JP4783094B2 - プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材 - Google Patents
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Description
項10記載の外側環状部材によれば、外側環状部材は積層された少なくとも2つの環状板からなるので、プラズマ生成空間側に配された環状板の熱容量を小さくすることができ、プラズマからの入熱によって当該環状板の温度を急速に上昇させ且つ容易に高温を維持することができ、生産ロットの極初期の段階において当該環状板に付着した堆積物を除去することができ、さらに、堆積物が堆積されにくい状態を維持できる。これにより、基板の歩留まりの悪化を防止し且つプラズマ処理用環状部品のクリーニングのサイクルを長くすることができる。また、外側環状部材では複数の環状板が積層されるのみであるため、構成が簡素であり、安価であってランニングコストを抑制し、交換も容易であってメンテナンス性の悪化を防止する。したがって、当該プラズマ処理用環状部品を容易に用いることができる。また、積層された環状板のうちプラズマが生成されるプラズマ生成空間側に配置された環状板は、該プラズマ生成空間側に配置された環状板におけるプラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面の表面積の1%以下の面積を介して積層された環状板のうちプラズマ生成空間側とは反対側に配置された環状板と接触しているので、プラズマ生成空間側に配置された環状板からプラズマ生成空間側とは反対側に配置された環状板への熱移動を抑制してプラズマ生成空間側に配置された環状板の高温を維持することができる。また、これによっても、プラズマ生成空間側に配置された環状板に付着した堆積物を除去することができ、さらに、堆積物が堆積されにくい状態を維持できる。
プラズマ処理装置10に組み込むフォーカスリングとして、上述した第2の実施の形態におけるフォーカスリング36を準備した。アウターフォーカスリング部材37における上側アウターフォーカスリングプレート40の厚さは1.7mmに設定した。
プラズマ処理装置10に組み込むフォーカスリングとして、厚さが3.5mmである従来のフォーカスリングを準備した。
S 処理空間
10,70 プラズマ処理装置
11 チャンバ
12 下部電極
13 シャワーヘッド
16 ESC
19,36 フォーカスリング
20 インナーフォーカスリング部材
21,37 アウターフォーカスリング部材
21a プラズマ暴露面
21b カバー部材接触面
22 ESCカバー部材
29 上部電極板
34 リング溝
34a 底部
35,71 シールドリング
39 下側アウターフォーカスリングプレート
40 上側アウターフォーカスリングプレート
40a 表面
Claims (10)
- プラズマ処理が施される基板の外周を囲うように配置された内側環状部材と、該内側環状部材の外周を囲うように配置された外側環状部材とを備えるプラズマ処理用環状部品であって、
前記外側環状部材はプラズマが生成されるプラズマ生成空間側を指向する第1の面及び前記プラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面を有し、該第2の面には熱容量を低減する少なくとも1つの環状の溝が形成され、
前記外側環状部材は、前記第2の面における前記環状の溝を除いた表面積の1%以下の面積を介して当該外側環状部材を載置する構成部材における載置面と接触していることを特徴とするプラズマ処理用環状部品。 - 前記第1の面と前記溝の底部との間における厚さは1.5mm〜2.0mmであることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理用環状部品。
- 前記外側環状部材は、少なくとも石英、カーボン、シリコン及びセラミックス材料のいずれか1つによって形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理用環状部品。
- プラズマ処理が施される基板の外周を囲うように配される内側環状部材と、該内側環状部材の外周を囲うように配される外側環状部材とを備えるプラズマ処理用環状部品であって、
前記外側環状部材は積層された少なくとも2つの環状板からなり、
前記積層された環状板のうちプラズマが生成されるプラズマ生成空間側に配置された環状板は、該プラズマ生成空間側に配置された環状板におけるプラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面の表面積の1%以下の面積を介して前記積層された環状板のうち前記プラズマ生成空間側とは反対側に配置された環状板と接触していることを特徴とするプラズマ処理用環状部品。 - 前記プラズマ生成空間側に配置された環状板の厚さは1.5mm〜2.0mmであることを特徴とする請求項4記載のプラズマ処理用環状部品。
- 前記外側環状部材は、少なくとも石英、カーボン、シリコン及びセラミックス材料のいずれか1つによって形成されていることを特徴とする請求項4又は5記載のプラズマ処理用環状部品。
- 基板にプラズマ処理を施す処理室と、該処理室において前記基板の外周を囲うように配置されたプラズマ処理用環状部品とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ処理用環状部品は、前記基板の外周を囲うように配置された内側環状部材と、該内側環状部材の外周を囲うように配置された外側環状部材とを有し、
前記外側環状部材はプラズマが生成されるプラズマ生成空間側を指向する第1の面及び前記プラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面を有し、該第2の面には熱容量を低減する少なくとも1つの環状の溝が形成され、
前記外側環状部材は、前記第2の面における前記環状の溝を除いた表面積の1%以下の面積を介して当該外側環状部材を載置する構成部材における載置面と接触していることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 基板にプラズマ処理を施す処理室と、該処理室において前記基板を囲うように配置されたプラズマ処理用環状部品とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ処理用環状部品は、前記基板の外周を囲うように配置された内側環状部材と、該内側環状部材の外周を囲うように配置された外側環状部材とを有し、
前記外側環状部材は積層された少なくとも2つの環状板からなり、
前記積層された環状板のうちプラズマが生成されるプラズマ生成空間側に配置された環状板は、該プラズマ生成空間側に配置された環状板におけるプラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面の表面積の1%以下の面積を介して前記積層された環状板のうち前記プラズマ生成空間側とは反対側に配置された環状板と接触していることを特徴とするプラズマ処理装置。 - プラズマ処理が施される基板の外周を囲うように配置された内側環状部材の外周を囲うように配置された外側環状部材であって、
プラズマが生成されるプラズマ生成空間側を指向する第1の面及び前記プラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面を有し、該第2の面には熱容量を低減する少なくとも1つの環状の溝が形成され、
前記第2の面における前記環状の溝を除いた表面積の1%以下の面積を介して当該外側環状部材を載置する構成部材における載置面と接触していることを特徴とする外側環状部材。 - プラズマ処理が施される基板の外周を囲うように配置された内側環状部材の外周を囲うように配置された外側環状部材であって、
積層された少なくとも2つの環状板からなり、
前記積層された環状板のうちプラズマが生成されるプラズマ生成空間側に配置された環状板は、該プラズマ生成空間側に配置された環状板におけるプラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面の表面積の1%以下の面積を介して前記積層された環状板のうち前記プラズマ生成空間側とは反対側に配置された環状板と接触していることを特徴とする外側環状部材。
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