JP5411098B2 - 分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置ならびに電極交換方法 - Google Patents
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Description
2 処理容器
3 処理室
4 接地線
5 絶縁支持板
6 ゲートバルブ
7 サセプタ(下部電極)
8 昇降軸
9 駆動モータ
10 ベローズ
11 静電チャック
12 高圧直流電源
13 フォーカスリング
14 絶縁支持部材
15 上部電極支持部材
16 中空部
17 ガス導入管
18 バルブ
19 マスフローコントローラ
20 ガス供給源
21 ガス供給孔
22 上部電極
22a 上部板
22b 下部板
22s 電極面
23a ガス通路孔
23b ガス噴出孔
23s ガス通路孔の側面
24 シールドリング
25 排気管
26 真空引き機構(真空ポンプ)
27 排気板
28a 上部整合器
28b 下部整合器
29a 第1高周波電源
29b 第2高周波電源
30 プラズマ処理装置
31a 上部電極用ねじ
31b シールドリング用ねじ
32 侵食部分
33 カートリッジ
34 スペーサ
W ウエハ
Claims (3)
- プラズマ処理装置の気密に保たれた処理容器内に配置され、被処理体を載置する載置台に対向して配置された一以上のガス噴出孔を有する電極であって、
前記電極が、一以上のガス噴出孔を有し、かつ、プラズマによって浸食される前の電極面に対して平行な面となるように削り取られた表面を有する電極と、
一以上のガス通路孔を有し、かつ前記削り取られた表面を有する電極の削り取られた厚さ分の厚さを持つスペーサとからなり、
前記スペーサが、電極支持部材及び前記削り取られた表面を有する電極間に挟まれて使用可能としたことを特徴とする電極。 - 気密に保たれた処理容器内に配置され、被処理体を載置する載置台と、前記載置台に対向して配置された一以上のガス噴出孔を有する電極とを備えたプラズマ処理装置において、
前記電極が、一以上のガス噴出孔を有し、かつ、プラズマによって浸食される前の電極面に対して平行な面となるように削り取られた表面を有する電極と、
一以上のガス通路孔を有し、かつ、前記削り取られた表面を有する電極の削り取られた厚さ分の厚さを持つスペーサとからなり、
前記スペーサが、電極支持部材及び前記削り取られた表面を有する電極間に挟まれて使用可能としたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - プラズマ処理装置の気密に保たれた処理室内に配置され、かつ、プロセスガスを前記処理室内に導入する一以上のガス噴出孔を有する電極を交換する方法において、
前記電極の表面をプラズマによって浸食される前の電極面に対して平行な面となるように削り取る工程と、
一以上のガス通路孔を有し、かつ、前記削り取る工程により加工された電極の削り取られた厚さ分の厚さを持つスペーサを電極支持部材と前記電極の間に配置する工程と、を含むことを特徴とするプラズマ処理装置の電極を交換する方法。
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