JP5838054B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
102…処理ブロック
103…真空処理室
103−1〜103−4…処理ユニット
104…真空搬送室
105−1,105−2…ロック室
106…大気搬送室筐体
107…カセット
108…搬送ロボット
109…搬送ロボット
201…蓋
202…ガス拡散板
203…プラズマ
204…処理容器
205…コンダクタンス調整バルブ
206…真空ポンプ
207…試料台
208…ガス流量制御器
209…バルブ
210…マグネトロン
211…高周波バイアス電源
212…ソレノイドコイル
213…真空計
214…試料台カバー
301…試料台カバー
302…試料台カバー
303…加熱リング
304…加熱リング
305…貫通穴
306…溝
307…ボルト
308…ガス流量制御器
309…圧力計
310…ガス流量制御器
311…圧力計
312…ヒータ温調器
313…ヒータ
314…ヒータ温調器
315…ヒータ
316…溝
317…シール材
401…試料台カバー
402…試料台カバー
403…金属製のリング
407…ボルト
406…溝
417…シール材
Claims (5)
- 真空容器内部に配置されその内側でプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置され前記プラズマに面してその上面に前記プラズマを用いた処理対象の試料が載置される試料台とを備え、
この試料台が、前記試料の載置される面の外周側にこれと段差を有して配置され誘電体製のリング状部材が配置される凹み部及びこのリング状部材の下方に配置されこれを加熱する手段とを有し、前記リング状部材の外周側上方に配置されて前記試料台と連結され前記リング状部材を下方に押し付けて位置決めする金属製部材と、前記リング状部材が前記凹み部に配置され且つ前記金属製部材が前記試料台と連結され前記リング状部材を下方に押し付けた状態で前記リング状部材が載せられた面と当該リング状部材の下面との間及び前記金属製部材が押し付けられる前記リング状部材の上面と当該金属製部材の下面との間並びに前記金属製部材と当該金属製部材が載せられた面との間を含んで構成され外側から密封された空間に熱伝達性ガスを供給する手段とを備えたプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、前記リング状部材の上面が前記プラズマに面するプラズマ処理装置。
- 請求項1または2に記載のプラズマ処理装置であって、前記リング状部材が載せられた面と当該リング状部材の下面との間及び前記金属製部材が押し付けられる前記リング状部材の上面と当該金属製部材の下面との間並びに前記金属製部材と当該金属製部材が載せられた面との間の各々で挟持され前記熱伝達性ガスが供給される前記空間を気密に封止する複数のシール部材を備えたプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記金属製部材の上方でこれを覆って配置され前記プラズマに面する別の誘電体製の部材を備えたプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記リング状部材及び前記金属製部材の下方に配置されこれらと前記凹み部との間で挟まれてこの凹み部上面に押し付けられて保持された金属製のリング状部材を備え、この金属製のリング状部材と前記誘電体製のリング状部材との間のすき間に前記熱伝達性ガスが供給されるプラズマ処理装置。
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