JP5877229B2 - 溶液製膜方法 - Google Patents

Description

本発明は、溶液製膜方法に関する。

光透過性を有するポリマーフィルム（以下、フィルムと称する。）は、偏光板の保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、透明導電性フィルムなど光学フィルムとして多岐に利用されている。フィルムには、厚み均一性や光学特性が要求される。従来は厚さが８０μｍ以上の厚膜フィルムが中心に用いられていたが、近年は、フィルムの薄膜化の要望が強くなってきており、厚さが４０μｍ以下の薄膜フィルムが求められている。

フィルムの製造方法としては、溶液製膜方法が用いられる。溶液製膜方法は、例えば、流延ダイによりポリマーを溶剤に溶かした溶液（以下、ドープ、と称する）を金属製のドラムやバンドなどの支持体上に流延して流延膜を形成し、乾燥させて剥ぎ取ることによってフィルムを得る方法である。流延膜から溶剤を蒸発させ、剥ぎ取り可能なレベルまで流延膜を乾燥させる膜乾燥工程は、溶液製膜方法全体において長い時間がかかる工程であるため、膜乾燥工程の短縮化が望まれている。

膜乾燥工程の短縮化のために、特許文献１に記載の溶液製膜方法では、ドープが流延ダイから流出されてから支持体に流延されるまでの間に赤外線を照射し、支持体上に形成された流延膜に１００℃程度の熱風を当てて流延膜を加熱及び乾燥している。

特開２０１２−０６６４８３号公報

流延膜に熱風を当てると、流延膜の膜面が波打つ。厚膜フィルムを得るための流延膜（以下、厚流延膜と称する）においては、流延膜をなすドープの流動性や表面張力等の働きで流延膜がレベリングされる。レベリングとは、膜面が平坦化されて厚みが均一になることである。一方、薄膜フィルムを得るための流延膜（以下、薄流延膜と称する）においては、十分にレベリングされない。このため、薄流延膜は、膜面が波打ったまま乾燥されるので、形成されるフィルムには、波打ったようなちりめん状のしわが表面にできてしまい、厚みむらが生じてしまう。

また、支持体の流延膜が流延される流延領域は、流延膜が加熱されても、流延膜からの溶剤の蒸発により潜熱が奪われるので温度はさほど上昇しない。一方で、支持体の流延膜が流延されない非流延領域は、温度が上昇する。そして、非流延領域から流延領域へ熱伝達が起こることにより、流延領域の幅方向両側端部の温度が上昇する。これにより、流延領域の幅方向両側端部上にある流延膜温度が急激に上昇し、流延膜の幅方向両側端部が発泡する。こうした幅方向両側端部の発泡は、熱容量が比較的低い薄流延膜の方が厚流延膜よりも顕著に発生するため、特に薄膜フィルムを得る場合に大きな問題となる。

一方、流延膜を加熱することなく、溶剤が蒸発するのを待つ場合には、厚みむらも発泡も無い薄膜フィルムが得られるが、膜乾燥工程にかかる時間が長くなる。そのため、生産効率が悪い。

そこで、本発明は、薄膜フィルムを生産する場合において、厚みむらや発泡を引き起こすことなく、比較的短時間で流延膜を乾燥させることができる溶液製膜方法を提供することを目的とする。

本発明の溶液製膜方法は、ポリマー及び溶剤を含むドープを支持体の表面に流延して流延膜を形成する流延膜形成工程と、風速が２．０ｍ／ｓ以下に抑えられた雰囲気中で、流延膜に赤外線を照射することにより流延膜を加熱して、流延膜の膜面上の第１の位置における膜面温度Ｔ１を、流延膜が形成されていない支持体上の第１の位置より幅方向外側にある第２の位置における支持体温度Ｔ２以上に保持しながら、流延膜を乾燥し、流延膜中の溶剤の残留量を１００質量％以下とする赤外線照射乾燥工程と、溶剤の残留量が１００質量％以下となった流延膜を支持体から剥ぎ取って湿潤フィルムとする剥取工程と、剥ぎ取った湿潤フィルムを乾燥してフィルムとするフィルム乾燥工程とを有し、流延膜に赤外線を照射する赤外線ヒータの照射幅を、前記流延膜の幅の０．８倍以上１．０倍以下の範囲内とし、赤外線ヒータの赤外線の射出側に、赤外線ヒータの幅方向両側端部を覆い、赤外線を反射する一対の反射板が互いに離間して設けられ、照射幅は、反射板により制限される。

反射板は支持体の幅方向に移動可能に設けられ、反射板を幅方向に移動させることにより照射幅を調節することがさらに好ましい。

赤外線ヒータの温度は、１００℃以上５００℃以下の範囲内であることが好ましい。また、赤外線の波長は、１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。

本発明によると、流延膜に厚みむらや発泡が生じない。また、流延膜を加熱することなく、溶剤が蒸発するのを待つ場合と比較して、短時間で流延膜から溶剤を蒸発させることができる。そのため、効率良く薄膜フィルムを生産することができる。

本発明を実施した溶液製膜設備の概略図である。 第１実施形態の流延室の概略図である。 第１実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 溶液製膜方法の概略図である。 第１実施形態における、流延膜及び流延バンドの幅方向における温度分布を示すグラフである。 第２実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第２実施形態における、流延膜及び流延バンドの幅方向における温度分布を示すグラフである。 第３実施形態の流延室の概略図である。 第３実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第４実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第５実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第６実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第７実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 第８実施形態の流延室の概略図である。 第８実施形態の赤外線照射装置の説明図である。 実施例の実験１〜６における温度測定結果をプロットしたグラフである。

［第１実施形態］
（溶液製膜設備）
図１に示すように、本発明を実施した溶液製膜設備１０は、製造ラインの上流側から順に、流延室１２とクリップテンタ１３と乾燥室１５と冷却室１６と巻取室１７とを有する。流延室１２では、ポリマーと溶剤とを含むドープ１８から、湿潤フィルム１９が得られる。ポリマー及び溶剤の詳細並びに流延室１２の詳細は、後述する。

流延室１２とクリップテンタ１３との間の渡り部２１には、湿潤フィルム１９に乾燥風を当てる送風機２１ａと、湿潤フィルム１９を支持する複数の支持ローラ２１ｂとが設けられている。複数の支持ローラ２１ｂは、湿潤フィルム１９の搬送方向へ並べられている。支持ローラ２１ｂは、流延室１２から送出された湿潤フィルム１９を支持して、クリップテンタ１３へ案内する。

クリップテンタ１３は、湿潤フィルム１９の幅方向両側端部をクリップで把持しながら搬送する。クリップテンタ１３は、湿潤フィルム１９に乾燥や幅方向への延伸などの所定の処理を施すことにより、フィルム２３とする。フィルム２３は、クリップテンタ１３から耳切装置２５へ送出される。耳切装置２５は、フィルム２３の両端を切断する。フィルム２３は、耳切装置２５から乾燥室１５へ送出される。

乾燥室１５には、多数のローラ２７が設けられている。乾燥室１５内の雰囲気の温度や湿度などは、図示しない空調機により調節されている。フィルム２３は、乾燥室１５内を多数のローラ２７に巻き掛けられて搬送され、乾燥室１５内で乾燥処理が施される。乾燥室１５には、吸着回収装置２８が接続されている。吸着回収装置２８は、フィルム２３から蒸発した溶剤、すなわち溶剤ガスを吸着剤に吸着して回収する。

冷却室１６は、フィルム２３の温度が略室温となるまで、フィルム２３を冷却する。冷却室１６及び巻取室１７の間では、上流側から順に、除電バー２９、ナーリング付与ローラ３０、及び耳切装置３１が設けられている。除電バー２９は、冷却室から送出され、帯電したフィルム２３を除電する。ナーリング付与ローラ３０は、フィルム２３の幅方向両側端部に巻取用のナーリングを付与する。耳切装置３１は、切断後のフィルム２３の幅方向両側端部にナーリングが残るように、フィルム２３の幅方向両側端部を切断する。

巻取室１７には、プレスローラ３４と巻き芯３５とを有する巻取機３６が設けられている。巻取室１７に送出されたフィルム２３は、プレスローラ３４によって押し付けられながら巻き芯３５に巻き取られ、ロール状となる。

（ポリマー）
本発明に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであり、さらに好ましくは付加重合によって得られた環状オレフィンである。なお、第１実施形態では、ポリマーにはセルロースアシレートの一種であるセルローストリアセテート（Triacetylcellulose、ＴＡＣ）が用いられている。

（セルロースアシレート）
セルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を満たすものであることが好ましい。下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、セルロースの水酸基中の水素原子に対するアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度である。セルロースアシレートの９０質量％以上が０．１〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。ただし、本発明に用いることができるポリマーは、セルロースアシレートに限定されるものではない。
（Ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦Ｂ≦２．９

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化の場合を置換度１とする）を意味する。

全アシル化置換度、すなわち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の値は、２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）の値は、０．２８が好ましく、より好ましくは０．３０以上であり、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２は、グルコース単位における２位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「２位のアシル置換度」とする）であり、ＤＳ３は、グルコース単位における３位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「３位のアシル置換度」という）であり、ＤＳ６は、グルコース単位において、６位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「６位のアシル置換度」という）である。

本発明に用いることができるセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が用いられてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときには、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基がアセチル基により置換されている度合いの総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位の水酸基がアセチル基以外のアシル基によって置換されている度合いの総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、２．２２〜２．９０であることが好ましく、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。

また、ＤＳＢは０．３０以上であることが好ましく、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢは、その２０％以上が６位の水酸基の置換基であることが好ましく、より好ましくは２５％以上であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上であることが好ましい。さらに、セルロースアシレートの６位におけるＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であり、さらに好ましくは０．８０以上であり、特には０．８５以上であるセルロースアシレートも好ましく、これらのセルロースアシレートを用いることで、より溶解性に優れたドープを作製することができる。特に、非塩素系有機溶剤を使用すると、優れた溶解性を示し、低粘度で濾過性に優れるドープを作製することができる。

セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター、パルプのいずれかから得られたものでもよい。

本発明に用いることができるセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特には限定されない。例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどが挙げられ、それぞれ、さらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが挙げられる。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくは、プロピオニル基、ブタノイル基である。

（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、第１実施形態では、溶剤にはジクロロメタン（別名：メチレンクロライド）にメタノールなどのアルコールを少量混合したものが用いられている。

上記のハロゲン化炭化水素の中でも、炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。セルロースアシレートの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度及び光学特性など物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対して２〜２５質量％が好ましく、より好ましくは５〜２０質量％である。アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない溶剤組成も検討されている。この場合には、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく、これらを適宜混合して用いる場合もある。例えば、酢酸メチル、アセトン、エタノール、ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン、エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン、エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−および−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も溶剤として用いることができる。

（流延室）
図２に示すように、流延室１２には、流延ダイ４１、流延バンド４２、ドラム４３ａ，４３ｂ及び剥取ローラ４４が設けられている。

流延バンド４２は環状であり、帯状に形成されたバンド体の長手方向の一端と他端とを連結することにより形成されており、本発明の支持体に相当する。流延バンド４２は、周長さが５０ｍ以上１５０ｍ以下の範囲内のものが好ましく用いられる。流延バンド４２は、幅が１０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の範囲内のものが好ましく用いられる。流延バンド４２は、十分な耐腐食性と強度とを有するステンレス（例えば、ＳＵＳ３１６）製のものが好ましく用いられる。軸を中心に回転自在であるドラム４３ａ，４３ｂは、それぞれ軸方向が水平となるように、互いに同じ高さに略平行に並べられている。流延バンド４２は、ドラム４３ａ，４３ｂに巻き掛けられている。図示しないモータの駆動により、ドラム４３ａ，４３ｂのうち少なくとも一方が回転することにより、流延バンド４２は所定の方向へ循環移動する。流延バンドの移動方向を、以下では、ＭＤ方向と称する。第１実施形態では、ドラム４３ａ，４３ｂの上側では、流延バンド４２はドラム４３ａからドラム４３ｂに向かって移動し、ドラム４３ｂに接触している時にはドラム４３ｂに沿って流延バンド４２は上側から下側へ移動する。また、ドラム４３ａ，４３ｂの下側では、流延バンド４２はドラム４３ｂからドラム４３ａに向かって移動し、ドラム４３ａに接触している時にはドラム４３ａに沿って流延バンド４２は下側から上側へ移動する。

流延ダイ４１はドラム４３ａの上方に位置し、支持体である流延バンド４２に近接して配されている。流延ダイ４１は、循環移動する流延バンド４２上に、連続的にドープ１８を流延して、ＭＤ方向に長く延びる帯状の流延膜４５を形成する。流延膜４５は、幅が５００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下の範囲内のものであり、流延バンド４２よりも幅の狭いものが好ましく形成される。循環移動する流延バンド４２により、流延膜４５はＭＤ方向に搬送される。

流延ダイ４１のＭＤ方向上流側には、減圧チャンバ４１ａが流延ダイ４１に接して設けられている。減圧チャンバ４１ａにより、流延ダイ４１から流延バンド４２に至るまでのドープ１８、いわゆる流延ビードの上流側のエリアが減圧される。これにより、流延バンド４２の循環移動により発生する同伴風に起因する流延ビードの振動が抑えられ、厚みむらが抑えられる。

流延ダイ４１よりＭＤ方向下流側であり、ドラム４３ａからドラム４３ｂへ向かう流延バンド４２の上方近傍には、赤外線照射装置５１が設けられている。赤外線照射装置５１は、赤外線ヒータ５１ａを備える。赤外線照射装置５１は、赤外線ヒータ５１ａから流延膜４５に赤外線を照射する。第１実施形態では、赤外線ヒータ５１ａと流延膜４５との距離は、２００ｍｍとしている。赤外線ヒータ５１ａと流延膜４５との距離は、２５ｍｍ以上３００ｍｍ以下の範囲内が好ましく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下の範囲内がより好ましい。なお、赤外線照射装置５１は、所定のサイズの赤外線ヒータ５１ａがＭＤ方向に複数並べられることにより形成されていてもかまわない。複数の赤外線ヒータ５１ａにより、赤外線の照射を断続的にしてもかまわない。

赤外線ヒータ５１ａと流延バンド４２との間には、緊急赤外線遮断機構５１ｂが設けられている。緊急赤外線遮断機構５１ｂは、赤外線ヒータ５１ａからの赤外線を遮断することにより、赤外線により流延膜４５が加熱され続けるのを防ぐための機構である。緊急赤外線遮断機構５１ｂは、設備故障などのトラブルが発生したために流延バンド４２の循環移動が停止してしまった等の緊急の場合に作動する。緊急赤外線遮断機構５１ｂは、例えば、赤外線を遮断する遮断板と、赤外線を遮断する位置に遮断板を移動させる移動機構とからなる。遮断板には、例えば赤外線を反射するアルミニウムの板が用いられる。

赤外線照射装置５１のＭＤ方向下流側近傍には、温度計５３及び風速計５５が配されている。温度計５３は、赤外線照射装置５１の下を通過した直後の流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の温度を測定する。第１実施形態では、赤外線照射装置５１の通過直後の流延膜４５の膜面及び流延バンド４２のうち非流延領域の温度を測定することにより、赤外線照射装置５１を通過中のこれらの温度が、本発明の条件を満たしていることを確認している。風速計５５は、赤外線照射装置５１のＭＤ方向下流側近傍の風速を測定する。赤外線照射装置５１と流延膜４５との間における風速と、赤外線照射装置５１のＭＤ方向下流側近傍の風速とはほぼ等しい。そのため、第１実施形態では、赤外線照射装置５１のＭＤ方向下流側近傍の風速を、赤外線照射装置５１と流延膜４５との間における風速として測定している。なお、赤外線照射装置５１を構成する複数の赤外線ヒータ５１ａの各間に適宜温度計５３や風速計５５を配して、温度及び風速の測定箇所を増やしてもよい。

赤外線照射装置５１よりＭＤ方向下流側であり、ドラム４３ｂからドラム４３ａへ向かう流延バンド４２の下方近傍には、赤外線照射装置５２が設けられている。赤外線照射装置５２は、赤外線照射装置５１と同様の構成をとっている。赤外線照射装置５２は、赤外線ヒータ５２ａを備える。赤外線照射装置５２は、赤外線ヒータ５２ａから流延膜４５に赤外線を照射する。赤外線ヒータ５２ａと流延膜４５との距離は、３００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下の範囲内が好ましく、４００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下の範囲内がより好ましい。なお、赤外線照射装置５２は、所定のサイズの赤外線ヒータ５１ａがＭＤ方向に複数並べられることにより形成されていてもかまわない。複数の赤外線ヒータ５１ａにより、赤外線の照射を断続的にしてもかまわない。

赤外線ヒータ５２ａと流延バンド４２との間には、緊急赤外線遮断機構５２ｂが設けられている。緊急赤外線遮断機構５２ｂは、緊急赤外線遮断機構５１ｂと同様の構成を有し、緊急時に赤外線ヒータ５２ａからの赤外線を遮断する機能を有するものである。

赤外線照射装置５１と同様に、赤外線照射装置５２のＭＤ方向下流側近傍には、温度計５３及び風速計５５が配されている。なお、赤外線照射装置５２を構成する複数の赤外線ヒータ５１ａの各間に適宜温度計５３や風速計５５を配して、温度及び風速の測定箇所を増やしてもよい。

赤外線照射装置５２よりＭＤ方向下流側であり、流延ダイ４１よりＭＤ方向上流側にあるドラム４３ａの近傍には、剥取ローラ４４が設けられている。剥取ローラ４４は、赤外線照射装置５１，５２によって赤外線が照射されて自己支持性を得た流延膜４５を流延バンド４２から剥ぎ取る。流延膜４５が剥ぎ取られた流延バンド４２は、流延ダイ４１の下方へ移動し、再びドープ１８が流延されて支持体として機能する。

ドラム４３ａ，４３ｂには、温調装置５７が接続されている。温調装置５７は、伝熱媒体の温度を調節する温度調節部を内蔵する。温調装置５７は、温度調節部とドラム４３ａ，４３ｂ内に設けられる流路との間で、所望の温度に調節された伝熱媒体を循環させる。この伝熱媒体の循環により、流延バンド４２の温度を所望の温度に保持する。

流延室１２には、排気装置５８が設けられている。排気装置５８は、流延室１２の雰囲気を排気する。流延室１２の外に設けられた図示しない凝縮回収装置は、排気された雰囲気に含まれる溶剤ガスを凝縮して、凝縮した溶剤ガスを回収する。凝縮回収装置は、流延室１２の雰囲気に含まれる溶剤ガスを流延室１２内の雰囲気に含まれる溶剤ガスの濃度を一定の範囲に保持する。排気装置５８は、雰囲気を排気することにより、流延室１２内のガスの流れを制御する。

赤外線照射装置５２と剥取ローラ４４との間には、ラビリンスシール５９ａが設けられている。また、剥取ローラ４４と流延ダイ４１との間には、ラビリンスシール５９ｂが設けられ、流延ダイ４１と赤外線照射装置５１との間には、ラビリンスシール５９ｃが設けられている。ラビリンスシール５９ａ，５９ｂ，５９ｃは、いずれも、流延室１２の内壁面から流延バンド４２に向かって延びるように形成されている。また、ラビリンスシール５９ａ，５９ｂ，５９ｃの先端は、流延バンド４２に近接している。ラビリンスシール５９ａ，５９ｂ，５９ｃにより、流延室１２の内部における雰囲気の流れを安定化させる。

（赤外線照射装置）
流延バンド４２の幅方向をＴＤ方向と称する。流延膜４５の幅方向もＴＤ方向となる。図３に示すように、赤外線照射装置５１は、赤外線ヒータ５１ａのＴＤ方向における中央と流延膜４５のＴＤ方向における中央とが、互いに対向するように設けられる。赤外線照射装置５１並びに流延膜４５及び流延バンド４２は、これらの概ね中央を通る直線に対して線対称となっている。赤外線ヒータ５１ａのＴＤ方向の長さはＬｈ１である。Ｌｈ１は、流延膜４５のＴＤ方向の幅Ｌｍの０．９倍である。

第１実施形態においては、赤外線照射装置５１と流延膜４５との距離が小さいため、実質的に赤外線の広がりは小さい。そのため、第１実施形態では、赤外線ヒータ５１ａからの赤外線の射出幅と、流延膜４５に赤外線が照射される照射幅とは、概ね等しくなる。すなわち、赤外線照射装置５１による流延膜４５への赤外線の照射幅を、Ｌｈ１とみなすことができる。なお、図３は、ＭＤ方向上流側からＭＤ方向下流側に向かって赤外線照射装置５１と、流延膜４５及び流延バンド４２の断面を見た図であり、流延膜４５及び流延バンド４２の厚さを誇張して描いている。また、図３では、風速計５５及び緊急赤外線遮断機構５１ｂの図示を省略している。

ここで、流延膜４５の膜面のＴＤ方向略中央にある位置を位置Ｃとおく。また、赤外線ヒータ５１ａのＴＤ方向両側端から流延膜４５の膜面への垂線の足の位置をいずれもＢとおく。また、流延膜４５の膜面両側端の位置をいずれもＥとおく。このとき、Ｅから流延バンド４２への垂線の足の位置は、いずれも流延領域と非流延領域との境界位置Ｇとなっている。なお、流延領域とは、流延膜が流延される流延バンド４２の領域であり、非流延領域とは、流延膜が流延されない流延バンド４２の領域である。

流延領域と非流延領域との両側の境界位置Ｇからそれぞれ非流延領域側にＬ入った流延バンド４２上の位置をいずれもＳとおく。第１実施形態においては、Ｌは５０ｍｍである。なお、ＭＤ方向に垂直な方向で切った断面図である図３においては、位置Ｃ，Ｂ，Ｅ，Ｇは点状で示されているが、いずれもＭＤ方向（図３の紙面に垂直な方向）に伸びて直線状に形成されている。赤外線照射装置５１並びに流延膜４５及び流延バンド４２は、位置Ｃに対して線対称となっている。

位置Ｂの２本の直線の間の流延膜４５の膜面の領域、すなわち赤外線ヒータ５１ａと対向しており赤外線ヒータ５１ａの直下にある流延膜４５の膜面の領域を流延膜面４５ａとおく。また、位置Ｃに対して同じ側にある位置Ｂの直線と位置Ｅの直線との間の流延膜４５の膜面の領域、すなわち赤外線ヒータ５１ａと対向していない赤外線ヒータ５１ａの直下からＴＤ方向両側端部に外れた流延膜４５の膜面の領域を流延膜面４５ｂとおく。流延膜面４５ｂは、流延膜面４５ａのＴＤ方向両側端部に形成される。流延膜面４５ａには赤外線が照射される一方、流延膜面４５ｂ及び非流延領域には赤外線は照射されない。

赤外線照射装置５２も、赤外線照射装置５１と同様の構成を有している。つまり、赤外線照射装置５２に備えられた赤外線ヒータ５２ａのＴＤ方向の長さはＬｈ１であり、その照射幅はＬｈ１である。赤外線照射装置５２も、赤外線照射装置５１と同様の赤外線照射を流延膜４５に対して行う。

（溶液製膜方法）
次に、溶液製膜方法について説明する。図１に示す溶液製膜設備１０では、溶液製膜方法が行われる。溶液製膜方法は、図４に示すように、流延膜形成工程６１と、赤外線照射乾燥工程６２と、剥取工程６３と、フィルム乾燥工程６４とを有する。

（流延膜形成工程）
図２に示すように、ドラム４３ａ，４３ｂの回転により、流延バンド４２はＭＤ方向へ循環移動する。流延バンド４２の移動速度Ｖ１は、例えば、１０ｍ／分以上１５０ｍ／分以下である。移動速度Ｖ１は、４０ｍ／分以上１２０ｍ／分以下が好ましい。移動速度Ｖ１で移動する流延バンド４２の上に、流延ダイ４１からドープ１８を流延すると、ＭＤ方向に長く延びる帯状の流延膜４５が形成される。

（赤外線照射乾燥工程）
流延膜４５は、移動する流延バンド４２により搬送される。図３に示すように、赤外線照射装置５１は、搬送されてくる流延膜４５の膜面に向けて赤外線を照射する。赤外線により、流延膜４５が加熱される。流延膜４５は赤外線を吸収しやすいが、流延バンド４２にステンレスが用いられている場合には、流延バンド４２は赤外線を吸収しにくい。そのため、流延バンド４２は温度がほとんど上昇することなく、流延膜４５は加熱され、流延膜４５から溶剤が蒸発して流延膜４５は乾燥される。

赤外線照射乾燥工程６２においては、流延膜４５の膜面付近の雰囲気の風速が２．０ｍ／ｓ以下となるように制御される。ここで、流延膜４５の膜面付近の雰囲気とは、流延膜４５の膜面からある一定の距離までに存在する雰囲気のことであり、流延膜４５の厚みむらに影響を及ぼすものである。流延膜４５の膜面付近とは、具体的には流延膜４５の膜面から５０ｍｍ以下の範囲内の領域をいう。また、制御される風速の方向は、特に限定されない。この風速は、排気装置５８により制御される。流延膜４５の膜面付近の雰囲気の風速は、小さいほど好ましく、１．０ｍ／ｓ以下とすることが好ましく、０．５ｍ／ｓ以下とすることがより好ましい。

薄流延膜は、前述のように、厚流延膜よりもレベリングしにくい。そのため、薄流延膜を熱風により乾燥すると、熱風の方向に関係なく、熱風により流延膜４５の膜面が波打ち、この波打ちに起因して、ちりめん状のしわが表面に生じた、厚みむらがある薄膜フィルムとなってしまう。また、熱風により、流延バンド４２の非流延領域が加熱され、この加熱に起因して、流延膜４５のＴＤ方向両側端部が適温度領域より高い温度となり、流延膜４５のＴＤ方向両側端部に発泡が生じてしまう。発泡を低減しようとして熱風を当てる幅を流延膜４５の幅未満にしても、流延膜４５の膜面の波打ちに起因する厚みむらを低減することはできない。

一方、第１実施形態では、熱風を用いず、赤外線により流延膜４５を乾燥しており、流延膜４５の膜面付近の雰囲気の風速を２．０ｍ／ｓ以下に抑えている。なお、この風速は、風速計５５により常に測定され、風速２．０ｍ／ｓ以下に抑えられているかどうかが確認されている。そのため、熱風を用いる場合と比較して、流延膜４５の膜面が波打つことは極めて少なくなり、厚みむらが大きく低減される。この風速が小さいほど厚みむらは低減される。具体的には、この風速を１．０ｍ／ｓ以下に抑えた場合には、さらに厚みむらが低減され、この風速を０．５ｍ／ｓ以下に抑えた場合には、またさらに厚みむらが低減される。

また、第１実施形態では、赤外線ヒータ５１ａの照射幅Ｌｈ１は流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍としている。赤外線が照射されている際の流延膜４５の膜面と流延バンド４２の表面とのＴＤ方向における各温度について、図５を参照しながら説明する。図５においては、流延膜４５の膜面の温度分布曲線を実線で示し、これに符号Ｔｍ（０．９）を付しており、また、非流延領域における流延バンド４２の表面の温度分布曲線を破線で示し、これに符号Ｔｓ（０．９）を付している。Ｔｓ（０．９）はＴＤ方向両側端部の温度分布曲線である。

赤外線は、流延膜４５の膜面に対して略中央位置Ｃに関して略左右対称に照射されるため、温度分布曲線は、流延膜４５の膜面の略中央位置Ｃに関して略左右対称で滑らかな曲線となる。略中央位置Ｃで最大値Ｔ（Ｃ）［単位；℃］をとり、略中央位置ＣからＴＤ方向両側端部へ向かうにつれて緩やかに減少し、位置Ｂで値Ｔ（Ｂ）［単位；℃］をとる。位置ＢからさらにＴＤ方向両側端部へ向かうにつれて値は緩やかに減少し、位置Ｅで値Ｔ（Ｅ）［単位；℃］をとる。このように、流延膜４５の膜面における最高温度はＴ（Ｃ）となり、流延膜４５の膜面における最低温度はＴ（Ｅ）となる。

流延膜面４５ａは赤外線が照射されて加熱されるが、流延膜面４５ｂ及び流延バンド４２の非流延領域は赤外線が照射されず加熱されない。このため、流延膜面４５ａと、流延膜面４５ｂ及び非流延領域との間には、温度差が生じる。よって、赤外線により加熱される流延膜面４５ａから、流延膜面４５ｂ及び流延バンド４２の非流延領域へ熱伝達が起こる。流延膜面４５ａのうち、略中央位置Ｃ付近ではこの熱伝達の影響を受けにくい一方、流延膜面４５ｂと接している位置Ｂではこの熱伝達の影響を受けて温度が上がりにくくなる。そのため、流延膜４５の膜面において、略中央位置Ｃで温度が最大となり、全体として流延膜面温度曲線Ｔｍ（０．９）のような温度分布を示す。一方、流延領域及び非流延領域に熱風を当てる従来技術においては、非流延領域のほうが流延領域よりも高温となる。すなわち、本発明における赤外線照射によって生じる流延領域及び非流延領域の温度分布は、従来の熱風による温度分布とは全く逆の傾向になる。

位置Ｇにおける温度Ｔ（Ｇ）［単位；℃］は、位置Ｅにおける温度Ｔ（Ｅ）より僅かに低くなる。そして、流延バンド４２表面の非流延領域におけるＴＤ方向の温度分布曲線は、Ｔ（Ｇ）から流延バンド４２のＴＤ方向両側端部に向かうにつれて緩やかに減少するような温度分布曲線になる。また、位置Ｓおける温度Ｔ（Ｓ）［単位；℃］は、Ｔ（Ｅ）より僅かに低くなる。

ここで、第１実施形態では、位置Ｓの温度を、流延バンド４２の非流延領域の温度として測定している。位置Ｓは位置Ｇとさほど離れておらず、温度の差は僅かである。そのため、位置Ｓは、非流延領域のうち温度の測定が可能であり、かつ最も高温な位置とみなすことができる。第１実施形態ではＬは５０ｍｍであるが、これに限ることは無い。Ｌが短ければ短いほど好ましい。

流延膜４５の膜面における最低温度であるＴ（Ｅ）は、流延バンド４２の非流延領域の温度として測定されるＴ（Ｓ）以上の温度となっている。したがって、流延膜４５及び流延バンド４２の任意のＭＤ方向に垂直な断面において、流延膜４５の膜面上における任意の位置の膜面温度Ｔ１［単位；℃］は、流延バンド４２の表面上の非流延領域における任意の位置のバンド温度Ｔ２［単位；℃］以上となっている。

Ｔ１及びＴ２の好ましい範囲（以下、適温度範囲と称する）は、ドープ１８に用いられるポリマーや溶剤によって決められる。Ｔ１及びＴ２は、ポリマーが熱によりダメージを受けない範囲内であり、溶剤が十分な速さで蒸発するような範囲内であり、かつ、溶剤の沸点を超えない範囲内であればよい。一般的に用いられるポリマー及び溶剤の物性から、Ｔ２の範囲は、２５℃以上６０℃以下の範囲内とするのが好ましい。また、より好ましくは、以下の式（１）を満たすように赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。
Ｔ１≧１．０５×Ｔ２−１．２５ （２５≦Ｔ２≦６０）・・・式（１）

赤外線照射時の赤外線ヒータ５１ａ，５２ａの温度と、照射される赤外線の波長とは、いずれも、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上となるように、溶剤に応じて決められる。赤外線ヒータ５１ａ，５２ａの温度は、１００℃以上５００℃以下の範囲内が好ましく、１００℃以上３５０℃以下の範囲内がより好ましい。赤外線の波長は、１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内が好ましく、２．５μｍ以上３０μｍ以下の範囲内がより好ましい。なお、膜面温度Ｔ１及びバンド温度Ｔ２は、温度計５３により測定され、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２より高いかどうか確認できる。好ましくは、膜面温度Ｔ１及びバンド温度Ｔ２が適温度範囲にあるかどうか確認できる。

第１実施形態では、赤外線照射装置５１の通過直後の流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の温度を測定することにより、赤外線照射装置５１を通過中のこれらの温度が、本発明の条件を満たしていることを確認しているが、これは、次のような理由からである。溶液製膜方法においては、流延されるドープ１８の温度は、流延ダイ４１の直下を通過する流延バンド４２の温度よりも高くなるように制御される。つまり、流延膜４５が加熱され始める前までは、当然に膜面温度Ｔ１はバンド温度Ｔ２以上である。また、前の周回の赤外線照射により流延バンド４２に余熱があるので、流延膜４５を所望の残留溶剤量（後述する）まで乾燥させている場合には、バンド温度Ｔ２は当然に２５℃以上である。流延膜４５が形成された後、流延膜４５を乾燥するために加熱されることにより、流延膜４５の膜面温度は上昇し、これに伴い流延膜４５から流延バンド４２へ熱が伝えられて、流延バンド４２の表面温度も上昇する。このことから、流延膜４５と流延バンド４２との加熱が終了する時点においてさえ膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上であれば、流延膜４５と流延バンド４２との加熱中のいかなる時点においても、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上となるからである。以上により、第１実施形態では、赤外線照射装置５１の通過直後の流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の温度を測定することにより、赤外線照射装置５１を通過中のこれらの温度が、本発明の条件を満たしていることを確認している。なお、このことは、赤外線照射装置５２による赤外線の照射にも当てはまる。

赤外線照射装置５１によって赤外線が照射された流延膜４５は、流延バンド４２が移動することにより、赤外線照射装置５２の上方を通過する。赤外線照射装置５２は、赤外線照射装置５１と同様に、流延膜４５を加熱することにより乾燥させる。

赤外線照射装置５２によって赤外線が照射される場合も、赤外線照射装置５１によって赤外線５５が照射された場合と同様に、赤外線照射時の流延膜４５の膜面におけるＴＤ方向の温度分布は、上述の流延膜面温度曲線Ｔｍ（０．９），バンド面温度曲線Ｔｓ（０．９）のようになる。そのため、赤外線照射装置５２では、赤外線照射装置５１を用いる時と同様に、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上となるように、好ましくは式（１）を満たすように、赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。

従来のように、薄流延膜の幅よりも広い幅の範囲を赤外線で照射しても問題が生じる場合がある。このような赤外線の照射をすれば、流延バンド４２の非流延領域が赤外線により加熱され、非流延領域から流延領域へ熱伝達が起こることにより、流延領域のＴＤ方向両側端部の温度が上昇する。これにより、流延領域のＴＤ方向両側端部上にある流延膜４５の温度が急激に上昇し、流延膜４５のＴＤ方向両側端部に発泡が生じてしまうおそれがある。

一方、第１実施形態では、流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍の幅をもつ赤外線ヒータ５１ａ，５２ａにより、流延膜４５の膜面へ赤外線照射が行われるので、流延膜４５の膜面及びその両側の流延バンド４２の表面の温度分布は、それぞれ上述のＴｍ（０．９），Ｔｓ（０．９）となる。すなわち、流延膜４５の膜面温度Ｔ１の方が、そのＴＤ方向両側端部の流延バンド４２表面のバンド温度Ｔ２よりも高い。好ましくは、バンド温度Ｔ２が２５℃以上６０℃以下となるように制御される。より好ましくは、一般的に用いられるポリマー及び溶剤の物性から、上記式（１）を満たすように制御される。

このように、膜面温度Ｔ１を溶剤の沸点温度以下に制御しているので、流延膜４５に発泡が生じる確率が大きく低減する。また、同時に、膜面温度Ｔ１を溶剤が十分に蒸発することができる温度に制御しているので、効率よく流延膜４５内の溶剤が蒸発する。そのため、流延膜を加熱することなく、溶剤が蒸発するのを待つ場合と比較して、短時間で流延膜４５の残留溶剤量が１００質量％以下になる。なお、残留溶剤量は１００質量％になれば十分であるが、残留溶剤量が少ない方がより流延膜４５の自己支持性が得られるため、５０質量％以下になるまで流延膜４５に赤外線が照射されることがより好ましい。

以上により、第１実施形態では、厚みむらや発泡を引き起こすことなく、比較的短時間で流延膜４５から溶剤が蒸発する。

赤外線照射装置５１，５２による赤外線の照射により、流延膜４５は、残留溶剤量が１００質量％以下になるまで乾燥される。なお、本発明では、流延膜４５や各フィルム中に残留する溶剤量を乾量基準で示したものを残留溶剤量とする。この残留溶剤量は、対象のフィルムからサンプルを採取し、このサンプルの質量をｘ、サンプルを乾燥した後の質量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００［単位；質量％］で算出する。

（剥取工程）
剥取ローラ４４は、残留溶剤量が１００質量％以下となって自己支持性を得た流延膜４５を、流延バンド４２から湿潤フィルム１９として剥ぎ取り、渡り部２１を介してクリップテンタ１３へ送出する。

（フィルム乾燥工程）
クリップテンタ１３では、湿潤フィルム１９をＴＤ方向に延伸しながら、所定の乾燥風をあてて、湿潤フィルム１９から溶剤を蒸発させる。この結果、湿潤フィルム１９からフィルム２３を得る。

クリップテンタ１３から送出されたフィルム２３は、耳切装置２５による耳切処理が施される。耳切装置２５から送出されたフィルム２３は、乾燥室１５及び冷却室１６を順次通過し、各室において所定の処理が施される。冷却室１６から送出されたフィルム２３は、除電バー２９による除電処理、ナーリング付与ローラ３０によるナーリング付与処理、耳切装置３１による耳切処理が順次施され、巻取室１７に送出される。巻取室１７に送出されたフィルム２３は、プレスローラ３４によって押し付けられながら巻き芯３５に巻き取られ、ロール状となる。

［第２実施形態］
本発明の第２実施形態にかかる溶液製膜設備は、溶液製膜設備１０の赤外線照射装置５１，５２を赤外線照射装置６７，６８に代えたものである。図６に示すように、赤外線照射装置６７，６８には、それぞれ赤外線ヒータ６７ａ，６８ａが備えられている。また、赤外線ヒータ６７ａ，６８ａと流延バンド４２との間に、緊急赤外線遮断機構５１ｂ，５２ｂと同様の機能を持つ緊急赤外線遮断機構（図示省略）がそれぞれ設けられている。赤外線ヒータ６７ａ，６８ａのＴＤ方向の長さはいずれもＬｈ２であり、Ｌｈ２は、流延膜の幅Ｌｍの１．０倍である。つまり、赤外線ヒータ６７ａ，６８ａのＴＤ方向の照射幅はいずれもＬｈ２であり、流延膜の幅Ｌｍと略等しい。第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。なお、図６では、図３と同様に、流延膜４５及び流延バンド４２の厚さを誇張して描いている。また、図６では、風速計５５及び緊急赤外線遮断機構の図示を省略している。

第２実施形態では、赤外線照射乾燥工程６２は、赤外線照射装置６７，６８を用いて行われる。赤外線照射装置６７は、赤外線ヒータ６７ａから流延膜面４５ａに向けて赤外線を照射する。赤外線により、流延膜４５が加熱される。加熱された流延膜４５から溶剤が蒸発し、流延膜４５は乾燥される。第２実施形態では、流延膜４５の膜面の全域が赤外線ヒータ６７ａの直下にあるため、膜面の全域に赤外線が照射される。一方で、流延膜４５が流延されない非流延領域には赤外線は照射されない。すなわち、第２実施形態は、第１実施形態において、実質的に、流延膜４５の膜面の全域を流延膜面４５ａとし、流延膜面４５ｂの面積を０とし、位置Ｂと位置Ｅとが一致した形態となっている。赤外線照射装置６８も赤外線照射装置６７と同様の構成をとり、赤外線照射装置６７と同様に赤外線を流延膜４５に照射する。

赤外線ヒータ６７ａの照射幅Ｌｈ２は流延膜４５の幅Ｌｍの１．０倍としている。赤外線が照射されている際の流延膜４５の膜面と流延バンド４２の表面とのＴＤ方向における各温度について、図７を参照しながら説明する。図７においては、流延膜４５の膜面の温度分布曲線を実線で示し、これに符号Ｔｍ（１．０）を付しており、また、非流延領域における流延バンド４２の表面の温度分布曲線を破線で示し、これに符号Ｔｓ（１．０）を付している。Ｔｓ（１．０）はＴＤ方向の両側端側の温度分布曲線である。

赤外線は、流延膜４５の膜面に対して略中央位置Ｃに関して略左右対称に照射されるため、温度分布曲線は、流延膜４５の膜面の略中央位置Ｃに関して略左右対称で滑らかな曲線となる。略中央位置Ｃで最大値Ｔ（Ｃ）をとり、略中央位置ＣからＴＤ方向両側端部へ向かうにつれて緩やかに減少し、位置Ｅで値Ｔ（Ｅ）をとる。このように、流延膜４５の膜面における最高温度はＴ（Ｃ）となり、流延膜４５の膜面における最低温度はＴ（Ｅ）となる。このような温度分布になる理由は、第１実施形態と同様である。第２実施形態における赤外線照射の際の温度分布は、第１実施形態とほぼ同じ傾向である。

流延バンド４２表面の非流延領域におけるＴＤ方向の温度分布曲線は、第１実施形態と同様に、Ｔ（Ｅ）から流延バンド４２のＴＤ方向両側端部へ向かうにつれて緩やかに減少するような温度分布曲線になる。第１実施形態と同様に、位置Ｓにおける温度Ｔ（Ｓ）は、位置ＥにおけるＴ（Ｅ）より僅かに低くなる。

これにより、第１実施形態と同様に、流延膜４５の膜面における最低温度であるＴ（Ｅ）はＴ（Ｓ）以上の温度となる。したがって、流延膜４５及び流延バンド４２の任意のＭＤ方向に垂直な断面において、流延膜４５の膜面上における任意の位置の膜面温度Ｔ１［単位；℃］は、流延バンド４２の表面上の非流延領域における任意の位置のバンド温度Ｔ２［単位；℃］以上となる。

Ｔ１及びＴ２の好ましい範囲（適温度範囲）は、第１実施形態と同様である。一般的に用いられるポリマー及び溶剤の物性から、Ｔ２の範囲は、２５℃以上６０℃以下の範囲内とするのが好ましい。また、好ましくは、上記の式（１）を満たすように赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。

赤外線照射装置６８によって赤外線が照射された場合も、赤外線照射装置６７によって赤外線が照射された場合と同様に、赤外線照射時の流延膜４５の膜面におけるＴＤ方向の温度分布は上述のＴｍ（１．０），Ｔｓ（１．０）となる。そのため、赤外線照射装置６８では、赤外線照射装置６７を用いる時と同様に、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上となるように、好ましくは式（１）を満たすように、赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。なお、第１実施形態と同様に、温度計５３により、連続して温度が温度計５３により常に測定され、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２より高いかどうか確認される。好ましくは、膜面温度Ｔ１及びバンド温度Ｔ２が適温度範囲にあるかどうか確認される。

膜面温度Ｔ１を上述の範囲に制御しているので、第１実施形態と同様に、流延膜４５に発泡が生じる確率が大きく低減され、かつ、効率よく流延膜４５内の溶剤が蒸発し、短時間で流延膜４５の残留溶剤量が１００質量％以下になる。また、第１実施形態と同様に、残留溶剤量が１００質量％になれば十分であるが、５０質量％以下になるまで赤外線が照射されることがより好ましい。

第２実施形態における赤外線照射時の赤外線ヒータ６７ａ，６８ａの温度と、照射される赤外線の波長とは、いずれも、第１実施形態と同様にして決められる。赤外線ヒータ６７ａ，６８ａの温度の好ましい範囲及び赤外線の波長の好ましい範囲は、いずれも第１実施形態と同じである。

また、第２実施形態では、第１実施形態と同様に、熱風を用いず、赤外線により流延膜４５を乾燥しており、流延膜４５の膜面付近の雰囲気の風速を２．０ｍ／ｓ以下に抑えている。そのため、第１実施形態と同様に、厚みむらが大きく低減される。第１実施形態と同様に、この風速が小さいほど厚みむらは低減される。なお、この風速は、風速計５５により常に測定され、風速２．０ｍ／ｓ以下に抑えられているかどうかが確認されている。

以上により、第２実施形態も、第１実施形態と同様に、厚みむらや発泡を引き起こすことなく、比較的短時間で流延膜４５から溶剤が蒸発する。

第１実施形態では、赤外線ヒータ５１ａ，５２ａのＴＤ方向の長さＬｈ１を流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍とし、第２実施形態では、赤外線ヒータ６７ａ，６８ａのＴＤ方向の長さＬｈ２を流延膜４５の幅Ｌｍの１．０倍としたが、これに限ることは無く、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈは、流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内であればよく、好ましくは流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍以上１．０倍以下の範囲内であれば、厚みむらや発泡を低減しつつ比較的短時間で流延膜が乾燥する。

赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈがＬｍの０．８倍以上０．９倍未満の範囲内にある場合には、第１実施形態よりもさらに位置Ｂが位置Ｃに近づくので、流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の表面の温度分布の傾向は同じものの、勾配の傾斜が増し、Ｔ（Ｃ）とＴ（Ｓ）との温度差が増した温度分布となる。一方、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈがＬｍの０．９倍以上１．０倍以下の範囲内にある場合には、流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の表面の温度分布は第１実施形態と第２実施形態における温度分布の中間の状態をとる。

第１及び第２実施形態では、２つの赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを同一としたが、これに限ることは無く、流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内で、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内で、ＴＤ方向の長さＬｈがそれぞれ異なる２つの赤外線ヒータを組み合わせて用いても構わない。

［第３実施形態］
本発明の第３実施形態にかかる溶液製膜設備１０は、溶液製膜設備１０の流延室１２を流延室７２に代えたものである。流延室７２は、図８に示すように、流延室１２における赤外線照射装置５１，５２に代えて、それぞれ赤外線照射装置７３，７４を備える。赤外線照射装置７３，７４には、それぞれ赤外線ヒータ７３ａ，７４ａが備えられている。また、赤外線ヒータ７３ａ，７４ａと流延バンド４２との間に、緊急赤外線遮断機構５１ｂ，５２ｂと同様の機能を持つ緊急赤外線遮断機構（図示省略）がそれぞれ設けられている。赤外線ヒータ７３ａ，７４ａのＴＤ方向の長さはいずれも、流延膜の幅Ｌｍより広い。第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。なお、図８では、緊急赤外線遮断機構を省略している。また、図９では、図３及び図６と同様に、流延膜４５及び流延バンド４２の厚さを誇張して描いており、風速計５５及び緊急赤外線遮断機構の図示を省略している。図９ではさらに温度計５３の図示も省略している。

また、赤外線照射装置７３と流延バンド４２との間には、一対の反射板７７ａが設けられている。また、赤外線照射装置７４と流延バンド４２との間には、一対の反射板７８ａが設けられている。なお、反射板７７ａ，７８ａの位置と、緊急赤外線遮断機構に用いられる遮断板の移動経路とは、いずれが赤外線照射装置７３，７４に近くなるように設計されても構わない。二対の反射板７７ａ，７８ａは、いずれも赤外線を反射する材料で作られており、例えば研磨したアルミニウムが用いられている。図９に示すように、一対の反射板７７ａは、赤外線ヒータ７３ａの赤外線照射側に、それぞれ赤外線ヒータ７３ａのＴＤ方向両側端部を覆うように、互いに離間幅Ｌｈ３の間隔をあけて設けられている。離間幅Ｌｈ３は、流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍である。これにより、赤外線ヒータ７３ａの照射幅は、Ｌｈ３に制限される。また、赤外線ヒータ７４ａと反射板７８ａとの位置関係は、上述の赤外線ヒータ７３ａと反射板７７ａとの位置関係と同様になっており、これにより赤外線ヒータ７４ａの照射幅も反射板７８ａによりＬｈ３に制限される。

第３実施形態では、赤外線照射装置７３，７４を用いて赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。赤外線ヒータ７３ａは、流延膜４５の膜面に向けて赤外線を照射する。赤外線ヒータ７３ａから、赤外線ヒータ７３ａの照射幅の領域の直下にある流延膜面４５ａに向けて射出された赤外線は、流延膜面４５ａに照射される。一方、赤外線ヒータ７３ａから、赤外線ヒータ７３ａの照射幅の領域からＴＤ方向両側端部に外れた流延膜面４５ｂに向けて射出された赤外線は、反射板７７ａによって遮られ、反射される。非流延領域に向けて射出された赤外線も同様に、反射板７７ａによって遮られ、反射される。そのため、流延膜面４５ａには赤外線が照射されるが、流延膜面４５ｂ及び非流延領域には赤外線が照射されない。

この結果、流延膜４５及び流延バンド４２に対する赤外線照射の様態は、第１実施形態とほぼ同じになる。そのため、第３実施形態では、第１実施形態と同じ効果を奏するので、詳細の説明は省略する。

なお、第３実施形態では、反射板７７ａ，７８ａの離間幅をＬｈ３とすることにより、赤外線ヒータのうち反射板７７ａ，７８ａに遮られていない部分のＴＤ方向の長さ、すなわち赤外線ヒータのＴＤ方向の照射幅Ｌｈ３を流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍としているが、これに限ることは無く、Ｌｈ３を流延膜４５の幅Ｌｍの１．０倍としてもよい。Ｌｈ３を流延膜４５の幅Ｌｍの１．０倍とした場合には、流延膜４５の膜面の全面には赤外線が照射されるが、非流延領域には赤外線が照射されない。そのため、赤外線照射の様態は、第２実施形態とほぼ同じになり、第２実施形態と同じ効果を奏する。

第３実施形態においては、Ｌｈ３は、流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内であればよく、好ましくは流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍以上１．０倍以下の範囲内であればよい。Ｌｈ３がこの範囲内にある場合には、第１及び第２実施形態のところで記載したのと同様に、本発明の効果が得られる。また、第３実施形態では、赤外線ヒータ７３ａ，７４ａにおけるＬｈ３を同一としたが、これに限ることは無く、流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内で、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内で、異なるものを組み合わせて用いても構わない。

［第４実施形態］
本発明の第４実施形態にかかる溶液製膜設備１０は、図１０に示すように、第３実施形態にかかる溶液製膜設備１０における二対の反射板７７ａ，７８ａに、それぞれ反射板制御器７７ｂ、７８ｂを接続したものである。第３実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。なお、図１０では、図３，図６及び図９と同様に、流延膜４５及び流延バンド４２の厚さを誇張して描いている。また、図１０では、図９と同様に、温度計５３、風速計５５及び緊急赤外線遮断機構の図示を省略している。

第４実施形態では、赤外線照射装置７３，７４を用いて赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。図１０に示すように、反射板制御器７７ｂ、７８ｂは、反射板７７ａ，７８ａをそれぞれＴＤ方向に移動させて、一対の反射板７７ａ，７８ａのそれぞれのＴＤ方向の離間幅Ｌｈ４を変更する機構である。これらの離間幅Ｌｈ４は、それぞれ赤外線ヒータ７３ａ，７４ａの照射幅と等しくなる。そのため、反射板制御器７７ｂ，７８ｂは、一対の反射板７７ａ，７８ａのＴＤ方向の離間幅Ｌｈ４を制御することにより、赤外線ヒータ７３ａ，７４ａの照射幅を制御することができる。なお、反射板７７ａ，７８ａと反射板制御器７７ｂ、７８ｂとを合わせて、それぞれ照射幅制御装置７７，７８と称する。照射幅制御装置７７，７８により、照射幅Ｌｈ４が流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内に、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内に制御されて、赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。

第４実施形態は、第３実施形態において照射幅Ｌｈ３を流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内に、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内に設定していたのに代えて、照射幅制御装置７７，７８により照射幅Ｌｈ４を同じ範囲内に制御しているものである。そのため、第４実施形態は第３実施形態と同じ赤外線照射状態を作り出すので、当然に第３実施形態と同様の効果を奏する。そのため、その詳細の説明は省略する。なお、第４実施形態の場合は、第３実施形態と異なり、照射幅Ｌｈ４をいつでも変更することができるので、第３実施形態より操作性がよくなる。

［第５実施形態］
本発明の第５実施形態は、第１〜第４実施形態とは異なり、本発明にかかる赤外線照射乾燥工程６２にいわゆるバッチ式の赤外線照射装置を用いるものである。図１１に示すように、十分大きな流延シート８１の上には、ａ方向に長さＬｍａ，ｂ方向に長さＬｍｂの長方形状の流延膜８２が流延されている。なお、流延シート８１の上の流延膜８２は、第１〜第４実施形態と同様に流延ダイを用いて流延しても構わないし、塗布により流延しても構わない（流延膜形成工程６１）。また、例えば、ヘラなどを用いて、流延膜８２を流延シート８１から剥ぎ取る（剥取工程６３）。また、例えば、剥ぎ取って得られる帯状でない湿潤フィルムのａ方向又はｂ方向の両側端部をクリップで挟んで把持し、乾燥風を当てて湿潤フィルムを乾燥する（フィルム乾燥工程６４）。また、第１〜第４実施形態と同様に、緊急赤外線遮断機構を設けても構わない。

流延膜８２の上方に赤外線照射装置８３が設けられている。赤外線照射装置８３は赤外線ヒータ８３ａを備えており、赤外線ヒータ８３ａの中心が流延膜８２の中心に対向するように配されている。赤外線ヒータ８３ａと流延膜８２との距離は、２５ｍｍ以上３００ｍｍ以下の範囲内が好ましく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下の範囲内がより好ましい。赤外線ヒータ８３ａは薄い直方体状であり、ａ方向の長さはＬｈａ１であり、ｂ方向の長さはＬｈｂ１である。Ｌｈａ１はＬｍａの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内であり、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内である。また、Ｌｈｂ１はＬｍｂの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内であり、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内である。

また、流延シート８１の表面及び流延膜８２の膜面の温度を測定する温度計８５ａと、流延シートと流延膜８２との間の雰囲気の風速を測定する風速計８５ｂとが、流延膜８２の上方近傍に設けられている。温度計８５ａにより、流延シート８１の表面及び流延膜８２の膜面の温度を連続して測定することにより、第１〜第４実施形態と同様の温度条件が満たされていることを確認している。また、風速計８５ｂにより、この風速を連続して測定することにより、第１〜第４実施形態と同様の風速条件が満たされていることを確認している。

これにより、流延膜８２の膜面のうち、赤外線ヒータ８３ａの直下にある流延膜面８２ａには赤外線が照射される。一方で、赤外線ヒータ８３ａの直下からａ方向又はｂ方向の両側端部に外れた流延膜面８２ｂや、流延膜８２が流延されない非流延領域には赤外線はほとんど照射されない。

そのため、流延膜８２の膜面及び流延シート８１の非流延領域は、ａ方向とｂ方向のそれぞれについて、第１〜第４実施形態における流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の非流延領域における温度分布とほぼ同様の温度分布が形成される。例えば、流延膜８２の中心位置Ｃを通りｂ方向に垂直な断面において、流延膜８２の膜面のうちａ方向両側端部の位置Ｅａが最も低温となる位置であり、位置Ｅａからａ方向両側端部に非流延領域へ向かってＬだけ入った位置Ｓａの温度は、位置Ｅａの温度よりもさらに低温になる。ここで、位置Ｓａの温度は、非流延領域の温度として測定されている。これにより、ａ方向では、第１〜第４実施形態における流延膜４５の膜面及び流延バンド４２の非流延領域における温度分布とほぼ同様の温度分布が形成されていることがわかる。ａ方向のその他の断面においても、ｂ方向においても、同様である。また、流延膜４５の膜面付近の雰囲気の風速についても、第１〜第４実施形態と同様の範囲内に抑えられる。そのため、第５実施形態についても、第１〜第４実施形態と同様に、本発明の効果が得られるので、その詳細の説明は省略する。

［第６実施形態］
本発明の第６実施形態は、図１２に示すように、第５実施形態の赤外線照射装置８３を赤外線照射装置８６に代え、流延膜８２と赤外線照射装置８６との間に新たに長方形状の反射板８８を備えたものである。赤外線照射装置８６には、赤外線ヒータ８６ａが備えられている。赤外線ヒータ８６ａのａ，ｂ方向の長さはいずれも、流延膜の幅Ｌｍより広い。第５実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。

反射板８８の中央部には、長方形状の穴が設けられている。この穴のａ方向の長さはＬｈａ２であり、ｂ方向の長さはＬｈｂ２である。ここで、Ｌｈａ２，Ｌｈｂ２は、それぞれ、Ｌｍａ，Ｌｍｂの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内であり、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内である。反射板８８は、赤外線ヒータ８６ａのａ方向又はｂ方向の両側端部を覆うように配されている。反射板８８は、赤外線を反射する材料で作られており、例えば研磨したアルミニウムが用いられている。

第６実施形態では、赤外線照射装置８６を用いて赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。赤外線ヒータ８６ａは、流延膜８２の膜面に向けて赤外線を照射する。反射板８８により、赤外線ヒータ８６ａのａ，ｂ方向の照射幅はそれぞれ制限される。つまり、赤外線ヒータ８６ａから、流延膜８２のうち、赤外線ヒータ８６ａの照射幅内の領域の直下にある流延膜面８２ａに向けて射出された赤外線は、流延膜面８２ａに照射される。一方、赤外線ヒータ８６ａから、流延膜８２のうち、赤外線ヒータ８６ａの照射幅内の領域から両端に外れた流延膜面８２ｂに向けて射出された赤外線は、反射板８８によって遮られ、反射される。非流延領域に向けて射出された赤外線も同様に、反射板８８によって遮られ、反射される。

そのため、流延膜面８２ｂ及び非流延領域には赤外線が照射されない。赤外線ヒータ８６ａの照射領域は反射板８８の長方形状の穴の設けられた領域と略等しくなり、赤外線ヒータ８６ａの照射幅は、ａ方向がＬｈａ２であり、ｂ方向がＬｈｂ２となっている。

この結果、流延膜８２及び流延シート８１に対する赤外線照射の様態は、第５実施形態と同じになる。そのため、第６実施形態では、第５実施形態と同じ効果を奏するので、詳細の説明は省略する。

［第７実施形態］
本発明の第７実施形態は、図１３に示すように、第６実施形態の反射板８８を二対の反射板８９ａ，９０ａに代え、二対の反射板８９ａ，９０ａにそれぞれ反射板制御器８９ｂ，９０ｂを接続したものである。第６実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。なお、図１３では、温度計８５ａ及び風速計８５ｂの図示を簡略化している。

第７実施形態では、赤外線照射装置８６を用いて赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。一対の反射板８９ａは、それぞれ、赤外線照射装置８６の赤外線照射側に、赤外線ヒータ８６ａのａ方向両側端部を覆うように互いに離間して設けられている。また、一対の反射板９０ａは、それぞれ、赤外線照射装置８６の赤外線照射側に、赤外線ヒータ８６ａのｂ方向両側端部を覆うように互いに離間して設けられている。

反射板制御器８９ｂ、９０ｂは、反射板８９ａ，９０ａをそれぞれａ，ｂ方向に移動させて、一対の反射板８９ａ，９０ａのそれぞれａ，ｂ方向の離間幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３を変更する機構である。これらの離間幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３は、それぞれ赤外線ヒータ８６のａ，ｂ方向の照射幅と等しくなる。そのため、反射板制御器８９ｂ、９０ｂは、それぞれ一対の反射板８９ａ，９０ａのａ，ｂ方向の離間幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３を制御することにより、それぞれ赤外線ヒータ８６のａ，ｂ方向の照射幅を制御することができる。なお、反射板８９ａ，９０ａと反射板制御器８９ｂ，９０ｂとを合わせて、それぞれ照射幅制御装置８９，９０と称する。照射幅制御装置８９，９０により、それぞれ照射幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３が流延膜８２の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内に、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内に制御されて、赤外線が照射される（赤外線照射乾燥工程６２）。

第７実施形態は、第６実施形態においてａ，ｂ方向の照射幅Ｌｈａ２，Ｌｈｂ２を流延膜８２の幅Ｌｍの０．８倍以上１．０倍以下の範囲内に、好ましくは０．９倍以上１．０倍以下の範囲内に設定していたのに代えて、照射幅制御装置８９，９０によりａ，ｂ方向の照射幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３を同じ範囲内に制御しているものである。そのため、第７実施形態は第６実施形態と同じ赤外線照射状態を作り出すので、当然に第６実施形態と同様の効果を奏する。そのため、その詳細の説明は省略する。なお、第７実施形態の場合は、第６実施形態と異なり、照射幅Ｌｈａ３，Ｌｈｂ３をいつでも変更することができるので、第６実施形態より操作性がよくなる。

［第８実施形態］
本発明の第８実施形態にかかる溶液製膜設備１０は、第１実施形態にかかる溶液製膜設備１０の流延室１２を流延室１０２に代えたものである。流延室１０２は、図１４に示すように、流延室１２における赤外線照射装置５１，５２に代えて、それぞれ赤外線照射装置１１１及び１１２，１１３及び１１４を備える。第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。なお、図１５では、図３，６，９，１０と同様に、流延膜４５及び流延バンド４２の厚さが誇張して描かれている。また、図１５では、図９，１０と同様に、温度計５３、風速計５５及び緊急赤外線遮断機構の図示を省略している。

図１４に示すように、赤外線照射装置１１１，１１２，１１３，１１４には、それぞれ赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａが備えられている。また、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａと流延バンド４２との間に、緊急赤外線遮断機構５１ｂ，５２ｂと同様の機能を持つ緊急赤外線遮断機構１１１ｂ，１１２ｂ，１１３ｂ，１１４ｂがそれぞれ設けられている。赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａのＴＤ方向の長さはいずれもＬｈ１である。赤外線照射装置１１１，１１２，１１３，１１４のすべてについて、ＭＤ方向下流側近傍には、温度計５３及び風速計５５が配されている。

第８実施形態では、赤外線照射装置１１１，１１２，１１３，１１４は、流延バンド４２から、それぞれヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４をもって配されている。ヒータ距離は、Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４の順で、大きくなる。ここで、ヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４とは、それぞれ、流延膜面４５ａと流延膜面４５ａに対向する各赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａの面との間の距離のことを指す。

ヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４が大きくなるにしたがって、流延膜４５が受ける赤外線のエネルギー量は小さくなるので、流延膜４５が加熱されにくくなり、流延膜４５中の溶剤が蒸発しにくくなる。ただし、流延膜４５のＴＤ方向における位置によって、受ける赤外線のエネルギー量は以下に説明する通り異なり、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａから射出される赤外線のエネルギー量が大きくなるにしたがって、ＴＤ方向における中央の例えば位置Ｃと両側端の位置Ｂとに照射される赤外線のエネルギー量の差は大きくなる。具体的には以下である。

赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａの各々は、赤外線を射出する複数の射出部（図示なし）から形成されている。第８実施形態の赤外線ヒータ１１１ａは、複数の射出部が流延バンド４２の表面に沿って面状に並べられて形成されており、個々の射出部から射出された赤外線が流延膜４５に照射される。なお、赤外線ヒータ１１２ａ，１１３ａ，１１４ａについても同様であるので、図１５を参照する以下の説明は赤外線ヒータ１１１ａでの照射を例にして行い、赤外線ヒータ１１２ａ，１１３ａ，１１４ａの赤外線の照射については説明を省略する。

射出部から射出された赤外線は周囲に均等に広がり、エネルギー量の大きさが等しい位置を示す等エネルギー線は球面状になる。図１５では、この等エネルギー線を円弧状の二点鎖線で示している。このため、ＴＤ方向においては、位置Ｃには真上の射出部の他にその両側の近傍の射出部から射出された赤外線が照射されるが、位置Ｂには真上の射出部の他にその片側の近傍の射出部から射出された赤外線しか照射されない。位置Ｂの真上の射出部から射出された赤外線の一部は、ＴＤ方向側端部へ出て行ってしまう。したがって、赤外線ヒータ１１１ａについてのヒータ距離Ｈ１が大きくなるほど、ＴＤ方向側端部の射出部から射出されたより多くの赤外線がＴＤ方向側端部へ出て行ってしまうため、位置Ｃと位置Ｂとに照射される赤外線のエネルギー量の差は大きくなる。赤外線ヒータ１１２ａ，１１３ａ，１１４ａの赤外線の照射についても同様である。

上記の位置Ｃと位置Ｂとに照射される赤外線のエネルギー量の差が大きい場合ほど、流延膜４５の位置Ｃと位置Ｂとにおける残留溶剤量の差が大きくなる。この場合には、流延膜４５が流延バンド４２から剥ぎ取られて得られる湿潤フィルム１９のＴＤ方向中央部とＴＤ方向両側端部とにおける残留溶剤量の差が大きくなる。このようなＴＤ方向中央部とＴＤ方向両側端部とで残留溶剤量の差が大きな湿潤フィルム１９をクリップテンタ１３でＴＤ方向に延伸すると、ＴＤ方向に延伸むらが顕著になってしまう。

流延バンド４２のＭＤ方向上流へ行くほど流延膜４５の残留溶剤量が多いので、上流へ行くほど、この流延膜４５の残留溶剤量のＴＤ方向における差が生じやすくなり、剥ぎ取った後の湿潤フィルム１９をＴＤ方向に延伸することによる延伸むらの発生につながりやすい。そこで、流延膜４５の残留溶剤量が多い上流ほど、ヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４を小さくすることが好ましく、本実施形態でもそのようにしている。すなわち、ヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４の順に、大きく設定されている。これにより、流延膜４５の残留溶剤量が多い上流ほど、位置Ｃと位置Ｂとに照射される赤外線のエネルギー量の差が小さく抑えられる。

また、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａのヒータ温度が高くなるほど、流延膜４５に照射される赤外線のエネルギー量のＴＤ方向における差は大きくなる。そこで、流延膜４５の残留溶剤量が少ない下流ほど、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａのヒータ温度を低くすることが好ましく、本実施形態でもそのようにしている。すなわち、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａの順に、ヒータ温度が低く設定されている。これにより、流延膜４５の残留溶剤量が少ない下流ほど、流延膜４５に照射される赤外線のエネルギー量のＴＤ方向における差が小さく抑えられる。

第８実施形態において、第１実施形態と同様に、ポリマーとしてセルローストリアセテート、溶剤としてジクロロメタン（別名：メチレンクロライド）にメタノールなどのアルコールを少量混合したものを用いる場合には、例えば、赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａのヒータ温度を、それぞれ３５０℃程度，３００℃程度，２５０℃程度，２００℃程度と設定することが好ましい。また、例えば、ヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４を、それぞれ約５０ｍｍ，約２００ｍｍ，約４００ｍｍ，約１０００ｍｍと設定することが好ましい。

このように赤外線ヒータ１１１ａ，１１２ａ，１１３ａ，１１４ａのヒータ温度及びヒータ距離Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４を設定した場合には、ドープ１８の残留溶剤量は４００質量％より多い量であり、流延された流延膜４５の残留溶剤量が３００質量％程度になるまでは３５０℃程度の赤外線ヒータ１１１ａにより流延膜４５が加熱され、流延膜４５の残留溶剤量が２００質量％程度になるまでは３００℃程度の赤外線ヒータ１１２ａにより流延膜４５が加熱され、流延膜４５の残留溶剤量が１００質量％程度になるまでは２５０℃程度の赤外線ヒータ１１３ａにより流延膜４５が加熱され、流延膜４５の残留溶剤量が１００質量％未満のところでは２００℃程度の赤外線ヒータ１１４ａにより流延膜４５が加熱されることになる。このように、流延膜４５において残留溶剤量が多い領域ではヒータ距離が短く、温度が高い赤外線ヒータにより流延膜４５の温度が高く保持されるので、流延膜４５の溶剤が早く蒸発する。また、剥ぎ取り直前（剥取ローラ４４のＭＤ方向上流側）では比較的ヒータ距離が長く、比較的温度の低い赤外線ヒータ１１４ａで加熱されるため、流延膜４５に照射される赤外線のエネルギー量のＴＤ方向における差が小さく抑えられる。これにより、流延膜４５が流延バンド４２から剥ぎ取られて得られる湿潤フィルム１９をクリップテンタ１３でＴＤ方向に延伸する際に生じる延伸むらの発生が抑えられる。さらに、剥取ローラ４４を通過する際の流延バンド４２の温度が比較的低く抑えられる。そのため、再び流延ダイ４１の下に至るまでに、流延バンド４２は確実に降温する。

本発明は、第１〜第８実施形態に限られない。適宜、互いに相容れない要素の組み合わせを除き、第１〜第８実施形態の要素を組み合わせてもよい。流延膜の膜面付近の雰囲気の風速を所定の値以下に抑え、かつ、流延膜４５に赤外線を照射して、流延膜４５及び流延バンド４２の任意のＭＤ方向に垂直な断面において、流延膜４５の膜面上における任意の位置の膜面温度Ｔ１［単位；℃］が流延バンド４２の表面上の非流延領域における任意の位置のバンド温度Ｔ２［単位；℃］以上となるように、好ましくは上述の式（１）を満たすように温度を保持して流延膜４５を乾燥すれば、本発明の効果と同様の効果が得られる。よって、膜面温度Ｔ１がバンド温度Ｔ２以上となるように、好ましくは上述の式（１）を満たすように、流延膜４５に赤外線を照射するいかなる方法も、本発明の範囲内の方法であると解するものとする。

以下、本発明の効果を確認するための実験の例を示し、本発明を具体的に説明する。ただし、ここに示す例はあくまで本発明に係る一例であり、本発明を限定するものではない。

〔実験１〕
ドープ１８の原料としては、下記のポリマー原料及び溶剤原料を用いた。
〔ポリマー原料〕
セルローストリアセテート １００質量部トリフェニルフォスフェート ７質量部ビフェニルジフェニルフォスフェート ５．０質量部
〔溶剤原料〕
メチレンクロライド ９２質量部
メタノール ８質量部

ポリマー原料を溶剤原料に溶解して、固形分濃度が１９．０質量％のドープ１８を調製した。なお、上記のセルローストリアセテートは、置換度２．８４、粘度平均重合度３０６、含水率０．２質量％、ジクロロメタン溶液中の６質量％の粘度３１５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍ、標準偏差０．５ｍｍの粉体である。また、トリフェニルフォスフェート及びビフェニルジフェニルフォスフェートは可塑剤である。本実施例では、調整されたドープ１８を静置することにより脱泡し、送液ポンプによりフィルタを経由させたものを用いた。

図１の溶液製膜設備１０を用いて、図４の流延膜形成工程６１，赤外線照射乾燥工程６２，剥取工程６３，フィルム乾燥工程６４を有する溶液製膜方法を行い、膜厚４０μｍのフィルム２３を製造した。流延バンド４２のＭＤ方向の長さは１００ｍよりやや長く、ＴＤ方向の幅は２０００ｍｍとし、流延膜４５の幅Ｌｍは１５００ｍｍとした。また、流延バンド４２のＭＤ方向への移動速度を、１００ｍ／分とした。後述する温度測定のために、非流延領域には黒体テープを貼った。

実験１では、溶液製膜設備１０において、赤外線照射装置５１に代えて、ＴＤ方向の長さＬｈが流延膜４５の幅Ｌｍの０．９倍であり、ＭＤ方向の長さが２５ｍである赤外線ヒータを備える２つの赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２をＭＤ方向に順次並べて配した。また、赤外線照射装置５２に代えて、赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２と同様の赤外線照射装置ＩＲ３，ＩＲ４をＭＤ方向に順次並べて配した。すなわち、流延バンド４２のうち合計１００ｍの区間に赤外線照射装置を配し、赤外線ヒータによる赤外線照射時間を６０秒とした。赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２の間、及び赤外線照射装置ＩＲ３，ＩＲ４の間には、後述する温度測定が可能な最低限度の隙間を設けた。赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の各赤外線ヒータと流延膜４５との距離をおよそ２００ｍｍとした。赤外線ヒータの温度ＴＨを、いずれも２５０℃とした。この赤外線は、波長が２〜３０μｍのものが混じっており、この赤外線の放射特性を測定したところ、プランクの法則に従っていた。赤外線ヒータの条件を表１の乾燥条件の欄に示す。

１０分以上連続してフィルム２３を製造し、流延室１２内の温度が安定してから、位置Ｃ（図３参照）の温度，位置Ｅ（図３参照）の温度，及び位置Ｓ（図３参照）の温度を、株式会社ＫＥＹＥＮＣＥ製の赤外線温度計（ＩＴ２−５０）を用いて測定した。位置Ｃ及び位置Ｅについては、流延膜４５から輻射される赤外線を用いて温度測定をした。位置Ｓについては、非流延領域に貼った黒体テープから輻射される赤外線を用いて温度測定をした。この温度の測定は、次のＭＤ方向６座標で行った。この６座標は、赤外線照射装置ＩＲ１の直下に流延膜４５が導入される直前（座標１）、赤外線照射装置ＩＲ１と赤外線照射装置ＩＲ２との間（座標２）、赤外線照射装置ＩＲ２の直下を完全に通過した直後（座標３）、赤外線照射装置ＩＲ３の直下に流延膜４５が導入される直前（座標４）、赤外線照射装置ＩＲ３と赤外線照射装置ＩＲ４との間（座標５）、赤外線照射装置ＩＲ３の直下を完全に通過した直後（座標６）の６座標である。これらの温度の測定結果を表１のＴ（Ｃ），Ｔ（Ｅ），Ｔ（Ｓ）の欄に示す。

また、座標１〜６にて測定した温度から、座標１〜６にて膜面温度Ｔ１≧バンド温度Ｔ２及び式（１）を満たすかどうかを評価した。Ｔ１≧Ｔ２，式（１）を満たす場合には「Ａ」を、満たさない場合には「Ｂ」を、表１のそれぞれＴ１≧Ｔ２，式（１）の欄に示す。

また、同じ座標１〜６の６箇所で、移動する流延膜４５の膜面から３０ｍｍ離れた位置の風速（以下、膜面付近の風速）を測定した。これらの風速は、カノマックス社製のクリモマスター（Ｃｌｉｍｏｍａｓｔｅｒは登録商標）モデル６５４２を用いて測定した。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。

また、同じ座標１〜６の６箇所で、移動する流延膜４５の膜厚Ｔｈを、株式会社キーエンス製の多層膜厚測定器（ＳＩ−Ｔシリーズ）を用いて測定した。この膜厚Ｔｈ及び流延膜４５を完全に乾燥させた時の膜厚Ｔｄから、座標１〜６の６箇所における残留溶剤量Ｚを算出した。ここで、残留溶剤量Ｚの算出には、Ｚ＝｛（Ｔｈ−Ｔｄ）／Ｔｄ｝×１００［単位；質量％］の式を用いた。算出した残留溶剤量Ｚを表１のＺの欄に示す。

得られたフィルム２３の両面のうち、流延バンド４２に接触していた側とは反対側の面について、ＦＵＪＩＮＯＮ社製のＦＲＩＮＧＥ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＦＸ０３を用いて、流延方向の表面粗さＲａ［単位；μ］を測定した。なお、ＦＲＩＮＧＥ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＦＸ０３は、被検品の波面位相をフリンジスキャン方式で取得することにより、被検品の平滑性を測定する装置である。この表面粗さＲａを、厚みむらの値とした。厚みむらの値を表１の厚みむらの値の欄に示す。また、厚みむらの値を、以下の基準に基づき評価した。以下の基準Ａを満たすと、フィルムの製品仕様としての合格基準を満たす。この評価結果を表１の厚みむらの評価の欄に示す。
Ａ：表面粗さＲａが、０．３μｍ未満
Ｂ：表面粗さＲａが、０．３μｍ以上

また、赤外線照射乾燥工程６２において、流延膜４５に発泡が生じたか否かを、以下の基準に基づき評価した。この評価結果を表１の発泡の欄に示す。
Ａ：発泡が生じなかった
Ｂ：発泡が生じた

〔実験２〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに対し、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを流延膜４５の幅Ｌｍの１．０倍とした以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表１のそれぞれの欄に示す。

〔実験３〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに対し、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを流延膜４５の幅Ｌｍの０．８倍とした以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表１のそれぞれの欄に示す。

〔実験４〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに対し、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを流延膜４５の幅Ｌｍの１．１倍とした以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表２のそれぞれの欄に示す。

〔実験５〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに対し、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを流延膜４５の幅Ｌｍの１．２倍とした以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表２のそれぞれの欄に示す。

〔実験６〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに対し、赤外線ヒータのＴＤ方向の長さＬｈを流延膜４５の幅Ｌｍの１．３倍とした以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でも１．２ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表２のそれぞれの欄に示す。

〔実験７〕
赤外線照射装置ＩＲ１，ＩＲ２，ＩＲ３，ＩＲ４の全てに代えて、熱風乾燥装置ＨＷ１，ＨＷ２，ＨＷ３，ＨＷ４を設けた以外は、実験１と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。なお、熱風乾燥装置ＨＷ１，ＨＷ２，ＨＷ３，ＨＷ４の出す熱風の温度ＴＷはいずれも１００℃とし、熱風の風速ＶＷはいずれも５．０ｍ／ｓとした。また、熱風を出す熱風口のＴＤ方向の長さＬｗは、いずれも流延膜４５のＴＤ方向の幅Ｌｍの０．９倍とした。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でもＶＷと同じ５．０ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表３のそれぞれの欄に示す。

〔実験８〕
熱風乾燥装置ＨＷ１，ＨＷ２，ＨＷ３，ＨＷ４の熱風口のＴＤ方向の長さＬｗをいずれも流延膜４５のＴＤ方向の幅Ｌｍの１．２倍とした以外は、実験７と同じ条件にて各測定及び各評価を行った。各箇所の膜面付近の風速の測定結果はいずれの箇所でもＶＷと同じ５．０ｍ／ｓであった。温度の測定結果，Ｔ１≧Ｔ２を満たすか否か，式（１）を満たすか否か，残留溶剤量Ｚ，厚みむらの値及びその評価結果、発泡の評価結果を表３のそれぞれの欄に示す。

〔実験９〕
実験１と同じ方法で流延バンド４２上に流延膜４５を形成し、一定長さの流延膜４５を形成したところで、流延バンド４２の循環移動及び流延をやめ、赤外線も熱風も用いることなく、放置した。約２００秒放置したところで、流延膜４５の残留溶剤量Ｚが１００質量％以下となった。この際の流延膜４５には、発泡は生じなかった。その後、実験１と同様に、剥取工程６３，フィルム乾燥工程６４を順次行った。これにより得られたフィルム２３に対して、実験１と同様に厚みむらの値を測定したところ、０．２μｍであった。

実験１〜９の結果より、流延膜４５の乾燥に熱風を用いると厚みむらが生じるが、赤外線を用いると厚みむらが抑えられることがわかった。なお、実験８のように、熱風を当てる幅を制限しても、実験９と比較して厚みむらを低減することはできなかったことから、単に熱風を当てる幅を制限することは熱風が発生させる厚みむらの問題を解消することには寄与しないこともわかった。

実験１〜６の全ての座標における温度測定結果を、横軸Ｔ２にＴ（Ｓ）をとり、縦軸Ｔ１にＴ（Ｃ）又はＴ（Ｅ）をとって、２次元のグラフにプロットした。このグラフを図１６に示す。このグラフには、Ｔ１＝Ｔ２を示す直線Ｕ１と、Ｔ１＝１．０５×Ｔ２−１．２５を示す直線Ｕ２とも合わせて示した。実験１〜３では、全ての温度測定結果について、Ｔ１≧Ｔ２となり、かつ、２５≦Ｔ２≦６０となった。一方、実験４〜６では、全ての温度測定結果についてＴ１＜Ｔ２となり、Ｔ２＞６０の点が発生した。また、実験１〜３では発泡が抑えられ、実験４〜６では発泡が生じた。このことより、直線Ｕ１とＴ２＝６０の直線とが、赤外線照射を用いて発泡を抑えつつ流延膜４５を乾燥させることができるか否かの境界線となっていることがわかった。

また、実験１〜３では、赤外線を６０秒照射すると流延膜４５の残留溶剤量Ｚが１００質量％以下となった。実験３よりも実験１の方が流延膜４５の乾燥が進んでおり、また、実験１よりも実験２の方が流延膜４５の乾燥が進んでいた。このことから、Ｌｈ／Ｌｍが０．８以上０．９未満の範囲内にあるよりも、０．９以上１．０以下の範囲内にある方が、流延膜４５の乾燥をより進めることができるため、好ましいことが確認できた。

これらより、Ｔ１≧Ｔ２を満たし、流延膜４５の乾燥に赤外線を用いた系では、各箇所の流延膜２５の膜面付近の風速は、いずれの箇所でも２．０ｍ／ｓ以下に抑えられた。そして、赤外線の照射時間６０秒以内で流延膜から溶剤を蒸発させることができ、厚みむら不良や発泡不良を引き起こすことなく、薄膜フィルムを得られることがわかった。特に、実験１〜３では好ましい結果が得られ、安定して赤外線の照射時間６０秒以内に流延膜４５の残留溶剤量Ｚを１００質量％以下にすることができる系であることがわかった。

１０ 溶液製膜設備
１２，６６，７２，７９，１０２ 流延室
４２ 流延バンド
４５，８２ 流延膜
５１，５２，６７，６８，７３，７４，８３，８６，１１１〜１１４ 赤外線照射装置
５１ａ，５２ａ，６７ａ，６８ａ，７３ａ，７４ａ，８３ａ，８６ａ，１１１ａ〜１１４ａ 赤外線ヒータ
７７ａ，７８ａ，８８，８９ａ，９０ａ 反射板
７７ｂ，７８ｂ，８９ｂ，９０ｂ 反射板制御器

Claims (4)

1. ポリマー及び溶剤を含むドープを支持体の表面に流延して流延膜を形成する流延膜形成工程と、
   風速が２．０ｍ／ｓ以下に抑えられた雰囲気中で、前記流延膜に赤外線を照射することにより前記流延膜を加熱して、前記流延膜の膜面上の第１の位置における膜面温度Ｔ１を、前記流延膜が形成されていない前記支持体上の前記第１の位置より幅方向外側にある第２の位置における支持体温度Ｔ２以上に保持しながら、前記流延膜を乾燥し、前記流延膜中の前記溶剤の残留量を１００質量％以下とする赤外線照射乾燥工程と、
   前記溶剤の残留量が１００質量％以下となった前記流延膜を前記支持体から剥ぎ取って湿潤フィルムとする剥取工程と、
   前記剥ぎ取った湿潤フィルムを乾燥してフィルムとするフィルム乾燥工程とを有し、
   前記流延膜に前記赤外線を照射する赤外線ヒータの照射幅を、前記流延膜の幅の０．８倍以上１．０倍以下の範囲内とし、
   前記赤外線ヒータの前記赤外線の射出側に、前記赤外線ヒータの幅方向両側端部を覆い、前記赤外線を反射する一対の反射板が互いに離間して設けられ、
   前記照射幅は、前記反射板により制限されることを特徴とする溶液製膜方法。
2. 前記反射板は前記支持体の幅方向に移動可能に設けられ、
   前記反射板を前記幅方向に移動させることにより前記照射幅を調節することを特徴とする請求項１記載の溶液製膜方法。
3. 前記赤外線ヒータの温度は、１００℃以上５００℃以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または２記載の溶液製膜方法。
4. 前記赤外線の波長は、１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項記載の溶液製膜方法。

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