JP5829399B2 - 3置換3,4−ジヒドロ−1h−イソキノリン化合物、その製造方法及びその使用 - Google Patents
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Description
−エナンチオ選択的水素化は不純物に対して高度に選択的であるため、高純度の反応物質が必須である。4*メシル酸塩化合物の(HClアナログと比較した)驚くべき利点は、高純度で沈殿することである。結果として、4*メシル酸塩は、遊離アミンとして、直接エナンチオ選択的水素化に付すことができる。
−良質な生成物を得るために、沈殿と単離が1回しか必要でなく、製造方法の改良と単工程数の減少が達成されている。
式4の化合物のエナンチオ選択的水素化について、異なる不斉触媒系を試験した。Taniaphos触媒のみが、92−95%の驚くべき高いeeを示すことが見出された。
ラセミ分割と比較して、新規なエナンチオ選択的水素化は、ジアステレオマー塩の形成によるエナンチオマーの時間のかかる分離及び誤ったエナンチオマーの再使用を回避する。
Noyori移動水素化触媒と比較して、Taniaphos触媒を用いたエナンチオ選択的水素化は、92−95%の驚くべき高いeeを示す。
加えて、(Noyori移動水素化触媒と比較して)大規模な反応において、Taniaphos触媒を用いたエナンチオ選択的水素化は、より安定したeeを示す。
塩酸の存在下で、実質的な量の加水分解なしで(0.5%未満の加水分解)、式Iの化合物のHCl塩が式Iの化合物から得られることは驚きである。
さらに、合成は、活性薬効成分の沈殿とその後の水の共沸除去について塩酸を使用することにより単純化された。
本発明の特定の態様を下記の実施例に記載するが、本発明をより詳細に説明するためのものであり、その範囲を限定するものでは全くない。
4*メシル酸塩の酢酸エチル中の懸濁液に水酸化ナトリウム溶液を添加し、そして沈殿が溶解するまでRTにて攪拌する。相を分離した後、酢酸エチルにて水相の2回目の抽出を行う。合わせた有機抽出物を木炭で処理し、ろ過する。共沸蒸留により水を除去した後、溶液を酢酸エチルで希釈して、5〜6%の濃度にする。
4*メシル酸塩を、水とトルエン/ヘプタンの4:1混合物との混合物(又は、水とトルエンの混合物)に添加する。固形物が溶解するまで系を攪拌する。次いで、水性苛性ソーダを添加し、混合物をRTにて攪拌し、そして相を分離する。有機層を水で数回洗浄し、そして水性流を廃棄する。遊離イミン4の溶液に木炭をチャージし、攪拌し、そして混合物を共沸蒸留により乾燥する。水を除去した後、ろ過により木炭を除き、そして溶液の濃度を10〜15%に調整する。
4*メシル酸塩(51.9g;0.113mol)に水(110mL)を添加する。混合物を30min攪拌し、そしてトルエン(500mL)を添加する。次いで水性苛性ソーダ(20wt%;110mL)を添加する。次いでトルエン(600mL)を添加し、そして相を分離する。有機層を水(110mL)で4回洗浄し、そして水性流を廃棄する。最終的な水相のpH値は7であるべきである。木炭(Norix(登録商標) SX Plus;1.61g)を遊離イミン4の溶液に添加し、次いでそれをRTにて1h攪拌する。ろ過の後、有機層をトルエン(550mL)で洗浄し、そして200〜300mLの体積に濃縮する(70mbar、40℃)。トルエン(100mL)を添加し、そして有機相を約120mLの体積に濃縮する(70mbar、40℃)。所望の濃度のイミン4を得るために、適宜な量のイミンを添加し、次いでAr泡をイミン溶液中に30min通す。
ビス[クロロ−1,5−シクロオクタジエン−イリジウム](購入可能)の脱気したジクロロメタン中の溶液に、20℃にて、(S)−1−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−[(S)−α−(ジメチルアミノ)−2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ベンジル]−フェロセン(Taniaphos−配位子は、購入可能であるか、又はAngew.Chem.J.Int.Ed.(1999)、38、3212に従って合成してもよい。)を添加する。次いで、ヨウ素の、脱気したジクロロメタン中の溶液を添加し、そして得られた溶液を、生成した沈殿が溶解するまで攪拌する。触媒前駆体の溶液を工程7のイミン溶液に添加し、そして5barのH2圧そして30℃にて水素化する。
ビス[クロロ−1,5−シクロオクタジエン−イリジウム](購入可能)の、ジクロロメタンとメタノールの脱気した混合物中の溶液に、20℃にて、(R)−1−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−[(S)−α−(ジメチルアミノ)−2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ベンジル]−フェロセン(Taniaphos−配位子は、購入可能であるか、又はAngew.Chem.J.Int.Ed.(1999)、38、3212に従って合成した。)を添加する。その後、ヨウ素の、ジクロロメタンとメタノールの脱気した混合物中の溶液を添加し、得られた溶液を、生成した沈殿が溶解するまで攪拌する。触媒調製溶液を、方法B、工程7のイミン溶液に添加し、5bar(3−10bar)のH2圧、及び20℃(10〜30℃)にて水素化する。
ビス[クロロ−1,5−シクロオクタジエン−イリジウム](購入可能;13.5mg;0.02mmol)に、(R)−1−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−[(S)−α−(ジメチルアミノ)−2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ベンジル]−フェロセン(30.5mg;0.042mmol;Taniaphos−配位子は、購入可能であるか、又はAngew.Chem.J.Int.Ed.(1999)、38、3212に従って合成してもよい。)を添加する。混合物を高真空条件下(1−2mbar)に置き、次いでアルゴン雰囲気下(1bar)に置き、この手順(真空、次いでアルゴン雰囲気)を4回繰り返す。混合物をアルゴン雰囲気下に維持し、脱気メタノールを添加する。RTにて3時間攪拌した後、赤色の澄んだ溶液が得られる。固体ヨウ素を添加し、そして得られた溶液を30min攪拌する。次いで、溶媒を除去し(1mbar、RT)、そして固体残渣を30min(1mbar、RT)乾燥する。1,2−ジクロロエタン(DCE)を、アルゴン下でその固体に添加し、触媒溶液を得る。反応溶媒系に応じて、(方法C、工程7で得られた)イミン4のトルエン(Tol)中の溶液を、適宜な量のヘキサン(Hex)、ヘプタン(Hept)又はテトラヒドロフラン(THF)と混合し、そして前に得られたDCE中の触媒溶液を添加する。イミン4に対して使用するTolの量、触媒溶液に対して使用するDCEの量及び添加するヘキサン(Hex)、ヘプタン(Hept)又はテトラヒドロフラン(THF)の量は、それらが共に反応溶媒系を形成するような量である。反応混合物を、温度TにてH2圧(5bar)下におき、反応は特定の時間tRの後に完了する。行った種々の実験の詳細を、下記の表に要約する。
b この実験において、触媒はメタノールを用いて(3ではなく)1時間のみ攪拌した。
c この実験においては、触媒からメタノールを除去した後、触媒を除く前に、トルエンを触媒に添加した。
d この実験においては、触媒を製造した後、使用前に1日間保蔵した。
4*メシル酸塩の酢酸エチル中の懸濁液に、ビス[クロロ−1,5−シクロオクタジエン−イリジウム]、上記した通りの適宜な量の配位子B及びiPr2Netを添加した。混合物を50℃に温め、そして25barのH2圧を適用した。
変換完結後、溶媒交換を行う。次いで、ヘプタンを添加して、トルエン/ヘプタンの割合を4:1とする。1.0当量の酢酸添加後、化合物7*酢酸を20℃で沈殿させる。懸濁液をRTにて放置して沈殿を完結させ、ろ過し、そしてヘプタンで洗浄する。生成物を40℃にて真空乾燥する。
変換完結後、触媒調製物からの残った溶媒、ジクロロメタンとメタノールを、蒸留により除去し、アミン7の、トルエン又はトルエン/ヘプタンの混合物中の溶液を得る。1.0当量の酢酸を添加した後、化合物7*酢酸を20℃で沈殿させる。懸濁液をRT(0−20℃)にて放置して沈殿を完結させ、ろ過し、そしてトルエン又はトルエン/ヘプタンの混合物で洗浄する。生成物を40℃で真空乾燥する。この方法の適用により、生成物の光学純度が、水素化後の81%eeから、単離物質における99%eeまで上昇しえる。
Claims (9)
- 反応を、0.9〜1.3当量の酢酸を用いて行う、請求項2に記載の方法。
- Irの量に対するI 2 の量が、0.2と10mol当量の間である、請求項3に記載の方法。
- Irとキラル配位子のモル比が、0.5:1と1:0.5の間である、請求項3〜6に記載の方法。
- 水素圧が1と50barの間である、請求項3、6及び7のいずれか1項に記載の方法。
- 塩基の量が0.9と1.5mol当量の間である、請求項4に記載の方法。
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