JP5830890B2 - 磁気ディスク装置、磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(a)磁気ディスク、
(b)磁気ヘッドスライダ、及び
(c)前記磁気ディスクを一定の回転数R0(回転/分)で回転可能なモーター、を有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置であって、
前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、
前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr(°)毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、
前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、
前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をf(kHz)としたときに、前記中心角θrが、前記磁気ヘッドスライダが作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式(a):
θ0=360×(R0/60)/(f×1000) (a)
で表される角度θ0(°)と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク装置である。
2.上記課題を解決するための本発明の第二の態様は、前記本発明の第一の態様の磁気ディスク装置用の磁気ディスクであって、
前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、
前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr(°)毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、
前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、
前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をf(kHz)としたときに、前記中心角θrが前記磁気ヘッドスライダが作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式(a):
θ0=360×(R0/60)/(f×1000) (a)
で表される角度θ0(°)と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスクである。
3.本発明の第三の態様は、前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されることを特徴とする、前記本願発明の第二の態様の磁気ディスクの製造方法である。
(1)本発明の第一の態様の磁気ディスク装置は、(a)潤滑層表面が、ディスクの周方向に周期的な特定の凹凸構造パターンを有する磁気ディスク、(b)固有振動数がf(kHz)の磁気ヘッドスライダ、及び(c)前記磁気ディスク媒体を一定の回転数R0(回転/分)で回転可能なモーターを有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置である。
図1は、本発明に係る磁気ディスク101の模式図の一例であり、データ領域における円周方向の断面を示している。
保護層2は磁気ヘッドスライダ104との接触摺動から磁性層を保護する層であり、好ましくは炭素質膜で構成されている。炭素質膜としてはカーボン膜、水素化カーボン膜、炭化ケイ素膜等を挙げることができ、この中でもカーボン膜、特にダイヤモンド状炭素(DLC)膜が高密度・高耐久性の点で好ましい。
かかる親水化処理は、潤滑層1を形成する前に行なうこともできるが、潤滑層1形成後に行なうことが外気(空気中の酸素)影響の排除の点で好ましい。
潤滑層1は磁気ヘッドスライダ104との接触摺動の際の摩擦を低減し耐摩擦性を向上させる層である。
本発明の潤滑層1を構成する潤滑剤は、水素結合を形成することの可能な孤立電子対を有する極性基をもつ。これにより保護層2の表面の親水化表面との吸着が可能となり、ディスクの周方向に周期的な特定の凹凸構造のパターンを形成できる。
R-(CF2CF2O)n-(CF2O)n-R´ (1)
(ここでn、mは正の整数であり、R及びR´は末端基構造を表す。)
R-(CF2CF2CF2O)n-R´ (2)
(ここでnは正の整数であり、R及びR´は末端基構造を表す。)
上記構造は、それぞれ、(1)フォンブリン(商品名、Fomblin)、(2)デムナム(商品名、Demnum)と呼ばれる。
末端基R及びR´ = -CF2CH2OCH2CH(OH)CH2-OH (3)
本発明の磁気ディスクの潤滑層1の表面は、前記磁気ディスクの周方向に一定の中心角θr(°)毎に繰り返される凹凸構造パターンを有している。ここで、中心角θr(°)は、磁気ディスクの中心から半径方向に距離r(mm)離れた位置(以下、「半径位置r」という)での周方向における前記凹凸構造パターンの繰返し周期を、磁気ディスクの中心角で表現したものである(但し、全周を360°とする)。
θ0=360×(R0/60)/(f×1000) (a)
で表される角度θ0(°)と合致しないように設定することが必要である。ここで、R0は磁気ディスク回転数(回転/分)を表し、磁気ディスク装置100のモーター(いわゆるスピンドルモーター)102の回転数に対応する。
sr0=2πr×(R0/60)/f (b)
によって表されるsr0(μm)と合致しないように設定すると等価に言い換えることもできる。
以下に、すでに潤滑層を形成した磁気ディスク表面への紫外線照射を例にとって、磁気ディスクの潤滑層表面に凹凸構造のパターンを形成する一例をより具体的に説明する。もっとも本発明をこれに限定することを意図するものではない。
前記磁気ヘッドスライダは、固有振動数f(kHz)を有している。
非磁性基板4としては、アルミニウム合金基板、ガラス等のセラミックス基板、ポリカーボネート等の樹脂基板、及び炭素質基板等を挙げることができる。
本発明は上記磁気ディスク装置100の他に、該磁気ディスク装置100に好適に用いることのできる前記磁気ディスク101(第二の態様)、及び該磁気ディスクの潤滑層1表面の凹凸構造パターンをエネルギー線照射処理により形成する前記方法(第三の態様)をも包含する。
磁気ヘッドスライダのHDI(Head Disk Interface)特性を評価するトライボロジテスタ試験装置(VENA社製、6500 system)において、磁気ヘッドスライダを設置した。磁気ヘッドスライダの表面(ABS、Air Bearing Surface)には炭素質保護膜(ta-C膜(テトラヘデラルアモルファスカーボン:Tetrahedral Amorphous Carbon))が成膜されている。
本発明においては、上記角度θ0に対応した潤滑層1の凹凸構造パターンが形成されないように角度θrを決定し、潤滑層分布を形成することが重要となる。
・磁気ディスクA(比較品): 前記中心角0.41°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク
・磁気ディスクB(本発明品): 前記中心角0.30°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク
・磁気ディスクC(比較品): 前記中心角0.14°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク
・磁気ディスクD(比較品): 紫外線処理のみの磁気ディスク(フォトマスク使用無し)
上記プロセスにより作製した各潤滑層に周期的凹凸構造を有する磁気ディスクA〜C及び凹凸構造を有しない磁気ディスクDを、前記テスタに設置した。次いで前記磁気ヘッドスライダを、上記各磁気ディスク(磁気ディスクA、B、C及びD)上において、ディスク回転数5400rpm、磁気ディスク媒体の中心から半径方向に22mm離れた位置において、浮上量1nmで浮上させ、12時間に渡る定点浮上試験を実施した。
磁気ディスクA、C(比較品、周期的凹凸構造あり)においては、それぞれ、フォトマスクによる紫外線照射により形成された潤滑層の凹凸構造パターンが、浮上磁気ヘッドスライダの1次固有振動数と一致しており、スライダがディスクと間欠接触を生じるタイミングにて、スライダ振動が励振されてしまうため、試験開始直後から、AE信号出力の発生が見られたものと考えられる。
2.保護層
3.磁性層
4.基板
5.潤滑層凹部
6.潤滑層凸部
7.磁気ディスク基板
8.領域A(データ領域における紫外線照射域)
9.領域B(データ領域における紫外線非照射域)
10.クランプ領域
11.ロード/アンロード領域
12.スリット部(紫外線透過領域)
13.非スリット部(紫外線非透過領域)
14.スリット角
15.非スリット角
Claims (8)
- (a)磁気ディスク、
(b)磁気ヘッドスライダ、及び
(c)前記磁気ディスクを一定の回転数R0(回転/分)で回転可能なモーター、を有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置であって、
前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、
前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr(°)毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)離れた前記磁気ディスク媒体上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、
前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、
前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をf(kHz)としたときに、前記中心角θrが、前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式(a):
θ0=360×(R0/60)/(f×1000) (a)
で表される角度θ0(°)と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 前記中心角θr(°)につき、前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の距離rにおいて、前記角度θ0(°)に対して、θr<0.9×θ0またはθr>1.1×θ0となるように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク装置。
- 前記中心角θrが前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)によらず一定であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク装置。
- 前記潤滑層がポリフルオロポリエーテル潤滑層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の磁気ディスク装置。
- 前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の磁気ディスク装置。
- 前記請求項1〜5のいずれかに記載の磁気ディスク装置用の磁気ディスクであって、
前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、
前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr(°)毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、
前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、
前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をf(kHz)としたときに、前記中心角θrが前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式(a):
θ0=360×(R0/60)/(f×1000) (a)
で表される角度θ0(°)と合致しないように設定されているを特徴とする磁気ディスク媒体。 - 前記中心角θ r が前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離r(mm)によらず一定であることを特徴とする請求項6に記載の磁気ディスク媒体。
- 前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されることを特徴とする請求項6または7に記載の磁気ディスクの製造方法。
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