JP5820198B2 - 粉体処理装置 - Google Patents
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Description
以下、第1の実施の形態に係る粉体処理装置について図面を参照しながら説明する。
図1は、第1の実施の形態に係る粉体処理装置の内部の構造を示す側面図である。図1に示すように、粉体処理装置100は、処理容器10、複数のばね30、複数の振動モータ40、軸50および上昇搬送路60を含む。処理容器10は、下部筺体10aおよび上部筺体10bにより構成される。
図2は、図1の上昇搬送路60のA部の拡大断面図である。図3は、図1の上昇搬送路60のB部における一例を示す平面図である。図4は、図1の上昇搬送路60のB部における一例を示す拡大断面図である。
本実施の形態においては、上昇搬送路60内を移動する粉体が高さ規制部材64と帯状搬送部61との間の隙間Sを通過する際に、高さ規制部材64により粉体の高さが規制される。この粉体の高さの規制により、積み重なった粉体の内部に埋もれた部分が表面に露出される。これにより、粉体の全体が処理ガスと接触する。その結果、粉体の全体を処理ガスで連続して均一に処理することができる。
(1)粉体処理装置の全体構成
第2の実施の形態に係る粉体処理装置100について、第1の実施の形態に係る粉体処理装置100と異なる点を説明する。図6は、第2の実施の形態に係る粉体処理装置100の内部の構造を示す側面図である。図6に示すように、本実施の形態に係る粉体処理装置100は、下降搬送路70をさらに含む。
本実施の形態において、粉体は、上昇搬送路60を移動するときのみでなく、下降搬送路70を移動するときにも、処理ガスにより処理される。これにより、処理容器10を大型化することなく粉体の処理時間を長くすることができる。その結果、粉体処理装置を小型化することができる。
図7は、第3の実施の形態に係る粉体処理装置100の内部の構造を示す側面図である。図7に示すように、上昇搬送路60が下降搬送路70の内側に配置される。
(1)第1の実施の形態に係る粉体処理装置100において、粉体が上昇搬送路60内を下端から上端に向かって移動するが、これに限定されない。粉体が上端から下端に向かって移動するように粉体搬送路を構成してもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
2 ガス排出部
3 粉体供給部
4 粉体回収部
10 処理容器
10a 下部筺体
10b 上部筺体
30 ばね
40 振動モータ
50 中心軸
60 上昇搬送路
61 帯状搬送部
61a 上面
62,63 側面部
64 高さ規制部材
64a,64b 側部
64c 下端部
64d 面
64e,64f 辺
70 下降搬送路
100 粉体処理装置
P 粉体
S 隙間
θ 傾き角度
Claims (8)
- 処理ガスで粉体を処理する粉体処理装置であって、
上下方向に螺旋状に延び、粉体が移動するための帯状搬送部を有する粉体搬送路と、
前記粉体搬送路に粉体を供給するための粉体供給部と、
前記粉体搬送路を振動させることにより前記粉体搬送路に供給された粉体を前記帯状搬送部に沿って移動させる振動付与部と、
前記粉体搬送路に供給された粉体が移動中に処理ガスで処理される処理容器と、
処理された粉体を回収する粉体回収部と、
前記帯状搬送部を移動する粉体の高さを規制する少なくとも1つの高さ規制部材とを備え、
前記高さ規制部材は、前記帯状搬送部に対向する下端部を有し、前記下端部と前記帯状搬送部との間に隙間が形成されるように配置される、粉体処理装置。 - 前記高さ規制部材における帯状搬送部の螺旋の内側方向の側部は、螺旋の外側方向の側部よりも粉体の移動方向について下流側に位置する、請求項1記載の粉体処理装置。
- 前記帯状搬送部における粉体との接触面は、螺旋の内側が螺旋の外側よりも低くなるように傾斜している、請求項1または2記載の粉体処理装置。
- 前記粉体搬送路は、
上下方向に螺旋状に延び、粉体が移動するための第1の帯状搬送部を有する第1の搬送路と、
上下方向に螺旋状に延び、粉体が移動するための第2の帯状搬送部を有する第2の搬送路とを含み、
前記第1および第2の帯状搬送部は、一端で互いに接続されるとともに、前記第2の帯状搬送部の螺旋の巻き方向は、前記第1の帯状搬送部の螺旋の巻き方向と逆である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の粉体処理装置。 - 前記高さ規制部材は、等間隔に複数設けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の粉体処理装置。
- 前記帯状搬送部における粉体との接触面は、金属からなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の粉体処理装置。
- 前記処理容器は、処理ガスの導入のためのガス導入部、および処理ガスの排出のためのガス排出部を有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の粉体処理装置。
- 処理ガスは、フッ素ガスを含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の粉体処理装置。
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