JP5891362B2 - 基板の剥離装置 - Google Patents

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Description

本発明は、脆性の高い薄板状の基板を粘着材にて平面保持して加工処理した場合に、前記基板に傷や割れを発生させることなく前記粘着材から前記基板を剥離する剥離装置に関するものである。
液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)、或いは有機ELディスプレイの製造工程では、脆性の高い薄板状の基板に加工処理を施すために、前記基板を粘着材にて平面保持することが行われている。
具体的には、LCDやPDPなどの製造工程における真空蒸着法やスパッタリング法を用いた薄膜形成装置では、前記基板へのパーティクル付着を抑制させるために、前記基板の被処理面を下方に向け、蒸着源や金属ターゲットなどの薄膜材料源を基板被処理面の対面に設置し、横向きや上向きに成膜する手法が一般的に用いられている。その際、前記基板の被処理面の反対面を吸着保持するために、特許文献1などに記載されているように、粘着材が用いられている。
前記粘着材は、その個数・面積を増加させることで、大型の前記基板の場合も、これを容易に保持可能であり、特に、真空チャックなどの方法が導入しにくい、真空中での前記基板の保持に有用である。また、粘着材は、前記基板の粘着保持と剥離を繰り返すことができるため、同一の粘着材にて、複数回にわたり、前記基板の粘着保持が可能である。
図9は特許文献1に記載された粘着保持装置において、前記基板Wを、粘着モジュール1の粘着材1aから剥離する際の要部を示している。1bは粘着モジュール1に設けられた孔、2aは剥離ピンを示している。この粘着モジュール1に配置された粘着材1aの同軸中央部より剥離ピン2aを下方に突き出すことで、粘着材1aから基板Wの剥離を行っている。大型の基板Wを保持する場合には、図10(a)に示すように、基板Wに対して複数の剥離ピン2aが所定間隔で配置される。
国際公開第2012/117509号
図10(a)(b)は従来の剥離工程を示している。
図10(a)では、基板Wが粘着材1aにより粘着モジュール1に、基板Wの被処理面Waを下向きにして保持されている。基板Wを粘着材1aから剥がす際には複数の剥離ピン2aを下降させ、基板Wに剥離ピン2aを押付けることで剥離する。
しかし、基板Wの剥離抵抗が大きい場合には、図10(b)のように剥離ピン2aとの接触部に局所的に応力が集中してしまって、基板Wに傷や割れが生じてしまうことがある。また、粘着モジュール1に配置されている複数個の粘着材1aの個々の粘着力や粘着面積と、個々の剥離ピン2aの突き出す力やその突き出し量、タイミングのばらつきによって、基板Wの何れの位置から剥離が開始するかが予測できないのが現状である。
そのため、図10(c)のように、複数ある粘着材1aの一部から部分的に剥離していく過程においても局所的に応力が集中してしまい、傷や割れが生じてしまうことがある。
このように、従来装置においては、剥離ピン2aを押付けた際に発生する局所的な応力集中により基板Wに負荷がかかるため、傷や割れを発生させることなく、安定的に基板Wを剥離するのが難しい。
本発明は、大型の基板を、傷や割れを発生させることなく粘着材から安定的に剥離できる剥離装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の基板の剥離装置は、間隔を空けて配置された複数の粘着材によって粘着モジュールに粘着保持された基板を、前記粘着モジュールから剥離する剥離装置であって、前記粘着材の側方位置から前記基板に向かって先端が相対的に突き出される剥離ピンを有し、前記剥離ピンは、前記基板の前記粘着モジュールからの剥離進行方向に沿って隣接する前記粘着材の間に配置され、前記剥離ピンの前記基板に最初に接触するそれぞれの先端の点が、前記粘着材のうちの特定の粘着材の中心から隣接する最も近い別の粘着材との端部間の距離の1/2未満の点を半径とする円の内側で、前記特定の粘着材の端部よりも前記剥離進行方向の上手側の範囲に配置されていることを特徴とする。
また、本発明の基板の剥離装置は、間隔を空けて配置された複数の粘着材によって粘着モジュールに粘着保持された基板を、前記粘着モジュールから剥離する剥離装置であって、前記粘着材の側方位置から前記基板に向かって先端が相対的に突き出される剥離ピンを有し、前記剥離ピンは、前記基板の前記粘着モジュールからの剥離進行方向に沿って隣接する前記粘着材の間に配列され、前記剥離ピンの前記基板に最初に接触するそれぞれの先端の点が、前記粘着材の中心から隣接する最も近い別の粘着材の中心との距離の1/2未満を半径とする円の内側で、前記粘着材の最外周部よりも前記剥離進行方向の上手側の範囲に配置されていることを特徴とする。
この構成によれば、剥離ピンを粘着材に対して特定の位置に配置したので、剥離ピンの高さ、あるいは相対的な突き出し速度を調整することによって、基板Wに傷や割れを発生させることなく、安定的に剥離することができる。
本発明の剥離装置の実施の形態における剥離工程(a)(b)(c)を示した断面図 (a)図1の平面図と(b)要部の拡大図 図2(b)と同一の配置を説明する要部の拡大図 (a)(b)はそれぞれ比較例における粘着材と剥離ピンの位置関係を示した平面図 本発明の別の実施の形態における剥離装置の(a)平面図と(b)要部の拡大図 図5(b)と同一の配置を説明する要部の拡大図 本発明の別の実施の形態における剥離装置の(a)平面図と(b)要部の拡大図 (a)(b)はそれぞれ本発明の更に別の実施の形態における粘着材の平面形状を示す斜視図 特許文献1に記載された剥離装置の要部の断面図 従来の剥離装置を備えた粘着保持装置における(a)は剥離前、(b)は剥離開始直後、(c)は複数個の粘着材から基板が剥離した際の様子を示す断面図
以下、本発明の剥離装置を、具体的な実施の形態に基づいて説明する。
図1と図2は、ワークである基板Wを粘着材1aから剥がす剥離装置を示す。
この実施の形態における基板Wの大きさは、長辺:2500〜700mm,短辺:2200〜700mm,厚み:1.2〜0.1mmの範囲となるガラスであるが、本発明はこれに限定されるものではなく、本例のサイズより大きくても、小さくてもよい。
図1(a)に示すように、粘着材1aは、粘着面を上方に向けて粘着モジュール1の上面に固定されている。粘着材1aは、対象とする基板Wを、所望の時間、剥離することなく粘着保持する程度の粘着力が必要であり、基板交換の際は破損せずに剥離できる程度の粘着力であることが必要である。また、図2に示すように複数の粘着材1aのピッチは、基板Wの自重による撓みが発生しても、基板Wの所望の平面度を確保できるだけのピッチで配置される必要がある。
本実施の形態では、粘着面がφ20である粘着材1aを120mmピッチで粘着モジュール1に配置することで、基板Wの平面度1mm以内のまま、1時間以上にわたって、粘着モジュール1に基板Wを粘着保持を可能とした。1時間の粘着保持時間の確保と剥離時割れ防止のためには、粘着材1aの粘着面の面積をS1とし、基板Wの面積をS2としたとき、その面積比率S1/S2が、0.005〜0.5以内であればよい。ただし、この比率は粘着材の粘着保持力と実際の有効粘着面積により変化する。本実施の形態では、粘着力約10Nで有効粘着面積はS1の0.8倍とした。
粘着モジュール1には、粘着材1aが配置された付近に、孔1bが粘着材1aと同数以上が設けられている。この実施の形態では、各粘着材1aに1つの孔1bが、後述する剥離ピン2aと水平方向で同じ位置に配置されている。
基板Wは、被処理面Waを上向きとして粘着材1aの上部に戴置されて、粘着モジュール1に粘着保持されている。
被処理面Waを下方に向けて上向きに成膜処理する場合は、粘着材1aによって基板Wを保持している粘着モジュール1は、図示されていない反転ユニットにより反転され、基板Wの被処理面Waが下向きとなり、成膜処理が行われる。その後、成膜処理が終了し、剥離動作を行うまでに、粘着モジュール1は前記反転ユニットにより再度反転され、基板Wの被処理面Waが上向きの状態となる。
基板Wに向かって先端が粘着モジュール1の孔1bから突出するように駆動される複数の剥離ピン2aは、図1(a)に示すように昇降フレーム2に連結固定されている。昇降フレーム2には駆動機構3が連結されている。昇降フレーム2が上昇することで複数の剥離ピン2aが上昇し、その剥離ピン2aの位置に対応して粘着モジュール1に設けられた孔1bより剥離ピン2aの先端が突出し、粘着材1aにより粘着保持された基板Wを、剥離ピン2aが突き上げることで、基板Wを粘着材1aから剥離する。
この実施の形態の複数の剥離ピン2aの高さは、粘着モジュール1の平面位置によって異なっている。つまり、基板Wの図2に示す短辺Ws1,Ws2 から中央に近付くに従って、各位置の剥離ピン2aの高さが低くなっている。
剥離ピン2aは、粘着モジュール1に配置されている粘着材1aに対して、次のような位置に平面配置されている。
基板Wの長辺方向Fの中心線L0から左側の区間FLでは、粘着材1aの左側に剥離ピン2aが配置されている。基板Wの長辺方向の中心線L0から右側の区間FRでは、粘着材1aの右側に剥離ピン2aが配置されている。さらに、粘着材1aの中心P0を中心として、この粘着材1aに最も近い隣り合った粘着材1aの中心P2との中心間距離の1/2未満の点P5を半径とする円C1と、基板Wの長辺方向Fに垂直な線の内、中心P0の粘着材1aの円周上の外側の点を通る線L1とで囲われた範囲S3の中に、剥離ピン2aの一部が存在する。さらに剥離ピン2aは、剥離ピン2aの先端で基板Wに最初に接触する点P1が、線L1より長辺方向Fに沿って外側になるように配置されている。
このように構成したため、単一の駆動機構3を運転することで、昇降フレーム2を所定速度で上昇させ、高さの異なる複数の剥離ピン2aを一斉に上昇させて、基板Wを突き上げることで、基板Wの長辺方向Fの外側の粘着材1aから基板Wの剥離が始まって、基板Wの長辺方向の内側の粘着材1aへ基板Wの剥離が進行するので、常に剥離抵抗の少ない状態で剥離が進行され、基板への傷や割れの発生を抑制できる。
また、粘着材1aの内部ではなく、粘着材1aの外側から剥離ピン2aを突上げることで、基板Wは粘着材1aの外周上のある1点から剥離を開始して、剥離抵抗を小さくできるため、形状が薄い基板Wに負荷を加えずに安定的に粘着材1aから剥離することができる。
図2の実施の形態では基板Wの長辺方向の中心線L0から左側の区間FLでは、基板Wの外側から中心に向かう方向D1と、基板Wの長辺方向の中心線L0から右側の区間FRでは、基板Wの外側から中心に向かう方向D2が剥離順序の方向である。剥離ピン2aは、剥離進行方向D1,D2に沿って隣接する粘着材1aの間に配置されているとも言える。
図1、図2では粘着材1a、剥離ピン2aの個数・本数を25個・30本としたが、その個数はこれに限定されるものではなく、基板サイズに応じて増減することができる。また、個数の比率についても、粘着材1aが1つに対し、剥離ピン2aは1本以上配置されればよい。
上記の図2(a)(b)の説明では、剥離材1aの平面形状が円形であるため、粘着材1aの中心P0を中心とした円C1を、粘着材1aに最も近い隣り合った粘着材1aの中心P2との中心間距離の1/2未満を半径とすると説明したが、円C1は、図3に示すように、中心P0の特定の粘着材1aに隣接する最も近い別の粘着材1aとの端部間である最外周間の距離P3−P4とした場合に、中心P0から見て距離P3−P4の1/2未満の点P5を半径とする円であるとも言える。
図4(a)(b)は比較例を示す。
図4(a)のように粘着材1aと剥離ピン2aが重複したり、図4(b)のように粘着材1aの内部に剥離ピン2aが配置された場合には、基板Wは粘着材1aの外周上の1点以上から剥離を開始するため、剥離抵抗が大きくなる。
図1と図2に示した実施の形態では、剥離ピン2aは隣り合う粘着材1aの間に配置され、対となる粘着材1aを通る長辺方向に対し平行な線分上の粘着材から35mmの位置に配置した。そして、剥離ピン2aは、図1(b)のように突上げられる基板Wとの接触部を結んだ線と水平線がなす角度θが、基板Wの外側に向かうにつれて増加し、その鋭角が0.1°〜3°の範囲となるように、高さ勾配を設けている。
剥離ピン2aは基板短辺側の最外部から長辺方向の中心線に向けて、低くなるように調整されており、固定された昇降ユニット2が上昇することで、各粘着材はその外周の長辺方向外側の1点から剥離が開始し、また、全ての粘着材1aにおいても同様に、粘着材1aの外周の長辺方向外側1点から剥離が開始するため、剥離抵抗を最小にし、基板を一律に長辺方向に沿って撓ませながら剥離でき、安定的に剥離することができる。
しかしながら、剥離ピン2aを、前述の範囲S3の外部に配置した場合には、基板Wを外側の粘着材1aから順に剥離できず、基板Wのたわむ方向が乱れるため、薄い基板Wに傷や割れが発生して、基板Wを粘着モジュール1から安定的に剥離できない。
この比較例に対して、本発明の実施の形態を示している図2(a)(b)では、基板Wの長辺方向に沿って粘着材1aと剥離ピン2aが交互になるように配置して、言い換えると、隣接する粘着材1a,1aの間に剥離ピン2aを配置し、基板Wを長辺方向Fの外側から中心に向かって順に粘着材1aから剥離する例を示したが、図5(a)(b)に示すように、基板Wの長辺方向と交差する傾斜方向FAに沿って粘着材1aと剥離ピン2aが交互になるように配置して、基板Wを粘着材1aから剥離することもできる。
この場合も図2の場合と同様に、粘着材1aの中心P0を中心として、この粘着材1aに最も近い隣り合った粘着材1aの中心P2との中心間距離の1/2未満を半径とする円C2と、傾斜方向FAに垂直な線の内、中心P0の粘着材1aの円周上を通る線L2とで囲われた範囲S4の中に、剥離ピン2aの一部が存在する。さらに剥離ピン2aは、剥離ピン2aの先端で基板Wに最初に接触する点P1が、線L2より傾斜方向FAに沿って外側になるように配置されている。
つまり、基板Wの中心L3から傾斜方向FAの図5(a)(b)に示す左上の区間FLUでは、傾斜方向FAに沿って外側である、粘着材1aに近接して斜め左上に剥離ピン2aが配置されている。基板Wの中心L3から傾斜方向FAの図5(a)(b)に示す右下の区間FRDでは、前記傾斜方向FAに沿って外側である、粘着材1aに近接して斜め右下に剥離ピン2aが配置されている。
複数の剥離ピン2aの高さは、粘着モジュール1の平面位置によって異なっている。つまり、基板Wの中央に近付くに従って、傾斜方向FAに沿って各位置の剥離ピン2aの高さが、中心L3に近付くに伴って低くなっている。
このように構成することによって、図5(a)(b)の場合であっても、この剥離ピン2a同士の高さ関係と、前述の剥離ピン2aの粘着材に対する位置関係により、基板Wを基板中心に対して、傾斜方向FAの外側の粘着材から剥がすことで、常に剥離抵抗の少ない状態で剥離が進行され、基板への傷や割れの発生を抑制できる。図5(a)(b)の場合には、前記傾斜方向FAで、外側から中心に向かう方向D1,D2が剥離順序の方向である。
上記の図5(a)(b)の説明では、剥離材1aの平面形状が円形であるため、粘着材1aの中心P0を中心とした円C2を、粘着材1aに最も近い隣り合った粘着材1aの中心P2との中心間距離の1/2未満を半径とすると説明したが、円C2は、図6に示すように、中心P0の特定の粘着材1aに隣接する最も近い別の粘着材1aとの端部間である最外周間の距離P3−P4とした場合に、中心P0から見て距離P3−P4の1/2未満の点P5を半径とする円であるとも言える。
また、図2(a)(b)または図4(a)(b)では、剥離材1aの平面形状が円形であったが、図7(a)に示すように基板Wの長辺方向に一定幅の帯状であってもよい。その他は図2と同じである。図7(a)(b)では、基板Wの粘着モジュール1からの剥離進行方向D1,D2に沿って隣接する粘着材1aの間に、剥離ピン2aが配置されている。かつ、特定の粘着材1aの中心P0から、剥離ピン2aの先端で基板Wに最初に接触する点P1は、隣接する最も近い別の粘着材1aとの端部間の距離P3−P4の1/2未満の点P5を半径とする円C3の内側で、特定の粘着材1aの端部であるP3よりも剥離進行方向D1の上手側の範囲S3に配置されている。また、図5(a)(b)の場合と同様に、基板Wの長辺方向と交差する傾斜方向FAに沿って粘着材1aと剥離ピン2aが交互になるように配置して、基板Wを粘着材1aから剥離することもできる。
このように構成した場合には、基板Wの自由端より剥離動作を行い、基板Wと粘着材1aとの粘着面積を一定の割合で連続的に減少させることができるので、個々の粘着材1aから基板Wが剥離する際に生じる跳ねや反りを抑え、安定的に剥離できる。
上記の各実施の形態においては、複数の剥離ピン2aに予め高さ勾配をつけ、昇降フレーム2を上昇させて、一律に剥離ピン2aを突き上げることで粘着モジュール1から基板Wの剥離を行ったが、高さ勾配を付けない同じ長さの複数の剥離ピン2aを使用して、基板Wと剥離ピン2aの先端との接触部において、剥離進行方向に隣り合う2点を結んだ線と水平線がなす角度が、基板Wの外側に向かうにつれて増加し、かつ、その角度が0.1°〜3°の範囲となるように、剥離ピン2aごとに上昇動作を個別に制御して、基板Wの外側より中央にかけて徐々に剥離ピン2aが基板Wを突き上げて剥離を行っても良い。
上記の各実施の形態においては、粘着モジュール1に対して昇降フレーム2または剥離ピン2aを上昇させたが、昇降フレーム2または剥離ピン2aに対して粘着モジュール1の側を移動させてもよい。つまり、昇降フレーム2または剥離ピン2aと粘着モジュール1との相対移動によって、同様に基板Wを粘着材1aから安定して剥離できる。
上記の各実施の形態においては、図2と図5では粘着材1aの平面形状を円形とし、また図7では粘着材1aの平面形状を基板Wの長辺方向に一定幅の帯状としたが、図8(a)(b)に示すように、粘着材1aの平面形状を三角形や菱形とし、その鋭角を個々の粘着材に対応する剥離ピン2a側に向け配置することで、剥離開始時の粘着面積を最小化させ、剥離抵抗を軽減することができる。
上記の各実施の形態においては、剥離ピン2aの先端形状は円柱となっているが、針状や球状とすることで、剥離時に基板Wとの間に発生する摩擦抵抗を低下させ、安定的に剥離することができる。また、剥離ピン2aの先端と基板Wとの摩擦抵抗を低減させるため、本発明では剥離ピン2aの先端の材質にポリイミド樹脂を用いたが、前記剥離ピンの先端の材質が、フッ素樹脂のような低摩擦係数を有する材質、または二硫化モリブデンに代表される固体潤滑剤とすることも有効である。具体的には、フッ素樹脂などの低摩擦係数(0.2以下)の材料が剥離ピン2aの先端に付いている、または二硫化モリブデンに代表される固体潤滑剤が、剥離ピン2aの先端に塗布することによっても、剥離時に基板Wとの間に発生する摩擦抵抗を低下させ、安定的に剥離することができる。
1 粘着モジュール
1a 粘着材
2 昇降フレーム
2a 剥離ピン
3 駆動機構
W 基板
D1,D2 剥離進行方向
P1 剥離ピン2aの基板Wに最初に接触するそれぞれの先端の点
P0 粘着材1aの中心
P3−P4 隣接する最も近い別の粘着材1aとの間の距離
P5 距離P3−P4の1/2未満の点
C1,C2 P0−P5を半径とする円
S3,S4 円C1の内側で、粘着材1aの端部よりも剥離進行方向D1,D2の上手側の範囲
θ 基板Wと剥離ピン2aとの接触部を結んだ線と水平線がなす角度
FA 基板Wの長辺方向と交差する傾斜方向

Claims (4)

  1. 間隔を空けて配置された複数の粘着材によって粘着モジュールに粘着保持された基板を、前記粘着モジュールから剥離する剥離装置であって、
    前記粘着材の側方位置から前記基板に向かって先端が相対的に突き出される剥離ピンを有し、
    前記剥離ピンは、
    前記基板の前記粘着モジュールからの剥離進行方向に沿って隣接する前記粘着材の間に配置され、前記剥離ピンの前記基板に最初に接触するそれぞれの先端の点が、前記粘着材のうちの特定の粘着材の中心から隣接する最も近い別の粘着材との端部間の距離の1/2未満の点を半径とする円の内側で、前記特定の粘着材の端部よりも前記剥離進行方向の上手側の範囲に配置されている
    基板の剥離装置。
  2. 間隔を空けて配置された複数の粘着材によって粘着モジュールに粘着保持された基板を、前記粘着モジュールから剥離する剥離装置であって、
    前記粘着材の側方位置から前記基板に向かって先端が相対的に突き出される剥離ピンを有し、
    前記剥離ピンは、
    前記基板の前記粘着モジュールからの剥離進行方向に沿って隣接する前記粘着材の間に配列され、前記剥離ピンの前記基板に最初に接触するそれぞれの先端の点が、前記粘着材の中心から隣接する最も近い別の粘着材の中心との距離の1/2未満を半径とする円の内側で、前記粘着材の最外周部よりも前記剥離進行方向の上手側の範囲に配置されている
    基板の剥離装置。
  3. 前記剥離進行方向に隣り合う2つの前記剥離ピンの先端と前記基板とが接触する2点を結んだ線と水平線がなす角度が、前記基板の外側に向かうにつれて増加し、かつ、その角度が0.1°〜3°の範囲となるように、前記剥離ピンの高さ、あるいは前記剥離ピンの相対的な突き出し速度を調整する駆動機構を設けた
    請求項1または請求項2に記載の基板の剥離装置。
  4. 前記剥離ピンの先端の材質が、ポリイミド樹脂やフッ素樹脂のような低摩擦係数を有する材質、または二硫化モリブデンに代表される固体潤滑剤である
    請求項1または請求項2に記載の基板の剥離装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2963210B2 (ja) * 1991-01-10 1999-10-18 東京エレクトロン株式会社 半導体製造装置
JPH07122623A (ja) * 1993-10-27 1995-05-12 Sony Corp ペレット剥離方法及びペレット剥離装置
JP2002059363A (ja) * 2000-08-23 2002-02-26 Chemitoronics Co Ltd ウエーハ支持体
JP2003218003A (ja) 2002-01-21 2003-07-31 Toray Ind Inc 基板加熱装置
JP4348092B2 (ja) * 2003-02-07 2009-10-21 シチズンファインテックミヨタ株式会社 接着シール剥離ユニット及びそれを用いた接着シール剥離装置
JP2008078283A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp 基板支持装置
JP2009032790A (ja) 2007-07-25 2009-02-12 Nikon Corp 基板剥離方法および基板剥離装置
JP2010056217A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板昇降装置および基板処理装置
US20100151688A1 (en) * 2008-12-12 2010-06-17 Applied Materials, Inc. Method to prevent thin spot in large size system
JP2013055093A (ja) * 2011-09-01 2013-03-21 Creative Technology:Kk 粘着チャック装置及びワークの粘着保持方法

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