝集力および耐熱性を向上させる成分、またはカルボキシル基含有モノマー、酸無水物基
含有モノマー、水酸基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エ
ポキシ基含有モノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類のような粘着力
を向上させうる、または架橋化開始剤として作用することができる官能基を有する成分が
挙げられる。その他の成分は単独で、または２種以上の成分を組み合わせて用いられうる
。

前記スルホン酸基含有モノマーの例として、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、
２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、メタアクリルアミドプロ
パンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナ
フタレンスルホン酸などが挙げられる。

前記リン酸基含有モノマーの例として、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェー
トが挙げられる。

前記シアノ基含有モノマーの例として、アクリロニトリルが挙げられる。

前記ビニルエステル類の例として、酢酸ビニルが挙げられる。

前記芳香族ビニル化合物の例として、スチレンが挙げられる。

前記カルボキシル基含有モノマーの例として、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル
（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイ
ン酸、クロトン酸、２−カルボキシエチルアクリレートなどが挙げられる。

前記酸無水物基含有モノマーの例として、無水マレイン酸、無水イタコン酸などが挙げ
られる。

前記水酸基含有モノマーの例として、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
ト、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）ア
クリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル
（メタ）アクリレート、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルアクリレート、
Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２−ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリ
コールモノビニルエーテルなどが挙げられる。

アミド基含有モノマーの例として、アクリルアミド、ジエチルアクリルアミドなどが挙
げられる。

前記アミノ基含有モノマーの例として、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

エポキシ基含有モノマーの例として、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシ
ジルエーテルなどが挙げられる。

前記ビニルエーテル類の例として、ビニルエチルエーテルが挙げられる。

ベースポリマー（Ａ）を重合する方法の例として、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸
濁重合などが挙げられる。

前記ベースポリマー（Ａ）の重合には、重合開始剤が用いられうる。前記重合開始剤の
例として、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシドなどのような過酸化物、お
よびアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスバレロニトリルなどのようなア
ゾビス化合物が挙げられる。

「架橋剤」
本実施形態による粘着剤組成物は、ベースポリマー（Ａ）、特にベースポリマー（Ａ）
の主成分であるアクリル系ポリマー（ａ２）を適切に架橋することにより、優れた耐熱性
を有する粘着層を提供しうる。さらに詳細には、架橋は、イソシアネート化合物、エポキ
シ化合物、アジリジン化合物、および金属キレートのようなアクリル系ポリマーに架橋開
始剤として適切に含まれる、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、アミド基などと反応す
るために添加される基を含む化合物、いわゆる架橋剤を用いる方法により行われる。

前記イソシアネート化合物の例として、トリレンジイソシアネートおよびキシレンジイ
ソシアネートなどの芳香族イソシアネート；イソホロンジイソシアネートなどの脂環式イ
ソシアネート；およびヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネートなど
が挙げられる。特に、イソシアネート化合物またはエポキシ化合物は、適度な凝集力の観
点から用いられうる。これらの化合物は単独で、また２種以上を組み合わせて用いられう
る。

さらに具体的には、前記イソシアネート化合物の例として、ブチレンジイソシアネート
およびヘキサメチレンジイソシアネートなどの低級脂肪族ポリイソシアネート類；シクロ
ペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、およびイソホロンジ
イソシアネートなどの脂環式イソシアネート類；２，４−トリレンジイソシアネート、４
，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、およびキシリレンジイソシアネートなどの
芳香族ジイソシアネート類；並びにトリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート
３量体付加物（商品名：コロネートＬ）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイ
ソシアネート３量体付加物（商品名：コロネートＨＬ）、およびヘキサメチレンジイソシ
アネートのイソシアヌレート体（商品名：コロネートＨＸ）（いずれも日本ポリウレタン
工業株式会社製）などのイソシアネート付加物が挙げられる。

前記エポキシ化合物の例として、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレ
ンジアミン（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ）および１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルア
ミノメチル）シクロヘキサン（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ）（いずれも三菱ガス化学株式
会社製）などが挙げられる。

これらの架橋剤は単独で、または２種以上を組み合わせて用いられうる。架橋剤の使用
量は、架橋標的ベースポリマーとのバランス、および光学部材の適用によって適切に選択
される。アクリレート粘着剤の凝集力により十分な耐熱性を得るためには、架橋剤の使用
量は、通常、前記ベースポリマー１００重量部に対して、約０．０１重量部以上である。
さらに、柔軟性、粘着性の観点から、架橋剤の使用量は、通常、前記ベースポリマー１０
０重量部に対して、約０．０５重量部以下である。

本実施形態によれば、粘着剤組成物を光学部材に用いる場合、粘着剤組成物のベースポ
リマー（Ａ）は、架橋度として、ゲル分率５０〜８０％、より好ましくは架橋度として、
ゲル分率約７０％を有しうる。

ゲル分率がこの範囲であれば、粘着剤組成物の粘着力を増加させることができる。さら
に、本発明の本実施形態によれば、粘着剤組成物を表面保護シートに用いる場合、粘着剤
組成物のベースポリマー（Ａ）は、架橋度として、ゲル分率９０〜１００％の範囲を有し
うる。この範囲であれば、粘着剤組成物の粘着力は、表面保護シートの剥離を容易にする
ように十分減少しうる。

ここで、ゲル分率は、粘着剤組成物の初期質量（温浸前）、および前記粘着剤組成物を
酢酸エチル中に２５℃、１日間浸漬した場合の、浸漬乾燥後の質量から、ゲル分率＝［浸
漬乾燥後の質量／初期質量］×１００の式で求められる。

「帯電防止剤」
帯電防止剤はイオン性化合物を含みうる。

前記イオン性化合物は、粘着剤組成物の調製に用いられるベースポリマーおよび有機溶
媒との相溶性を有するように、同時に、イオン性化合物をベースポリマーに添加した場合
に粘着剤組成物の透明性を維持するように選択される。さらに、前記イオン性化合物は、
粘着剤組成物が光学シートまたは保護フィルムなどの基材に塗布してされる場合、表面抵
抗値が１×１０^１１Ω／ｃｍ^２以下となるように選択される。

前記イオン性化合物は、イミダゾリウム塩、ピリジニウム塩、アルキルアンモニウム塩
、アルキルピロリジウム塩、およびアルキルホスホニウム塩から選択される少なくとも１
つでありうる。

前記イミダゾリウム塩の例としてとしては、１，３−ジメチルイミダゾリウムクロリド
、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムクロリド、１−ブチル−３−メチルイミ
ダゾリウムブロミド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムクロリド、１−ブチル−３
−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート、１−ブチル−１−（３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）−イミダゾリウムヘキサ
フルオロホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、１−エチル−
３−メチルイミダゾリウムクロリド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフル
オロホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヨージド、１−エチル−２，
３−ジメチルイミダゾリウムクロリド、１−メチルイミダゾリウムクロリド、１，２，３
−トリメチルイミダゾリウムメチルサルフェート、１−メチル−３−（３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）−イミダゾリウムヘ
キサフルオロホスフェート、１−アリール−３−メチルイミダゾリウムクロリド、１−ベ
ンジル−３−メチルイミダゾリウムクロリド、１−ベンジル−３−メチルイミダゾリウム
ヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロ
ホスフェートなどが挙げられる。

前記ピリジニウム塩の例として、１−ブチル−３−メチルピリジニウムブロミド、１−
ブチル−４−メチルピリジニウムブロミド、１−ブチル−４−メチルピリジニウムクロリ
ド、１−ブチルピリジニウムブロミド、１−ブチルピリジニウムクロリド、１−ブチルピ
リジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチルピリジニウムブロミド、１−エチル
ピリジニウムクロリドなどが挙げられる。

前記アルキルアンモニウム塩の例として、シクロヘキシルトリメチルアンモニウムビス
（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムブロミド、トリブチルメチルアンモニウムメチルサルフェート
、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラエチ
ルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、テトラブチルアンモニウムベンゾエー
ト、テトラブチルアンモニウムメタンスルフェート、テトラブチルアンモニウムノナフル
オロブタンスルホネート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート
、テトラブチルアンモニウムトリフルオロアセテート、テトラヘキシルアンモニウムテト
ラフルオロボレート、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウ
ムヨージド、テトラオクチルアンモニウムクロリド、テトラオクチルアンモニウムブロミ
ド、テトラヘプチルアンモニウムブロミド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、ｎ−
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。

前記アルキルピロリジウム塩の例として、１−ブチル−３−メチルピロリジウムブロミ
ド、１−ブチル−１−メチルピロリジウムクロリド、１−ブチル−１−メチルピロリジウ
ムテトラフルオロボレートなどが挙げられる。

前記アルキルホスホニウム塩の例として、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラ
ブチルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、テト
ラブチルホスホニウムメタンスルホネート、テトラブチルホスホニウムｐ−トルエンスル
ホネート、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミドなどが挙げられる。

イオン性化合物に関しては、含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、または含リンオニ
ウム塩が用いられうる。

具体例として、１−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチルピリジニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムテトラフルオロ
ボレート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−
ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブ
チル−３−メチルピリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−へ
キシルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−メチル−１−ピロリンテトラフルオロ
ボレート、１−エチル−２−フェニルインドールテトラフルオロボレート、１，２−ジメ
チルインドールテトラフルオロボレート、１−エチルカルバゾールテトラフルオロボレー
ト、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−
メチルイミダゾリウムアセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロ
アセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロブチレート、１−エ
チル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メ
チルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾ
リウムジシアナミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタン
スルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（ペンタフルオロエタ
ンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリス（トリフルオロメ
タンスルホニル）イミド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレー
ト、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−
３−メチルイミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリ
ウムヘプタフルオロブチレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメ
タンスルホネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネ
ート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イ
ミド、１−へキシル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、１−へキシル−３−メチルイ
ミダゾリウムクロリド、１−へキシル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレー
ト、１−へキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−へキシ
ル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクチル−３−メ
チルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウム
ヘキサフルオロホスフェート、１−へキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフ
ルオロボレート、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメ
タンスルホニル）イミド、１−メチルピラゾリウムテトラフルオロボレート、３−メチル
ピラゾリウムテトラフルオロボレート、テトラヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロ
メタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、ジ
アリルジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジアリルジメチルアンモ
ニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムビ
ス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ―ジエチル―Ｎ―メチル―Ｎ−（
２−メトキシエチル）アンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ―ジエチル―Ｎ―メ
チル―Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，
Ｎ―ジエチル―Ｎ―メチル―Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（トリフルオ
ロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ―ジエチル―Ｎ―メチル―Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）アンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチ
ルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、グリシジルトリメチルアンモニウムビ
ス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチルアンモニウムビス（
ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−ブチルピリジニウム（トリフルオロメタ
ンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウム（トリ
フルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−エチル−３−メチルイミダ
ゾリウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、ジアリルジメチ
ルアンモニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、グリシジ
ルトリメチルアンモニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド
、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタン
スルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアンモニウムビス（ト
リフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ペンチルア
ンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチ
ル−Ｎ−へキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル
）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ノニルアンモニウムビス（トリフルオロ
メタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアンモニウムビス（
トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチル
アンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プ
ロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（ト
リフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルア
ンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチ
ル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−Ｎ−ペンチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメ
タンスルホニル）イミド、トリメチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンス
ルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（ト
リフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルア
ンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）イミド、トリエチルプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イ
ミド、トリエチルペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、
トリエチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ
−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフ
ルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ−へキシルアン
モニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ，Ｎ−
ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジブチ
ル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタ
ンスルホニル）イミド、トリオクチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）イミド、およびＮ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニ
ウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドなどが挙げられる。

「ベースポリマー（Ａ）と帯電防止剤（Ｂ）との組成比」
ベースポリマー（Ａ）および帯電防止剤（Ｂ）の全重量に対する帯電防止剤（Ｂ）の組
成比は、０．０１重量％〜２重量％の範囲でありうる。組成比が０．０１重量％未満だと
、十分な帯電防止効果が得られず、組成比が２重量％を超えると、重大な被着体汚染性の
可能性がある。

「その他の添加剤」
前記粘着剤組成物は、粘着特性を付与するために、その他の公知の添加剤を任意に含み
うる。例えば、表面潤滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、防食添加剤、光安定剤、紫外線
吸収剤、重合阻害剤、シランカップリンング剤、無機もしくは有機充填剤、金属粉、粉顔
料、または粒子状もしくは成形箔状物質が使用目的に応じて適宜添加されうる。

「粘着剤組成物の調製方法」
本発明の一実施形態による、粘着剤組成物の調製方法の例として、以下の２つの方法が
挙げられる。

第１の方法として、ベースポリマー（Ａ）の原料である各種モノマーを、酢酸エチル、
トルエン、アセトン、ヘキサン、ケトン類、およびアルコール類などの沸点が１２０℃以
下である有機溶媒に混合し、重合開始剤を添加してモノマーを重合させることによってベ
ースポリマーを調製する。得られたベースポリマーは、有機溶媒に溶解状態である、また
は膨潤されている。

次に、イオン性化合物から構成される帯電防止剤を、ベースポリマーを含む有機溶媒に
添加して、ベースポリマーと混合する。

続いて、架橋剤を添加してベースポリマーを架橋させ、シランカップリング剤などの添
加剤を必要に応じてさらに添加する。この結果、粘着剤組成物が調製されうる。

得られた粘着剤組成物は、光学シートまたは表面保護フィルムのような基材上に塗布、
および乾燥することにより、基材上に粘着層が形成される。

第２の方法として、ベースポリマー（Ａ）の原料である各種モノマーを、酢酸エチルな
どの有機溶媒に混合し、同時にイオン性化合物から構成される帯電防止剤を添加し、次い
で、重合開始剤を添加して、モノマーを重合反応させることで、帯電防止剤を含むベース
ポリマーを調製する。上記方法のように、得られたベースポリマーは、有機溶媒に溶解状
態である、または膨潤されている。

次に、ベースポリマーおよび帯電防止剤を含む有機溶媒に、架橋剤を添加してベースポ
リマーを架橋させ、並びにシランカップリング剤などの添加剤を必要に応じてさらに添加
する。この結果、粘着剤組成物が調製されうる。

上記方法のように、得られた前記粘着剤組成物は、光学シートや表面保護フィルムのよ
うな基材上に塗布、および乾燥することにより、粘着層が形成される。

以上のように、本実施形態による、粘着剤組成物を製造する場合、帯電防止剤はベース
ポリマーを調製した後、もしくは、ベースポリマーの調製中に添加されうる。ベースポリ
マーに均一に帯電防止剤を添加するためには、帯電防止剤は酢酸エチルなどの有機溶媒に
溶解性であるのが好ましい。

「光学部材」
本発明の一実施形態による光学部材は、本発明の実施形態に従い、光学シートの片面ま
たは両面に、粘着剤組成物を塗布して形成される。本発明の実施形態における光学部材に
対して、前記粘着剤組成物を含む粘着層は、光学シートの片面または両面に、厚さ３〜２
００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍで形成されうる。前記粘着層の形成は、光学シー
トに直接塗布する、または別の基材（剥離ライナーなど）に前記粘着剤組成物を塗布して
、光学シートに前記塗布された粘着剤組成物を転写することにより行われうる。

粘着層を形成させる方法として、粘着テープの調製に用いられる任意の公知の方法が用
いられうる。具体的には、前記方法の例として、ロールコート、グラビアコート、リバー
スコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート、ダイコート法など
が挙げられる。

本発明によれば、各種のディスプレイの製造に用いられる様々な光学シートが、特定の
光学シートに限定されることなく、使用されうる。光学シートの例として、偏光板、位相
差板、輝度向上板、およびグレア低減シートなどが挙げられる。さらに、本実施形態にお
ける前記光学シートは、偏光板および位相差板の積層、偏光板の積層、位相差板の積層、
偏光板および輝度向上板またはグレア低減シートの積層などのように、２以上の光学素材
を積層させることによって得られうる。

光学シートに形成された粘着層（粘着剤組成物）は、約１〜約１５（Ｎ／２５ｍｍ）、
より好ましくは、約５〜約１０（Ｎ／２５ｍｍ）の粘着力を有しうる。粘着力が１〜１５
（Ｎ／２５ｍｍ）の範囲であると、光学部材の粘着層としては十分である。さらに、前記
粘着力は、ＪＩＳ Ｚ０２３７の粘着テープおよび粘着シート試験の方法に準拠して測定
されうる。具体的には、粘着層を有する光学部材を２３℃、相対湿度５０％の条件下で７
日間放置し、２５ｍｍ幅に切り取り、５０℃、５ｋｇ/ｃｍ^２×２０分のオートクレーブ
処理を行うことで、例えば、偏光板に接着された状態で粘着力が評価され、並びに引張試
験機を用いて、２３℃、相対湿度５０％の条件下、剥離角１８０度、剥離速度０．３ｍ／
分でＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠して粘着力が測定される。

「表面保護シート」
本発明の実施形態における光学部材用表面保護シートは、保護フィルムと、前記保護フ
ィルムの片面または両面に形成された粘着層と、を含み、前記粘着層は、本発明の実施形
態における粘着剤組成物を含む。粘着剤組成物の前記粘着層は、保護フィルムの片面また
は両面に、３〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの厚さに形成されうる。

保護フィルムの例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート
、ポリアミド、ポリスチレンフィルム、およびこれらの混合物のような樹脂フィルムが挙
げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられうる。前記保護
フィルムは、例えば、１５〜５０μｍの厚みを有しうる。

保護フィルムへの前記粘着層の形成は、保護フィルムに粘着剤組成物を直接塗布する、
または別の基材（剥離ライナーなど）に前記粘着剤組成物を塗布して、保護フィルムに前
記塗布された粘着剤組成物を転写することにより行われうる。

粘着層を形成させる方法として、粘着テープの調製に用いられる任意の公知の方法が用
いられうる。具体的には、前記方法の例として、ロールコート、グラビアコート、リバー
スコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート、ダイコート法など
が挙げられる。

本発明の実施形態における表面保護シートは、液晶ディスプレイパネルやプラズマディ
スプレイパネルなどの典型的なフラットディスプレイパネルに貼り付けられる光学部材を
保護するために用いられうる。

本実施形態における前記表面保護シートは、前記光学部材が単独で市場に流通する場合
だけでなく、フラットディスプレイパネルに貼り付けられた状態で市場に流通する場合に
も使用されうる。

保護フィルムに形成される前記粘着層（粘着剤組成物）は約０．０５〜約０．２（Ｎ／
２５ｍｍ）、好ましくは約０．１（Ｎ／２５ｍｍ）の粘着力を有しうる。前記粘着力が０
．０５〜０．２（Ｎ／２５ｍｍ）の範囲であると、前記表面保護シートを偏光板などの光
学部材から、例えば１０ｍｍ／分の速さで、比較的容易に剥離しうる。さらに、前記粘着
力は、ＪＩＳ Ｚ０２３７の粘着テープおよび粘着シート試験の方法に準拠して測定され
うる。より詳細には、粘着層を有する光学部材を２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日
間放置し、２５ｍｍ幅に切り取り、５０℃、５ｋｇ/ｃｍ^２×２０分のオートクレーブ処
理を行うことで、例えば、偏光板に粘着された状態で粘着力が評価され、並びに、引張試
験機を用いて、２３℃、相対湿度５０％の条件下、剥離角１８０度、剥離速度０．３ｍ／
分でＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠して粘着力が測定される。

本発明の実施形態における前記粘着剤組成物は、水酸基含有アクリルアミド、水酸基含
有メタアクリルアミドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される水酸基含有（
メタ）アクリルアミド（ａ１）と、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびこ
れらの組み合わせからなる群から選択される（メタ）アクリレート（ａ２）と、が共重合
されて形成される共重合体（Ａ）、およびイオン性化合物を含む帯電防止剤（Ｂ）を含む
。したがって、本実施形態による粘着剤組成物は、エージング時間が短い結果、高い生産
性を示し、良好な帯電防止性能を示す粘着層の形成を可能にしうる。

具体的には、本実施形態における粘着剤組成物は、光学シートや保護フィルムなどの基
材に塗布して粘着層を形成する場合、前記粘着層は、約１×１０⁸〜１×１０^１１（Ω／
ｃｍ^２）のシート抵抗を示し、良好な帯電防止性能を示す。粘着剤組成物において、帯電
防止性能の向上は、水酸基含有アクリルアミドおよび／またはメタアクリルアミドに含ま
れる窒素原子の孤立電子対の存在により、粘着層中のイオン性化合物の移動が促進される
ことにより達成される。

また、本実施形態における粘着剤組成物の短いエージング時間は、おそらく、水酸基含
有アクリルアミドおよび／またはメタアクリルアミドにより、共重合体の末端水酸基が活
性化されることによって、共重合体の反応性が向上した結果であると考えられる。

さらに、本実施形態における粘着剤組成物は、ベースポリマーが主成分として（メタ）
アクリレートを少なくとも１種含むため、透明度が高い。

粘着剤組成物のベースポリマーが、重量平均分子量１，０００，０００〜２，０００，
０００およびゲル分率５０〜８０％を有する場合、前記粘着剤組成物は、高い粘着力を有
し、光学部材の粘着層を形成するのに好適に用いられうる。

粘着剤組成物のベースポリマーが、重量平均分子量が３００，０００〜１，０００，０
００およびゲル分率９０〜１００％である場合、粘着剤組成物の塗布によって形成される
表面保護シートの粘着層は、弱い粘着力を示す。この場合、前記粘着層は、例えば１０ｍ
ｍ／分の速さで、フラットディスプレイパネル上の偏光板のディスプレイ表面から比較的
容易に剥離しうる。

以下、本発明は実施例２〜６、８〜１０および参考例１、７、１１〜１６（実施例および参考例１〜１６）を参照して説明されうる。はじめに、実施例および参考例１〜１６に係る粘着剤組成物を調製し、並びに偏光板に塗布することにより、実施例および参考例１〜１６の光学部材を製造した。次に、光学部材の性能試験を行った。以下に詳細を説明する。

（参考例１における共重合体組成物の調製）
水酸基含有（メタ）アクリルアミドとしてヒドロキシエチルアクリルアミド１重量部、ブチルアクリレート９８．９９重量部、および溶媒として酢酸エチル１２０重量部を、還流冷却器および撹拌機が備えられたフラスコに導入し、窒素置換をしながら６５℃まで加熱した。次に、重合開始剤としてＡＩＢＮ０．０４重量部を加え、６５℃で６時間重合反応を行った。重合反応の完結後、イオン性化合物として１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート０．０１重量部を添加し、粘度の調整のために酢酸エチルをさらに２８０重量部添加した後、室温まで冷却した。これにより、参考例１の粘着剤組成物を含む共重合体組成物溶液を製造した。

共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物は濃度２０重量％であり、共重合体組成物溶液の
粘度は４５００ｍＰａ・ｓであった。表１に、粘着剤組成物の組成比、共重合体組成物溶
液中の粘着剤組成物の濃度、および共重合体組成物溶液の粘度を示す。

また、ベースポリマーの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によ
り測定した。結果を表１に示す。

（実施例および参考例２〜１６における共重合体組成物溶液の調製）
水酸基含有（メタ）アクリルアミドとして、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、アクリル酸およびアクリルアミドの少なくとも１つと、ヒドロキシエチルアクリルアミドと、を混合した（または混合しない）混合物は、溶媒である酢酸エチルと好適に混合され、同時に、イオン性化合物である１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチルピリジニウムブロミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、および１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの１つと混合する（または混合しない）ことを除いて、前記参考例１の場合と同様の工程により、実施例および参考例２〜１０の粘着剤組成物を含む共重合体組成物溶液を得た。表１および表２に、実施例および参考例２〜１６の粘着剤組成物の組成比、各共重合体組成物溶液の粘度、各共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物の濃度、並びにベースポリマーの重量平均分子量を示す。

（実施例および参考例１〜１６における光学部材の調製）
表１および表２に記載された、実施例および参考例１〜１６の各共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物１００重量部に対して、架橋剤（Ｂ）としてトリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業株式会社製、商品名：コロネートＬ）と、シランカップリング剤（Ｃ）として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、商品名：信越シリコーンＫＢＭ−４０３）と、を表３および４に示す組成比で添加し、十分に混合して粘着剤組成物溶液を調製した。得られた各粘着剤組成物溶液を剥離ＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、商品名：ＭＲＦ３８）に乾燥後２５μｍの厚さにするように塗布し、並びに９０℃で３分間乾燥させ、粘着剤組成物から構成される粘着層を形成した。その後、前記粘着層および剥離ＰＥＴフィルムを偏光板（株式会社美舘イメージング製、商品名：ＭＬＰＨ）に貼り付けることにより、実施例および参考例１〜１５の光学部材をそれぞれ調製した。

表面抵抗値、金属腐食性、光漏れ、耐久性、粘着力、基材への密着性、被着体汚染性、
低温安定性、およびリワーク性などに対して、各光学部材の性能の試験を行った。前記性
能試験は以下の通りに行われた。

また、それぞれの粘着剤組成物溶液の粘着剤組成物の濃度および粘度を測定した。さら
に、ゲル分率とおよびゲル分率安定化期間を測定した。結果を表３および表４に示す。

「ゲル分率」
試験サンプル１〜１６を、実施例および参考例１〜１６の光学部材の調製に用いられた偏光板の代わりに、剥離されたポリエステルフィルムを用いて調製し、２３℃、相対湿度５０％の条件下で放置し、塗布から１、３、５、７、１０および１５日後に試験サンプルのゲル分率を測定した。

前記ゲル分率は、次式により算出した：ゲル分率（重量％）＝〔（Ｗ３−Ｗ２）／Ｗ１
〕×１００
式中、Ｗ１は、試験サンプルから得られた粘着層の重量（ｇ）を示す。Ｗ２は後述する
ステンレス製の金網の重量（ｇ）を示す。Ｗ３は、試験サンプルから得られた粘着層を含
むサンプル容器に、酢酸エチルを３０ｇ加え、並びに、粘着層を終夜浸漬させた後、サン
プル容器の内容物を２００メッシュのステンレス製の金網を用いてろ過し、９０℃で１時
間乾燥させる工程により得られるステンレス製の金網の重量（ｇ）および金網上の層（ろ
過後の残さ）の総重量を示す。

「ゲル分率安定化期間」
上述したように、各試験サンプルのゲル分率は、塗布から一定期間後に測定し、前記ゲ
ル分率の安定する期間を、ゲル分率安定化期間またはゲル分率安定化期間と定義した。

＜性能試験の方法＞
「表面抵抗値」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した後、マイクロエレクトロメーター（
株式会社川口電機製作所製）を使用して２３℃、相対湿度５０％の条件下で、前記光学部
材の粘着層の表面抵抗値を測定した。

「金属腐食性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材の粘着層に、アルミホイ
ルを貼り付け、６０℃、相対湿度９０％の条件下で２日間放置した。このとき腐食性を観
察した。アルミホイルに変化がない場合は○で示し、アルミホイルが白色に変化した場合
は×で示した。

「光漏れ」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材を、１２０ｍｍ（偏光板
のＭＤ方向）×６０ｍｍのピースおよび１２０ｍｍ（偏光板ＴＤ方向）×６０ｍｍのピー
スに切り取り、次にガラス基材の両面に互いに重なり合うように貼り付け、続いて５０℃
で５ｋｇ/ｃｍ^２×２０分のオートクレーブ処理を行った。その後、各サンプルを８０℃
で１２０時間放置し、その外観を観察した。前記サンプルに光漏れが観察されなかった場
合は○で示し、前記サンプルに光漏れが観察された場合は×で示した。

「耐久性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材を、１２０ｍｍ（偏光板
ＭＤ方向）×６０ｍｍのピースに切り取り、ガラス基材に貼り付け、５０℃で５ｋｇ/ｃ
ｍ^２×２０分のオートクレーブ処理を行った。その後、各サンプルを８０℃および６０℃
、相対湿度９０％の条件下で１２０時間放置して、外観を観察した。前記サンプルに発泡
、緩み、または剥離が観察されなかった場合は○で示し、前記サンプルに発泡、緩み、ま
たは剥離が観察された場合は×で示した。

「粘着力および基材への密着性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材を、２５ｍｍ幅のピース
に切り取り、ガラス基材に貼り付け、続いて５０℃で５ｋｇ/ｃｍ^２×２０分のオートク
レーブ処理を行った。その後、引張試験機を用いて、２３℃、相対湿度５０％の条件下、
剥離角１８０度、剥離速度０．３ｍ／分で、ＪＩＳ Ｚ０２３７の粘着テープおよび粘着
シート試験の方法に準拠して、前記サンプルの粘着力を測定した。さらに、偏光板（基材
）に対する密着性についても評価した。前記サンプルの粘着層が偏光板からまったく剥離
していない場合を○で示し、前記サンプルの粘着層が偏光板から剥離した場合を×で示し
た。

「被着体汚染性」
前記粘着力の測定前後において、ガラス基材の表面の接触角を測定した。前記サンプル
の測定前後にガラス基材の表面の接触角に変化がなかった場合は○で示し、前記サンプル
の測定前後にガラス基材の表面の接触角に変化があった場合は×で示した。一方、前記接
触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７のガラス基材のぬれ性試験方法に準拠して測定した。

「低温安定性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材を、１２０ｍｍ（偏光板
ＭＤ方向）×６０ｍｍのピースに切り取り、ガラス基材に貼り付け、続いて５０℃で５ｋ
ｇ/ｃｍ^２×２０分のオートクレーブ処理を行った。その後、前記サンプルを−４０℃で
１２０時間放置し、外観を観察した。前記サンプルに発泡、緩み、剥離、または析出物が
観察されなかった場合は○で示し、発泡、緩み、剥離、または析出物が観察された場合は
×で示した。

「リワーク性」
前記粘着力測定時に剥離の状態を観察した。前記サンプルの界面破壊が観察された場合
は○で示し、ガラス基材（被着体）への粘着破壊および／またはスティッキングが観察さ
れた場合は×で示した。

表３に示すように、実施例および参考例１〜１０の粘着層は、１０^１１Ω／ｃｍ^２以下の表面抵抗値を示し、良好な帯電防止性能を示した。また、実施例および参考例１〜１０については、ゲル分率安定化期間が短く、３日であった。さらに、実施例および参考例１〜１０の光学部材は、４〜８Ｎ／２５ｍｍの適した粘着力を有した。加えて、実施例および参考例１〜１０の光学部材は、金属腐食性、光漏れ、耐久性、基材への密着性、被着体汚染性、低温安定性およびリワーク性のすべての項目で良好な特性を示した。

一方、表４に示すように、参考例１１は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドも帯電防止剤も含まないため、１０^１５Ω／ｃｍ^２の表面抵抗値を示し、参考例１１は、実施例および参考例１〜１０よりも帯電防止性能が低かった。さらに、参考例１１は、ゲル分率安定化期間が１０日であり、実施例および参考例１〜１０よりも長かった。

また、参考例１２は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを含まないため、ゲル分率安定化期間が１０日であり、実施例および参考例１〜１０によりも長かった。

さらに、参考例１３は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを少量しか含まないため、１０^１４Ω／ｃｍ^２の表面抵抗値を示し、帯電防止性能が実施例および参考例１〜１０よりも低かった。また、参考例１３の耐久性およびリワーク性は×と評価された。

また、参考例１４は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを多量に含むため、耐久性の項目は×と評価された。

さらに、参考例１５は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを少量しか含まないため、耐久性およびリワーク性はと評価された。

また、参考例１６は、水酸基を含まず、窒素基含有モノマーであるＮ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドを含むため、ゲル分率安定化期間が１０日であり、実施例および参考例１〜１０よりも長く、光漏れおよび耐久性の項目は×と評価された。

次に、本発明を参考例１７〜３２を参照に説明する。はじめに、参考例１７〜３２による粘着剤組成物を調製し、保護フィルムに塗布することによって、参考例１７〜３２の表面保護フィルムを製造した。そして、前記表面保護フィルムの性能を試験した。以下に詳細を説明する。

（参考例１７における共重合体組成物の調製）
水酸基含有（メタ）アクリルアミドとしてヒドロキシエチルアクリルアミド１重量部、ブチルアクリレート４０重量部、２−エチルヘキシルアクリレート５８．９９重量部、および溶媒として酢酸エチル１５０重量部を、還流冷却器および撹拌機が備えられたフラスコに導入し、窒素置換をしながら６５℃まで加熱した。次に、重合開始剤としてＡＩＢＮを０．１重量部加え、さらに１時間後、ＡＩＢＮを０.０５重量部加え、６５℃で６時間重合反応を行った。重合反応の完結後、イオン性化合物として１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート０．０１重量部を添加し、粘度の調整のために酢酸エチルをさらに３６重量部添加した後、室温まで冷却した。これにより、参考例１７の粘着剤組成物を含む共重合体組成物溶液を製造した。

共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物の濃度は３５重量％であり、共重合体組成物溶液
の粘度は３５００ｍＰａ・ｓであった。表５には、粘着剤組成物の組成比、共重合体組成
物溶液中の粘着剤組成物の濃度、および共重合体組成物溶液の粘度を示す。

また、ベースポリマーの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によ
り測定した。結果を表５に示す。

（参考例１８〜３２における共重合体組成物溶液の調製）
水酸基含有（メタ）アクリルアミドとして、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、アクリル酸およびアクリルアミドの少なくとも１つと、ヒドロキシエチルアクリルアミドと、を混合した（または混合しない）混合物は、溶媒である酢酸エチルと好適に混合され、同時に、イオン性化合物である１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチルピリジニウムブロミド、および１−ブチル−３−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネートの１つを混合する（または混合しない）ことを除いて、前記参考例１７の場合と同様の工程により、参考例１８〜３２の粘着剤組成物を含む共重合体組成物溶液を得た。表５および表６に、参考例１８〜３２の粘着剤組成物の組成比、各共重合体組成物溶液の粘度、各共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物の濃度、およびベースポリマーの重量平均分子量を示す。

（参考例１７〜３２の表面保護シートの調製）
表５および表６に記載された、参考例１７〜３２の各共重合体組成物溶液中の粘着剤組成物１００重量部に対して、架橋剤（Ｂ）としてヘキサメチレンジイソシアネート（イソシアネレート架橋剤、日本ポリウレタン工業株式会社製、商品名：コロネートＨＸ）を、表７および表８に示す組成比で添加し、十分に混合して粘着剤組成物溶液を調製した。得られた各粘着剤組成物溶液を剥離ＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、商品名：ＭＲＦ３８）に、乾燥後２５μｍの厚さに塗布し、並びに９０℃で３分間乾燥させ、粘着剤組成物から構成される粘着層を形成した。その後、粘着層および剥離ＰＥＴフィルムを、ＰＥＴ保護フィルム（東レ株式会社製、商品名：ルミラーＳ１０＃２５）に貼り付けることにより、参考例１７〜３２の表面保護シートをそれぞれ製造した。

参考例１と同様に、表面抵抗値、金属腐食性、被着体汚染性、および低温安定性に対して、各表面保護シートの性能試験を行った。ここで、前記性能試験は、被着体としてガラス基材を偏光板に変更した。前記性能試験は、粘着力、基材への密着性、粘着層の透明性について、以下に示すように行った。

さらに、参考例１と同様にして、各粘着剤組成物溶液中の粘着剤組成物の濃度、および粘度、ゲル分率、並びにゲル分率安定化期間を測定した。結果を表７および表８に示す。

「粘着力および基材への密着性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各光学部材を、２５ｍｍ幅のピース
に切り取り、偏光板に貼り付け、続いて５０℃で５ｋｇ/ｃｍ^２×２０分のオートクレー
ブ処理を行った。その後、引張試験機を用いて、２３℃、相対湿度５０％の条件下、剥離
角１８０度、剥離速度０．３ｍ／分で、ＪＩＳ Ｚ０２３７の粘着テープおよび粘着シー
ト試験の方法に準拠して、前記サンプルの粘着力を測定した。さらに、サンプルの保護フ
ィルム（基材）への密着性についても評価した。前記サンプルの粘着層が保護フィルムか
ら完全に剥離していない場合を○で示し、前記サンプルの粘着層が保護フィルムから剥離
した場合を×で示した。

「粘着層の透明性」
２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間放置した各表面保護シートの透明性を、肉眼
で確認した。前記サンプルの粘着層の透明性が良好であった場合を○で示し、粘着層に不
透明な部分を有するものを×で示した。

表７に示すように、参考例１６〜２５の表面保護シートに対して、粘着層は、１０^８〜１０^１１Ω／ｃｍ^２の表面抵抗値を示し、良好な帯電防止性能を示した。また、実施例１６〜２５の表面保護シートは、０．１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍの適した粘着力を示した。加えて、参考例１７〜２６の表面保護シートは、金属腐食性、基材への密着性、被着体汚染性、低温安定性、および粘着層の透明性のすべての項目で良好な特性を示した。

一方、表８に示すように、参考例２６の表面保護シートは、水酸基含有（メタ）アクリルアミドも帯電防止剤も含まないため、１０^１５Ω／ｃｍ^２表面抵抗値を示し、参考例２６は、参考例１７〜２６よりも帯電防止性能が低かった。さらに、参考例２７は、ゲル分率安定化期間が１０日であり、参考例１７〜２６よりも長かった。

さらに、参考例２８は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを含まないため、ゲル分率安定化期間が１０日であり、参考例１７〜２６よりも長かった。

また、参考例２９は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを少量しか含まないため、１０^１４Ω／ｃｍ^２の表面抵抗値を示し、帯電防止性能が参考例１７〜２６よりも低かった。

さらに、参考例３０は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを多量に含むため、基材への密着性および粘着層の透明性の項目は×と評価された。

また、参考例３１は、水酸基含有（メタ）アクリルアミドを少量しか含まないため、被着体汚染性の項目が×と評価された。

さらに、参考例３２は、水酸基を含まず、窒素基含有モノマーであるＮ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドを含むため、ゲル分率安定化期間が１０日であり、実施例および参考例１〜１０よりも長く、基材への密着性および被着体汚染性の項目が×と評価された。

Claims (8)

1. Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ_１）ＡＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中、Ｒ_１はＨまたはＣＨ_３であり、Ａは（ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ、ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＯＣ−ＣＨ_２ＣＨ_２、および単結合から選択される１つであり、ｎは１または２である）である水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）と、ｎ−ブチルアクリレートを含む（メタ）アクリレート（ａ２）と、を含むモノマーが共重合されて生じる共重合体（Ａ）と、
   イオン性化合物を含む帯電防止剤（Ｂ）と、
   架橋剤と、
   を含み、
   前記共重合体（Ａ）が、前記共重合体（Ａ）全重量に対して、前記水酸基含有（メタ）アクリルアミド（ａ１）０．１〜５重量％を含み、
   前記共重合体（Ａ）が、前記共重合体（Ａ）全重量に対して、前記（メタ）アクリルレート（ａ２）としてｎ−ブチルアクリレート８０〜９９．８９重量％を含む、光学部材用粘着剤組成物であって、
   前記架橋剤の使用量は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、０．０１〜１重量部であり、
   前記光学部材用粘着剤組成物から形成される粘着層は、ゲル分率が５０〜８０％であり、
   前記光学部材用粘着剤組成物から形成される粘着層は、ＪＩＳ Ｚ０２３７の粘着テープおよび粘着シート試験の方法に準拠して測定される粘着力が５〜１０（Ｎ／２５ｍｍ）であることを特徴とする光学部材用粘着剤組成物。
2. 前記（メタ）アクリレート（ａ２）が、２−エチルヘキシルアクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、およびテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つをさらに含む、請求項１に記載の光学部材用粘着剤組成物。
3. 前記共重合体（Ａ）が、ゲル浸透クロマトグラフィによってポリスチレン換算で求められる重量平均分子量１，０００，０００〜２，０００，０００を有する、請求項１または２に記載の光学部材用粘着剤組成物。
4. 前記共重合体（Ａ）が、０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学部材用粘着剤組成物。
5. 前記イオン性化合物が、イミダゾリウム塩、ピリジニウム塩、アルキルアンモニウム塩、アルキルピロリジウム塩、およびアルキルホスホニウム塩から選択される少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学部材用粘着剤組成物。
6. 前記粘着剤組成物が、０．０１〜２．０重量％の帯電防止剤（Ｂ）を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学部材用粘着剤組成物。
7. 光学シートの片面または両面に塗布された、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学部材用粘着剤組成物を含む粘着層を有する光学部材。
8. 前記粘着層が、１×１０^８〜１×１０^１１Ω／ｃｍ^２のシート抵抗を有する、請求項７に記載の光学部材。