JP5777722B2 - 小モード体積垂直共振器面発光レーザ - Google Patents
小モード体積垂直共振器面発光レーザ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5777722B2 JP5777722B2 JP2013536577A JP2013536577A JP5777722B2 JP 5777722 B2 JP5777722 B2 JP 5777722B2 JP 2013536577 A JP2013536577 A JP 2013536577A JP 2013536577 A JP2013536577 A JP 2013536577A JP 5777722 B2 JP5777722 B2 JP 5777722B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mode volume
- small mode
- optical bus
- type doped
- vertical cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 120
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 16
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004943 liquid phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- FTWRSWRBSVXQPI-UHFFFAOYSA-N alumanylidynearsane;gallanylidynearsane Chemical compound [As]#[Al].[As]#[Ga] FTWRSWRBSVXQPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003063 pnictogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18386—Details of the emission surface for influencing the near- or far-field, e.g. a grating on the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/042—Electrical excitation ; Circuits therefor
- H01S5/0421—Electrical excitation ; Circuits therefor characterised by the semiconducting contacting layers
- H01S5/0422—Electrical excitation ; Circuits therefor characterised by the semiconducting contacting layers with n- and p-contacts on the same side of the active layer
- H01S5/0424—Electrical excitation ; Circuits therefor characterised by the semiconducting contacting layers with n- and p-contacts on the same side of the active layer lateral current injection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18311—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18316—Airgap confined
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18358—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] containing spacer layers to adjust the phase of the light wave in the cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/42—Arrays of surface emitting lasers
- H01S5/423—Arrays of surface emitting lasers having a vertical cavity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
本出願は、2010年1月29日に出願され、本発明の譲受人に譲渡された、David A. Fattal等による「VERTICAL-CAVITY SURFACE-EMITTING LASERS WITH NON-PERIODIC GRATING」と題するPCT特許出願第PCT/US2010/022632号(代理人整理番号第200903802−1号)に関連する。
Claims (15)
- 小モード体積垂直共振器面発光レーザにおいて、
少なくとも一方が回折格子反射器構造(112)である2つの反射構造(103)であって、1つの小モード体積垂直空洞共振器の反射器として機能する、2つの反射構造(103)と、
前記2つの反射構造(103)のうちの少なくとも一方の中に配置されたp−i−n(p型−真性−n型)ダイオードの真性部分内に配置され、該p−i−nダイオードを通したキャリアの注入時に光(118)を放射するアクティブ構造(102)と、
を備える、小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記2つの反射構造(103)のうちの他方の反射構造であり、前記回折格子反射器構造(112)の下方に配置される、分布ブラッグ反射器(104)と、
前記分布ブラッグ反射器(104)の底部(104−1)に結合された第1の電極(108)と、
前記分布ブラッグ反射器(104)の上部(104−3)に結合された第2の電極(114)と、
を更に備え、
前記アクティブ構造(102)は、前記上部(104−3)と前記底部(104−1)との間の前記分布ブラッグ反射器(104)内の真性部分(104−2)内に配置され、
p型ドープ部分、前記真性部分(104−2)、及びn型ドープ部分は、前記アクティブ構造(102)へのキャリア注入を与える垂直p−i−nダイオードとして構成され、
前記p型ドープ部分は前記上部(104−3)に含まれ且つ前記n型ドープ部分は前記底部(104−1)に含まれるか、あるいは、前記p型ドープ部分は前記底部(104−1)に含まれ且つ前記n型ドープ部分は前記上部(104−3)に含まれる、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記アクティブ構造(102)と前記回折格子反射器構造(112)との間に配置されて利得導波部(104−3a)を形成する酸化物アパーチャ層(210)であって、該利得導波部(104−3a)からキャリアが前記アクティブ構造(102)の中に注入されることができる、酸化物アパーチャ層(210)、
を更に備える、請求項2に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記分布ブラッグ反射器(104)は、イオン注入によって高電気抵抗部(104−3b)が形成され、該高電気抵抗部(104−3b)は、パターニングされて利得導波部(104−3a)が形成され、該利得導波部(104−3a)から、キャリアが、前記アクティブ構造(102)の中に注入されることができる、請求項2に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。
- 前記アクティブ構造(102)の下方に配置された部分を更に備え、
前記回折格子反射器構造(112)は、
前記回折格子反射器構造(112)の上側部分(112−1)と、
前記回折格子反射器構造(112)の真性部分(112−2)と、
前記上側部分(112−1)の下方の前記真性部分(112−2)内に配置された前記アクティブ構造(102)と、
を更に備え、
p型ドープ部分、前記真性部分(112−2)、及びn型ドープ部分は、前記アクティブ構造(102)へのキャリア注入を与える垂直p−i−nダイオードとして構成され、
前記p型ドープ部分は前記上側部分(112−1)に含まれ且つ前記n型ドープ部分は前記アクティブ構造(102)の下方に配置された部分に含まれるか、あるいは、前記p型ドープ部分は前記アクティブ構造(102)の下方に配置された部分に含まれ且つ前記n型ドープ部分は前記上側部分(112−1)に含まれる、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記アクティブ構造(102)の下方に配置された部分は、
前記回折格子反射器構造(112)の下側部分(112−3)と、スペーサ層(110)と、からなる群から選択される構造、
を備える、請求項5に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記回折格子反射器構造(112)の真性部分を含む上側部分(112−1)と、
前記回折格子反射器構造(112)のサブ波長回折格子(112−1a)の第1の側に隣接して配置されたp型ドープ部分(112−4)と、
前記回折格子反射器構造(112)の前記サブ波長回折格子(112−1a)の第2の側に隣接して配置されたn型ドープ部分(112−5)と、
を更に備え、
前記アクティブ構造(102)は、前記真性部分の中に配置され、かつ前記p型ドープ部分(112−4)及び前記n型ドープ部分(112−5)と結合され、
前記p型ドープ部分(112−4)、前記上側部分(112−1)内に含まれる前記真性部分、及び前記n型ドープ部分(112−5)は、前記アクティブ構造(102)へのキャリア注入を与える横方向p−i−nダイオードとして構成される、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 動作中の熱散逸が、前記アクティブ構造(102)のバンドギャップが大きく変化しないように十分に低減される、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。
- 動作中の電力出力が1ミリワットである、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。
- 前記回折格子反射器構造(112)の下方に配置されたスペーサ層(110)、
を更に備え、
前記スペーサ層(110)の低屈折率部分(110−2)は、分布ブラッグ反射器(104)よりも低い屈折率を有する、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。 - 前記低屈折率部分(110−2)は、低い屈折率を有する誘電体材料と、低い屈折率を有する気体で満たされた空洞と、からなる群から選択される、請求項10に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。
- 前記光(118)は、400ナノメートル〜1300ナノメートルの波長を有し、変調帯域幅が100ギガヘルツであるように変調される、請求項1に記載の小モード体積垂直共振器面発光レーザ。
- 光バス送信器であって、複数の小モード体積垂直共振器面発光レーザを備え、そのうちの1つのレーザ(101)は、
少なくとも一方が回折格子反射器構造(112)である2つの反射構造(103)であって、1つの小モード体積垂直空洞共振器の反射器として機能する、2つの反射構造(103)と、
前記2つの反射構造(103)のうちの少なくとも一方の中に配置されたp−i−n(p型−真性−n型)ダイオードの真性部分内に配置され、該p−i−nダイオードを通したキャリアの注入時に光(118)を放射するアクティブ構造(102)と、
を有し、
前記複数の小モード体積垂直共振器面発光レーザのうちの前記1つのレーザ(101)は、光バス(650)のビット線(650−1)用の光出力ドライバとして構成される、光バス送信器。 - 少なくとも1つの光バス(650)と、
前記光バス(650)に結合された少なくとも1つの光バス送信器(601)と、
を備えるシステムであって、
前記光バス送信器(601)は、複数の小モード体積垂直共振器面発光レーザを有し、そのうちの1つのレーザ(101)は、
少なくとも一方が回折格子反射器構造(112)である2つの反射構造(103)であって、1つの小モード体積垂直空洞共振器の反射器として機能する、2つの反射構造(103)と、
前記2つの反射構造(103)のうちの少なくとも一方の中に配置されたp−i−n(p型−真性−n型)ダイオードの真性部分内に配置され、該p−i−nダイオードを通したキャリアの注入時に光(118)を放射するアクティブ構造(102)と、
を備え、
前記複数の小モード体積垂直共振器面発光レーザのうちの前記1つのレーザ(101)は、前記光バス(650)のビット線(650−1)用の光出力ドライバとして構成される、システム。 - デジタル情報プロセッサ(607)であって、前記光バス及び少なくとも1つの光バス送信器と統合される複数の構成要素(607−1、607−2、607−3、607−4)を備え、前記光バス及び少なくとも1つの光バス送信器は、前記デジタル情報プロセッサ(607)内の前記光バスに結合された構成要素間で情報を転送することになる、前記デジタル情報プロセッサと、複数のデジタル情報プロセッサ(607、608)を有するデータ処理センタ(609)であって、前記光バス及び少なくとも1つの光バス送信器は、該データ処理センタ(609)内の前記光バスに結合された、1つのデジタル情報プロセッサと少なくとも1つの他のデジタル情報プロセッサとの間で情報を転送することになる、前記データ処理センタと、からなる群から選択される、構成要素の統合された組み合わせを更に備える、請求項14に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US2010/054740 WO2012057788A1 (en) | 2010-10-29 | 2010-10-29 | Small-mode-volume, vertical-cavity, surface-emitting laser |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013542609A JP2013542609A (ja) | 2013-11-21 |
JP5777722B2 true JP5777722B2 (ja) | 2015-09-09 |
Family
ID=45994253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013536577A Active JP5777722B2 (ja) | 2010-10-29 | 2010-10-29 | 小モード体積垂直共振器面発光レーザ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9991676B2 (ja) |
JP (1) | JP5777722B2 (ja) |
WO (1) | WO2012057788A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2999980B1 (en) | 2013-05-22 | 2021-09-29 | Hewlett Packard Enterprise Development LP | Optical devices including a high contrast grating lens |
WO2015065344A1 (en) * | 2013-10-29 | 2015-05-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | High contrast grating optoelectronics |
WO2015112166A1 (en) | 2014-01-24 | 2015-07-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical modulation employing high contrast grating lens |
CN109075532B (zh) | 2016-03-04 | 2021-10-22 | 普林斯顿光电子股份有限公司 | 高速vcsel装置 |
CN112219327A (zh) * | 2018-05-11 | 2021-01-12 | 加利福尼亚大学董事会 | 氧化物间隔hcg vcsel及其制造方法 |
WO2023188405A1 (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | Sanoh Industrial Co.,Ltd. | Surface emitting laser, method for fabricating surface emitting laser |
Family Cites Families (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5140149A (en) * | 1989-03-10 | 1992-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical apparatus using wavelength selective photocoupler |
JP3242192B2 (ja) * | 1993-03-30 | 2001-12-25 | 株式会社日立製作所 | 半導体レーザ素子 |
US5726805A (en) | 1996-06-25 | 1998-03-10 | Sandia Corporation | Optical filter including a sub-wavelength periodic structure and method of making |
JPH11186653A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
US6195381B1 (en) | 1998-04-27 | 2001-02-27 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Narrow spectral width high-power distributed feedback semiconductor lasers |
US6635861B1 (en) | 1998-10-22 | 2003-10-21 | Wavefront Research, Inc. | Relaxed tolerance optical interconnect system having a GRIN rod lens |
GB2385713B (en) | 1999-03-05 | 2003-10-15 | Nanovis Llc | Aperiodic electronic bandgap structure |
GB9916145D0 (en) | 1999-07-10 | 1999-09-08 | Secr Defence | Control of polarisation of vertical cavity surface emitting lasers |
EP1081816A3 (en) * | 1999-09-03 | 2002-04-24 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) having undoped distributed bragg reflectors and using lateral current injection and method for maximizing gain and minimizing optical cavity loss |
US7535944B1 (en) * | 2000-05-26 | 2009-05-19 | Opticomp Corporation | Photonic crystal/waveguide coupler for VCSELS and photodetectors |
US6590267B1 (en) | 2000-09-14 | 2003-07-08 | Mcnc | Microelectromechanical flexible membrane electrostatic valve device and related fabrication methods |
US7383574B2 (en) | 2000-11-22 | 2008-06-03 | Hewlett Packard Development Company L.P. | Method and system for limiting the impact of undesirable behavior of computers on a shared data network |
US6905900B1 (en) | 2000-11-28 | 2005-06-14 | Finisar Corporation | Versatile method and system for single mode VCSELs |
JP4034513B2 (ja) | 2000-12-15 | 2008-01-16 | 日本オプネクスト株式会社 | 面発光型レーザ装置、これを用いた光モジュール、及び光システム |
TW528891B (en) | 2000-12-21 | 2003-04-21 | Ind Tech Res Inst | Polarization-independent ultra-narrow bandpass filter |
US6707548B2 (en) | 2001-02-08 | 2004-03-16 | Array Bioscience Corporation | Systems and methods for filter based spectrographic analysis |
DK1371120T3 (da) | 2001-03-09 | 2013-07-22 | Alight Photonics Aps | Bølgetypekontrol ved anvendelse af transversal båndgabsstruktur i vcsels |
JP4174322B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2008-10-29 | エコール ポリテクニーク フェデラル ドゥ ローザンヌ(エーペーエフエル) | 垂直共振器面発光レーザとその製造方法 |
CN2571034Y (zh) | 2001-08-09 | 2003-09-03 | 杨英杰 | 半导体雷射元件结构 |
US6914925B2 (en) | 2001-08-10 | 2005-07-05 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device |
US6894836B2 (en) | 2001-08-28 | 2005-05-17 | Delphi Technologies, Inc. | Diffraction grating, method of making and method of using |
US7106920B2 (en) | 2001-11-13 | 2006-09-12 | Zhongshan Liu | Laser array for generating stable multi-wavelength laser outputs |
US7096498B2 (en) | 2002-03-08 | 2006-08-22 | Cipher Trust, Inc. | Systems and methods for message threat management |
GB0205794D0 (en) | 2002-03-12 | 2002-04-24 | Montelius Lars G | Mems devices on a nanometer scale |
GB0208255D0 (en) | 2002-04-10 | 2002-05-22 | Imec Inter Uni Micro Electr | Photonic crystal based fiber-to-waveguide coupler for polarisation independent photonic integrated circuits |
US7386205B2 (en) | 2002-06-17 | 2008-06-10 | Jian Wang | Optical device and method for making same |
US6829281B2 (en) * | 2002-06-19 | 2004-12-07 | Finisar Corporation | Vertical cavity surface emitting laser using photonic crystals |
US7180930B2 (en) | 2002-06-20 | 2007-02-20 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | DFB semiconductor laser device having ununiform arrangement of a diffraction grating |
US20040105476A1 (en) * | 2002-08-19 | 2004-06-03 | Wasserbauer John G. | Planar waveguide surface emitting laser and photonic integrated circuit |
JP3838218B2 (ja) | 2003-05-19 | 2006-10-25 | ソニー株式会社 | 面発光型半導体レーザ素子及びその製造方法 |
US7302130B2 (en) | 2003-11-04 | 2007-11-27 | Avago Technologies Eiberip (Singapore) Pte Ltd | Optical multistage networks |
JP4507567B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2010-07-21 | セイコーエプソン株式会社 | 面発光レーザの製造方法 |
WO2005089098A2 (en) * | 2004-01-14 | 2005-09-29 | The Regents Of The University Of California | Ultra broadband mirror using subwavelength grating |
US7173764B2 (en) | 2004-04-22 | 2007-02-06 | Sandia Corporation | Apparatus comprising a tunable nanomechanical near-field grating and method for controlling far-field emission |
CN100350292C (zh) | 2004-06-24 | 2007-11-21 | 北京邮电大学 | 采用洗牌Benes级间连接规则的二维微光电机械光开关及其方法 |
US7423751B2 (en) | 2005-02-08 | 2008-09-09 | Northrop Grumman Corporation | Systems and methods for use in detecting harmful aerosol particles |
JP4027392B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2007-12-26 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザ装置 |
JP2009515203A (ja) | 2005-05-18 | 2009-04-09 | ホッブズ,ダグラス,エス. | 偏光および波長フィルタ処理用微細構造光学装置 |
JP2007017934A (ja) | 2005-06-07 | 2007-01-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学素子および光ピックアップ |
US7474396B2 (en) | 2006-01-17 | 2009-01-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Raman spectroscopy system and method using a subwavelength resonant grating filter |
JP2007234824A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Canon Inc | 垂直共振器型面発光レーザ |
JP2007234724A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Canon Inc | 垂直共振器型面発光レーザ、該垂直共振器型面発光レーザにおける二次元フォトニック結晶の製造方法 |
CN1916668A (zh) | 2006-08-31 | 2007-02-21 | 上海理工大学 | 一种电控调维微透镜阵列制作方法 |
US7680371B2 (en) | 2007-02-13 | 2010-03-16 | National Research Council Of Canada | Interface device for performing mode transformation in optical waveguides |
US7907654B2 (en) | 2007-04-27 | 2011-03-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Laser diode with a grating layer |
JP5020866B2 (ja) | 2007-05-07 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザ |
JP5084540B2 (ja) | 2008-02-06 | 2012-11-28 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザ |
JP4573885B2 (ja) | 2008-06-26 | 2010-11-04 | シャープ株式会社 | 照明光受信装置及び照明光通信システム |
JP5158878B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-03-06 | 古河電気工業株式会社 | 面発光レーザ及びその製造方法 |
DE102009001505A1 (de) | 2008-11-21 | 2010-05-27 | Vertilas Gmbh | Oberflächenemittierende Halbleiterlaserdiode und Verfahren zur Herstellung derselben |
KR101834015B1 (ko) * | 2009-02-11 | 2018-04-13 | 덴마크스 텍니스케 유니버시테트 | 하이브리드 수직공진 레이저 |
US9423539B2 (en) | 2009-07-17 | 2016-08-23 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Non-periodic grating reflectors with focusing power and methods for fabricating the same |
US8842363B2 (en) | 2010-01-29 | 2014-09-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Dynamically varying an optical characteristic of light by a sub-wavelength grating |
WO2012105945A1 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus and method for performing spectroscopy |
-
2010
- 2010-10-29 WO PCT/US2010/054740 patent/WO2012057788A1/en active Application Filing
- 2010-10-29 JP JP2013536577A patent/JP5777722B2/ja active Active
- 2010-10-29 US US13/880,316 patent/US9991676B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130209110A1 (en) | 2013-08-15 |
US9991676B2 (en) | 2018-06-05 |
WO2012057788A1 (en) | 2012-05-03 |
JP2013542609A (ja) | 2013-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5777722B2 (ja) | 小モード体積垂直共振器面発光レーザ | |
KR20030060961A (ko) | 단일모드 수직공동 표면방출 레이저를 위한 다기능 방법및 시스템 | |
US20150318666A1 (en) | Vertical-cavity surface-emitting transistor laser, t-vcsel and method for producing the same | |
JP2005354061A (ja) | 熱伝導率の高い垂直共振器型面発光レーザ | |
JP2004146833A (ja) | 複数活性領域を備えた電気ポンピング式垂直共振器面発光レーザ | |
JP3296917B2 (ja) | 半導体レーザ素子及びその製造方法 | |
EP3785339A1 (en) | Bottom emitting vertical-cavity surface-emitting lasers | |
US20180175587A1 (en) | Monolithic wdm vcsels with spatially varying gain peak and fabry perot wavelength | |
JP4829119B2 (ja) | 側方に取り付けられたエッジ発光体を有するモノリシック光学的ポンピングvcsel | |
JPH11150340A (ja) | 垂直キャビティを有する表面発光型半導体レーザ | |
US6717974B2 (en) | Apparatus and method for improving electrical conduction structure of a vertical cavity surface emitting laser | |
US20180337516A1 (en) | Vcsels having mode control and device coupling | |
CN115882339A (zh) | 包含多主动层与光栅层的半导体激光二极体 | |
RU2611555C1 (ru) | Полупроводниковый вертикально-излучающий лазер с внутрирезонаторными контактами | |
JP2004103754A (ja) | 面発光レーザ素子および面発光レーザモジュールおよび面発光レーザアレイおよび光伝送システム | |
JP2005311175A (ja) | 面発光レーザ及び光伝送システム | |
JP2004031925A (ja) | n型半導体分布ブラッグ反射器および面発光半導体レーザ素子および面発光レーザアレイおよび面発光レーザモジュールおよび光インターコネクションシステムおよび光通信システム | |
US20100020836A1 (en) | Use of current channeling in multiple node laser systems and methods thereof | |
CN113851927A (zh) | 一种半导体激光器 | |
TW202236766A (zh) | 具有底側金屬層的底部發射式發射器陣列 | |
CN114552380A (zh) | 谐振腔、激光单元及芯片和激光器及形成方法、激光雷达 | |
JP2002261400A (ja) | レーザ、レーザ装置および光通信システム | |
KR100574441B1 (ko) | 저손실 표면방출 레이저 소자 및 제조 방법 | |
TW200803094A (en) | Vertical-cavity surface-emitting laser with stable polarization, and fabrication method thereof | |
Dahiya et al. | Analysis of on chip optical source vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140715 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150327 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20150403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150609 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150707 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5777722 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |