JP5876879B2 - Uv−led照射を使用してフレキソ印刷版を製造するための方法 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 171
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 32
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 31
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 23
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 23
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 claims description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 182
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 12
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 8
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 6
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 5
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLVWLCAZSOLOTF-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-[1,4,4-tris(4-methylphenyl)buta-1,3-dienyl]benzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(C=1C=CC(C)=CC=1)=CC=C(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 LLVWLCAZSOLOTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 229920002633 Kraton (polymer) Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 239000004687 Nylon copolymer Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000639 Spring steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical class OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical class [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002897 diene group Chemical group 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVWTZAGVNBPXHU-FOCLMDBBSA-N dioctyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCCCCCC TVWTZAGVNBPXHU-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 125000004151 quinonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000013515 script Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XZHNPVKXBNDGJD-UHFFFAOYSA-N tetradecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C XZHNPVKXBNDGJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical class OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical group [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Description
・寸法安定性の支持体、及び
・少なくともエラストマー性のバインダー、エチレン性不飽和の化合物、及び光開始剤 を含む、少なくとも1種の光重合が可能な、レリーフ形成層、
・光重合が可能なレリーフ形成層と直接的に接触している、デジタル的な画像化が可能な層、
を互いに重ねた状態で含む光重合可能なフレキソグラフ印刷要素を使用して、フレキソ 印刷版を製造するための方法であって、少なくとも以下の工程:
(a)デジタル的な画像化が可能な層を画像化することにより、マスクを製造する工程、
(b)マスクを通して光重合可能なレリーフ形成層を化学光で露光し、及び層の画像領域を光重合する工程、及び
(c)有機溶媒を使用して、レリーフ形成層の光重合されていない領域を洗浄除去することによって、又は熱的現像によって、光重合された層を現像する工程、
を含み、及び
工程(b)が、二つの露光工程(b−1)及び(b−2)を含み、第1の工程(b−1)では、複数のUV−LEDから、≧100mW/cm2の強度で、化学光を使用した露光が行われ、及びその後に、第2工程(b−2)では、UV−LED以外のUV照射源から、<100mW/cm2の強度で、化学光を使用した露光が行われることを特徴とする方法によって達成される。
・寸法安定性の支持体、及び
・少なくともエラストマー性のバインダー、エチレン性不飽和の化合物、及び光開始剤を含む、少なくとも1種の光重合可能な、レリーフ形成層、
・レーザー除去によってデジタル的な画像化が可能な層、
を相互に重ねた状態で含む。
・寸法安定性の支持体、及び
・少なくともエラストマー性のバインダー、エチレン性不飽和の化合物、及び光開始剤を含む、少なくとも1種の光重合可能な、レリーフ形成層、
・少なくとも粒子状物質を含む、粗いUV−透過性の層、
・デジタル的な画像化が可能な層、
を互いに重ねた状態で含む。
a)少なくとも1種のポリマー性バインダー、及び
b)平均粒子径が0.5〜50μmの、少なくとも1種の粒子状物質、
を含む。
i)孔体積が≧0.9ml/g、又は
ii)BET表面積が≧150m2/g、又は
iii)オイル価が≧150g/100g、
を有する艶消し剤(matting agent)を含み、及びこれは上述した条件の2つ又は3つに合致することも可能である。更なる適切な粒子状物質は、シリカ及びシリカゲル、微細に分散する二酸化ケイ素、ゼオライト、及び上述した粒子径の顔料である。
(A)任意に、フレキソ印刷要素をデジタル的に画像化するための構成部分、
(B)配列して配置され、及び≧100mW/cm2の強度でUV光を照射することができる複数のLEDを含む、第1の露光構成部分、
(C)LED以外のUV照射源、好ましくはUVチューブ又はUVランプを少なくとも1個含む第2の露光構成部分、
(D)洗浄構成部分、
(E)乾燥構成部分、
(F)任意に、後処理構成部分、
(G)任意に、得られたフレキソ印刷版のための搬送構成部分、及び
(H)構成部分(B)〜(E)を相互に連絡する、フレキソ印刷要素及び版のための移送構成部分、
を含む装置を提供する。
使用したフレキソ印刷版
以下の実施例で使用したフレキソ印刷版は、市販されているプレートで、nyloflex(登録商標)brand(Flint Group)のデジタルフレキソ印刷版と称されるもので、製品名ACE114D及びFAC470Dで販売されているものである。
a)寸法安定性の支持体(この場合では、PETフィルム)、
b)化学線照射を使用して画像的に架橋可能な、光感受性のエラストマー性層、
c)UV光に対して実質的に不透明なマスク層、
を互いに重ねた状態で含み、ここで更なる中間層、例えば接着促進層をa)とb)の間に使用することも可能である。
厚さが少なくとも1mmの、UV透過性支持体を有するフレキソ印刷版は、(非画像領域のレリーフ深さを所望の程度に調節する2次元重合化領域を形成するために)典型的にはその全領域が、裏側から予備的に露光される。この結果、微細な分離された正的要素(positive element)がより効果的に固着され、及び従って、印刷操作においてより安定的になる。厚さが1.14mmのフレキソ印刷版は、典型的にはUV光を使用して、予備的な裏側からの露光に処理され、これは、非画像領域のレリーフ深さが0.5〜0.7mmになるまで行われる。
実施例に示した全ての試験のために、使用したデジタルフレキソ印刷版を、異なる試験要素を含む試験パターンを使用して画像化した。この試験要素は、複数のハーフトーン値を、異なるスクリーン幅及び微細ライン、テキスト、デガティブドット、及びネガティブライン、及び種々の寸法のスクリプトに含んでいた。
画像的に露光されたフレキソ印刷版の溶媒ベースの現像を、nyloflex(登録商標)FIII洗浄機を使用し、及び特定の製品タイプに推奨されるブラシセッティングを使用して、記載した洗浄速度で行った。使用した洗浄剤は、nylosolv(登録商標)Aであった。
nyloflex(登録商標)FIII露光装置の主要露光構成部分内で、UVチューブを使用してフレキソ印刷版を露光し、ここで、プレート表面におけるUV/A照射パワーは、KuhnastからのUVAメーターを使用して測定して、平均15mW/cm2であった。
使用したUV−LED構成部分は、冷却性金属ハウジング内の8スクエアUV−LEDモジュールから構成される高性能アレイ(配列)であった。これらのUV−LEDモジュールのそれぞれは、5×5の個々のダイオード要素から構成され、これらは、約8×8mmの正方形領域に一緒に配置され、従って、全体領域、約75×8mmのUV照射領域を形成した。使用したUV−LEDは、365nmの照射最大を有しており、そして水冷及び関連する制御装置を使用して、極めて一定の出力レベルで運転された。この種のUV−LED構成部分は、例えばDr.Honle AG(Grafelfing,Germany)から、“UV−LED Powerline”の名称で入手される。
第1に、上記に説明したように、(その裏側から予備露光された)nyloflex(登録商標)ACE114Dフレキソ印刷版のマスク層に試験パターンを書き込むために、IRレーザーを使用した。残っているマスク層のめに、非画像領域はUV−不透明のままであり、この一方で、画像領域におけるマスクの除去は、光重合性のレリーフ層が、化学照射によって硬化されることを可能にした。
第1に、上記に説明したように、(その裏側から予備露光された)nyloflex(登録商標)FAC470D(頂部シートなしでの厚さ:4.7mm)フレキソ印刷版のマスク層に試験パターンを書き込むために、IRレーザーを使用した。残っているマスク層のめに、非画像領域はUV−不透明のままであり、この一方で、画像領域におけるマスクの除去は、光重合性のレリーフ層が、化学照射によって硬化されることを可能にした。
第1に、以下の層を相互に重ねた状態で含むフィルム要素を製造した:
d)厚さ125μmのPETフィルム;
c2)厚さが約3μmであり、ポリマー性バインダー、及びカーボンブラックを含む、デジタル的に画像化可能なマスク層(市販されているnyloflex(登録商標)ブランドの印刷版に使用されたマスク層と同じ);
c1) ポリマー性バインダー、及び多孔性シリカ粒子を含む、粗いUV透過性層。
第1に、7質量部のMacromelt6900を、90質量部の溶媒混合物(45部のn−プロパノール、45部のトルエン、10部のベンジルアルコール)内で50℃に加熱して製造(調製)した。次にこの溶液内に、3質量部の多孔性シリカゲル(Grace&Co.からのSyloid(登録商標)ED−5、平均粒子径、8.4〜10.2μm、孔体積1.8ml/g)を加えた。ULTRA−TURRAX(登録商標)T50分散機を使用して、8000rpmで、粒子状のシリカゲルをポリマー溶液中に、20分間にわたり分散させた。得られた分散物を、厚さが3μmで、及び(125μmの厚さの)PETフィルム上に配置されたデジタルマスク層に施した。このデジタルマスク層は、約65%のMacromelt6900及び35%の微細に粉砕したカーボンブラックから構成されていた。このようにして、PETフィルム、マスク層、及び粗い基材層の、上述した層の順序を有するフィルム要素を製造した。粗い基材層を施した割合は、約5g/m2であった。
a)厚さが125μmで、及び薄い接着層を有する寸法安定性のPET支持体フィルム;
b)光重合性のエラストマー性層;
c1)ポリマー性バインダー、及び多孔性シリカ粒子を含み、及び約5g/m2の適用(塗布)重量(質量)を有する粗いUV透過性の層;
c2)厚さが約3μmで、及びポリマー性バインダー、及びカーボンブラックを含むデジタル的な画像化が可能なマスク層(nyloflex(登録商標)ブランドの市販されている印刷版に使用されるマスク層と同じ);
d)厚さが125μmのPET保護層。
図1は、(デジタル的な画像化が可能な層の除去の後であって、露光と現像の前の)粗い表面となった、レリーフ形成層を有するフレキソ印刷要素の表面の写真を示し;
図2は、(デジタル的な画像化が可能な層の除去の後であって、及び本発明の露光と現像の後の)粗い表面となった、レリーフ形成層を有するフレキソ印刷要素の表面の写真を示し;
図3は、(デジタル的な画像化が可能な層の除去の後であって、もっぱらUVAチューブを使用した通常の露光の後、及び現像の後の)粗い表面となった、レリーフ形成層を有するフレキソ印刷要素の表面の写真を示している。
第1に、上記に説明したように、(その裏側から予備露光された)nyloflex(登録商標)ACE114Dフレキソ印刷版のマスク層に試験パターンを書き込むために、IRレーザーを使用した。残っているマスク層のめに、非画像領域はUV−不透明のままであり、この一方で、画像領域におけるマスクの除去は、光重合性のレリーフ層が、化学線(照射)によって硬化されることを可能にした。
第1に、上記に説明したように、(その裏側から予備露光された)nyloflex(登録商標)ACE114Dフレキソ印刷版のマスク層に試験パターンを書き込むために、IRレーザーを使用した。残っているマスク層のめに、非画像領域はUV−不透明のままであり、この一方で、画像領域におけるマスクの除去は、光重合性のレリーフ層が、化学線(照射)によって硬化されることを可能にした。
第1に、上記に説明したように、(その裏側から予備露光された)nyloflex(登録商標)ACE114Dフレキソ印刷版のマスク層に試験パターンを書き込むために、IRレーザーを使用した。残っているマスク層のめに、非画像領域はUV−不透明のままであり、この一方で、画像領域におけるマスクの除去は、光重合性のレリーフ層が、化学線(照射)によって硬化(cured)されることを可能にした。
a)深さ400μmのネガティブドット
深さ400μmのネガティブドットは、印刷中の画像領域及び非画像領域の間の差の寸法である。印刷画像を安定して形成することが望まれるので、(比較的長い印刷手順においてでも、非画像領域が開いた(オープン)まま保持され、及び印刷された画像に欠陥をもたらすことのないように、)非画像領域中の中間深さは、できるだけ高くあるべきである。
第1の安定的に形成されたポジティブ要素の寸法が小さい程、印刷版の解像力が良好になり、及び印刷手順で再生可能な詳細部が微細になる。(特にトーナル値発展(tonal value progressions)及びスクリーン画像の場合には、)安定したハーフトーン値が小さくなると、トーナル値範囲が増し、及び従ってコントラストが増す。
60μmグリッドは、パターン中に交差した微細ラインを表す試験要素である。フレキソ印刷では、このような要素は重要である。この理由は、要素の小さな幅のために、これらを安定して固着することが困難であり、及び同時にその幾何学形状のために、洗浄剤の膨潤効果の影響を受けやすいからである。
ハーフトーンの再生のために(すなわち、印刷手順で使用される基本色の100%に相当しないパターン領域の再生のために)、ラスターを使用した。このようにして、異なる明るさを使用した混合色を製造することができる。
実施例A1−A5及びB2からわかるように、微細なポジティブ要素、例えばドット、ライン、及びスクリーンが、UV−LEDからのUVA照射での露光で、良好に再生される。また極めて驚くべきことに、高いUV強度にもかかわらず、>50℃のプレートの望ましくない高い加熱が無く、及び従って、(高いUV強度は、それ自体は、架橋手順で発生する重合の熱によって、より高い温度を示し得るという事実にもかかわらず、)PETフィルム支持体の寸法安定性に影響を及ぼさないことが見出された。
Claims (10)
- 少なくとも、
・寸法安定性の支持体、及び
・少なくともエラストマー性のバインダー、エチレン性不飽和の化合物、及び光開始剤を含む、少なくとも1種の光重合可能な、レリーフ形成層、
・デジタル的な画像化が可能な層、
を互いに重ねた状態で含む光重合可能なフレキソグラフ印刷要素を出発材料として使用して、フレキソ印刷版を製造するための方法であって、少なくとも以下の工程:
(a)デジタル的な画像化が可能な層を画像化することにより、マスクを製造する工程、
(b)マスクを通して光重合可能なレリーフ形成層を、化学光で露光し、及び層の画像領域を光重合する工程、及び
(c)有機溶媒を使用して、レリーフ形成層の光重合されていない領域を洗浄除去することによって、又は熱的現像によって、光重合された層を現像する工程、
を含み、及び
工程(b)が、二つの露光工程(b−1)及び(b−2)を含み、第1の工程(b−1)では、複数のUV−LEDから、≧100mW/cm2の強度で、化学光を使用した露光が行われ、及びその後に、第2工程(b−2)では、UV−LED以外のUV照射源から、<100mW/cm2の強度で、化学光を使用した露光が行われることを特徴とする方法。 - 前記光重合可能なフレキソグラフ印刷要素が、少なくとも粒子状物質を含む、粗いUV−透過性の層を、前記互に重ねた状態で含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 工程(b−2)で使用される照射源がUVチューブ又はUVランプであることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 工程(b−1)で使用されるUV−LEDは、照射の最大を350〜405nmの範囲に有することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
- 第1の露光工程(b−1)での強度が、≧150mW/cm2であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
- 第2の露光工程(b−2)での強度が、≦50mW/cm2であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の方法。
- 第1の露光工程(b−1)での放射線量が、1〜4J/cm2であり、及び第2の露光工程(b−2)での放射線量が、2〜8J/cm2であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の方法。
- デジタル的な画像化が可能な層が、レーザー除去可能な層であることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の方法。
- 光重合可能なレリーフ形成層及びデジタル的な画像化が可能な層の間に、平均粒径が0.5〜50μmの粒子状物質を少なくとも含む、粗いUV透過性の層が存在することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の方法。
- 粗いUV透過性の層が、ポリマー性バインダー又はワックスを含むことを特徴とする請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010031527A DE102010031527A1 (de) | 2010-07-19 | 2010-07-19 | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen umfassend die Bestrahlung mit UV-LEDs |
DE102010031527.3 | 2010-07-19 | ||
PCT/EP2011/061829 WO2012010459A1 (de) | 2010-07-19 | 2011-07-12 | Uv - led - bestrahlung umfassendes verfahren zur herstellung von flexodruckformen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013534324A JP2013534324A (ja) | 2013-09-02 |
JP5876879B2 true JP5876879B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=44534307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013520059A Active JP5876879B2 (ja) | 2010-07-19 | 2011-07-12 | Uv−led照射を使用してフレキソ印刷版を製造するための方法 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10112381B2 (ja) |
EP (1) | EP2596404B1 (ja) |
JP (1) | JP5876879B2 (ja) |
CN (1) | CN103109233B (ja) |
AU (1) | AU2011281789B2 (ja) |
BR (1) | BR112013001262B1 (ja) |
CA (1) | CA2804841C (ja) |
DE (1) | DE102010031527A1 (ja) |
DK (1) | DK2596404T3 (ja) |
ES (1) | ES2510412T3 (ja) |
HK (1) | HK1185421A1 (ja) |
IL (1) | IL224158A (ja) |
MX (1) | MX2013000634A (ja) |
NZ (1) | NZ605851A (ja) |
PL (1) | PL2596404T3 (ja) |
WO (1) | WO2012010459A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2011
- 2011-07-12 MX MX2013000634A patent/MX2013000634A/es active IP Right Grant
- 2011-07-12 JP JP2013520059A patent/JP5876879B2/ja active Active
- 2011-07-12 CA CA2804841A patent/CA2804841C/en active Active
- 2011-07-12 AU AU2011281789A patent/AU2011281789B2/en not_active Ceased
- 2011-07-12 WO PCT/EP2011/061829 patent/WO2012010459A1/de active Application Filing
- 2011-07-12 ES ES11749752.9T patent/ES2510412T3/es active Active
- 2011-07-12 NZ NZ605851A patent/NZ605851A/en not_active IP Right Cessation
- 2011-07-12 CN CN201180044764.5A patent/CN103109233B/zh active Active
- 2011-07-12 PL PL11749752T patent/PL2596404T3/pl unknown
- 2011-07-12 BR BR112013001262-5A patent/BR112013001262B1/pt active IP Right Grant
- 2011-07-12 DK DK11749752.9T patent/DK2596404T3/da active
- 2011-07-12 US US13/810,738 patent/US10112381B2/en active Active
- 2011-07-12 EP EP11749752.9A patent/EP2596404B1/de active Active
-
2013
- 2013-01-10 IL IL224158A patent/IL224158A/en active IP Right Grant
- 2013-11-14 HK HK13112754.6A patent/HK1185421A1/xx unknown
-
2018
- 2018-09-26 US US16/142,225 patent/US10730283B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2804841C (en) | 2018-09-18 |
CN103109233A (zh) | 2013-05-15 |
US10112381B2 (en) | 2018-10-30 |
US20130242276A1 (en) | 2013-09-19 |
CA2804841A1 (en) | 2012-01-26 |
BR112013001262A2 (pt) | 2016-05-17 |
PL2596404T3 (pl) | 2015-01-30 |
EP2596404B1 (de) | 2014-07-09 |
EP2596404A1 (de) | 2013-05-29 |
NZ605851A (en) | 2014-12-24 |
US20190022994A1 (en) | 2019-01-24 |
WO2012010459A1 (de) | 2012-01-26 |
BR112013001262B1 (pt) | 2021-01-05 |
AU2011281789B2 (en) | 2014-09-11 |
ES2510412T3 (es) | 2014-10-21 |
CN103109233B (zh) | 2015-06-17 |
IL224158A (en) | 2016-09-29 |
HK1185421A1 (en) | 2014-02-14 |
MX2013000634A (es) | 2013-04-03 |
DK2596404T3 (da) | 2014-09-01 |
US10730283B2 (en) | 2020-08-04 |
AU2011281789A1 (en) | 2013-02-07 |
DE102010031527A1 (de) | 2012-01-19 |
JP2013534324A (ja) | 2013-09-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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|
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