JP5766690B2 - インテグラーゼ阻害活性を有するピリドン誘導体 - Google Patents
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Description
R4は水素、置換されていてもよい低級アルキル(但し、置換基は置換されていてもよいアリールではない)、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NRa(Raは水素または低級アルキル)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい);
Z2は、O、S、SO、SO2、NR5(R5は水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい))、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン;
XAは、以下の群から選択される基:
XA1:単結合、
XA2:C=O、およびC=Sから選択される基、
XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択されるヘテロ原子基、
XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基、
XA5:−N=N−、−C(R1’)=N−、または−N=C(R1’)−(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択される基、
XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン、
XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6、ならびに
XA8:XA1〜XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;
Qは、以下の群から選択される基:
Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基、および
Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、
但し、
−XA−Qが−CONR1−X−R2である場合:
(式中、R1は、水素または低級アルキル;
Xは、単結合、O、S、SO、SO2およびNHから選択されるヘテロ原子基、または該ヘテロ原子基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレン;
R2は、置換されていてもよいアリール)
を除く;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;
R4はZ2部分と一緒になって環を形成してもよく、このとき、化合物(QI)は以下の式(QI−1)または(QI−11)で示される:
A環は置換されていてもよい複素環;R14およびRXは、それぞれ独立して水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい)、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、または置換されていてもよいアミノカルボニル;破線は結合の存在または非存在を示す;
但し、破線が結合の存在を示す場合、RXは存在しない;
XAおよびQは前記と同意義;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ);
D環は置換されていてもよい複素環;
XAおよびQは前記と同意義;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ);
またZ2は、B1およびB2からなる連結基であってもよく、この時、化合物(QI)は以下の式(QI−B)で示される:
破線は結合の存在または非存在を示す;
B1およびB2は、いずれか一方はCR20R21、他方はNR22、この場合は破線は存在しない;
B2がNR22の場合、R4とR22は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
B2がCHR21の場合、R4とR21は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
またはB1およびB2は、それぞれ独立してC、CR23、またはNであり、この場合B1およびB2部分は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい;
R20、R21、R22およびR23は、それぞれ独立して、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい)、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換(チオ)ウレア、または置換スルホニル;
その他の記号は、前記と同意義))、
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
より好ましくは、RAおよびRBは共にORCであるか、またはいずれか一方がORCあり、他方がNRDREである。
「置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ」として好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたヒドロキシであり、より好ましくは以下の基である。
−XA−Qにおいて、XAは、以下の群から選択される基:
XA1:単結合、
XA2:C=O、
XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択されるヘテロ原子基、
XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基(例:−CONH−、−CONHNH−、−CONHNHCO−、−CONHO−、−CONHNHSONH−、−CONHNMe−、−NHCONH―、−NHCOO−)、
XA5:−N=N−、−C(R1’)=N−、または−N=C(R1’)−(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択される基、
XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン(置換基の例:Me、Ph)、
XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6(例:−CONHCH2−、−CONMeCH2−、−CONHCH2CH2O−、−CONHCH2CH2−SO2−、−CONHCH2CH2CH2−)、ならびに
XA8:XA1〜XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;
である。
Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基、および
Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、
である。
A環は、好ましくは(a)、(b)または(c)の環である。
I) A環が(A−1)の場合、好ましくは、1)ZはNR26、R26およびR24は一緒になって複素環を形成し、その他は水素である; 2)ZはOまたはNR26、(R20およびR22)または(R23およびR24)は、一緒になってフェニルで置換されたシクロアルキルを形成し、その他は水素または置換されていてもよい低級アルキルである。
II) A環が(A−2)の場合、好ましくは、1)ZはO、R27またはR28は低級アルキルであり、その他は水素である; 2)ZはNR31、R30およびR31は一緒になって複素環を形成し、その他は水素であるか、またはR27およびR29は一緒になってシクロアルキルを形成し、その他は水素である; 3)ZはO、R27およびR29は一緒になって、フェニルと縮合していてもよいシクロアルキルを形成し、その他は水素である。
化合物(QI−3)は好ましくは以下の態様である。
(1)R15およびR16が共に水素;R17およびR18が共に水素または隣接原子と一緒になって3〜7員の炭素環を形成;および/またはZはOまたはNHである。
G環上の置換基としては、前記置換基群S2から選択される同一又は異なる、1またはそれ以上の置換基が例示される。またG環上の置換基部分は、隣接する原子と一緒になって、さらに縮合環またはスピロ環、好ましくは置換されていてもよい炭素環(好ましくは5〜6員環)または置換されていてもよい複素環(好ましくは5〜6員環)を形成してもよい。
C環上の置換基として好ましい態様の一つは、低級アルキル(例:メチル、イソプロピル)、低級アルコキシ低級アルキル(例:2−メトキシエチル)、置換されていてもよいアミノ(置換基の例:低級アルキル(例:メチル)、低級アルキルカルボニル(例:アセチル))である。
(1)主骨格である縮合ヘテロ環上に、オキソ(=O)、ヒドロキシ(OH)およびオキソ(=O)が置換している。
(2)縮合ヘテロ環上のオキソの隣接部位に、−XA−Qで示される側鎖を有する。
なお上記で得られた本発明化合物をさらに化学修飾して、別の化合物を合成してもよい。また上記反応中で、側鎖部分などに反応性官能基(例:OH、COOH、NH2)が存在する場合には、所望により、反応前に保護し、反応後に脱保護してもよい。
〈略号〉
Boc:t−ブトキシカルボニル
DMAP:ジメチルアミノピリジン
THF:テトラヒドロフラン
HATU:2-(1H-7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-1,1,3,3-テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロフォスフェート メタンアムニウム(英語名:2-(1H-7-Azabenzotriazol-1-yl)-1,1,3,3-tetramethyl uronium hexafluorophosphate Methanaminium)
TFA:トリフルオロ酢酸
Me:メチル
Et:エチル
Bu:ブチル
Ph:フェニル
Bn:ベンジル。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 1.35 (d, J = 7.1 Hz, 3 H), 1.46-1.56 (m, 1 H), 2.08-2.24 (m, 1 H), 3.95 (d, J = 2.5 Hz, 1 H), 3.98 (dd, J = 3.3, 1.9 Hz, 1 H), 4.15 (dd, J = 13.5, 5.8 Hz, 1 H), 4.28 (dd, J = 13.5, 3.8 Hz, 1 H), 4.93-5.06 (m, 1 H), 5.19 (dd, J = 5.8, 3.8 Hz, 1 H), 5.37 (d, J = 10.2 Hz, 1 H), 5.42 (d, J = 10.2 Hz, 1 H), 7.28-7.40 (m, 3 H), 7.56-7.62 (m, 2 H), 8.32 (s, 1 H);ESI-MS [M+H+] 計算値 385, 実測値 385。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 0.90-1.32 (m, 5 H), 1.45 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 1.49-1.85 (m, 7 H), 2.15-2.32 (m, 1 H), 3.26-3.32 (m, 2 H), 4.02 (d, J = 2.1 Hz, 1 H), 4.03-4.07 (m, 1 H), 4.12 (dd, J = 13.4, 5.9 Hz, 1 H), 4.27 (dd, J = 13.4, 3.8 Hz, 1 H), 4.94-5.06 (m, 1 H), 5.26 (dd, J = 5.9, 3.8 Hz, 1 H), 8.29 (s, 1 H), 10.00-10.11 (m, 1 H), 12.39 (s, 1 H); ESI-MS [M+H+] 計算値 390, 実測値 390。
ESI-MS [M+H+] 計算値 390, 実測値 390。
具体的化合物および物性データ(MS)を以下に記載した。
具体的化合物を以下に記載した。
(試験方法)
(1)DNA溶液の調製
特許文献2の試験例1に記載の方法と同一の方法で、基質DNA溶液(2 pmol/μl)およびターゲットDNA溶液(5 pmol/μl)を調製した。ターゲットDNA各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。基質DNAとターゲットDNAの各配列は、同試験例に記載の通りである。
Immobilizer - Streptavidin Plates (NUNC社製) に基質DNA溶液(2 pmol/μl) 50 μlを加え、振盪下、室温で60 分間吸着させた後、リン酸バッファーで2回洗浄した。
阻害率(%)=100[1−{(C abs.− NC abs.) / (PC abs.− NC abs.)}]
C abs. :化合物のウエルの吸光度
NC abs.:NCの吸光度
PC abs.:PCの吸光度
(結果)
(試験方法)
HeLa-CD4 細胞懸濁液 (2.5×104 細胞/ウエル) をアッセイプレートの各ウエルに分注した。37℃、5% CO2の条件下で1時間インキュベーション後、化合物希釈液 (50 μL) を各ウエルに加えた(但し、細胞コントロールを除く)。培養液 (50 μL) を細胞コントロールのウエルには加えた。プレートを37℃、5% CO2 の条件下で3日間培養した。
(結果)
「活性成分」なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらの製薬的に許容される又はそれらの溶媒和物を意味する。
硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する:
用量
(mg/カプセル)
活性成分 250
デンプン(乾燥) 200
ステアリン酸マグネシウム 10
合計 460mg
製剤例2
錠剤は下記の成分を用いて製造する:
用量
(mg/カプセル)
活性成分 250
セルロース(微結晶) 400
二酸化ケイ素(ヒューム) 10
ステアリン酸 5
合計 665mg
成分を混合し、圧縮して各重量665mgの錠剤にする。
Claims (8)
- 式:
(式中、
R4は水素、置換されていてもよい炭素数1〜4個の低級アルキル(但し、置換基は置換されていてもよいアリールではない)、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NRa(Raは水素または低級アルキル)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい);
Z2は、O、S、SO、SO2、NR5(R5は水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい))、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン;
XAは、以下の群から選択される基:
XA1:単結合、
XA2:C=O、およびC=Sから選択される基、
XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択されるヘテロ原子基、
XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基、
XA5:−N=N−、−C(R1’)=N−、または−N=C(R1’)−(R1’は水素もしくは低級アルキル)から選択される基、
XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン、
XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6、ならびに
XA8:XA1〜XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;
Qは、以下の群から選択される基:
Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基であって、
置換されていてもよい以下の環のいずれかから選択される複素環式基、
但し、
−XA−Qが−CONR1−X−R2である場合:
(式中、R1は、水素または低級アルキル;
Xは、単結合、O、S、SO、SO2およびNHから選択されるヘテロ原子基、または該ヘテロ原子基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレン;
R2は、置換されていてもよいアリール)
を除く;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;
R4はZ2部分と一緒になって環を形成してもよく、このとき、化合物(QI)は以下の式(QI−1)または(QI−11)で示される:
(式中、
A環は置換されていてもよい複素環;R14およびRXは、それぞれ独立して水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい)、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、または置換されていてもよいアミノカルボニル;破線は結合の存在または非存在を示す;
但し、破線が結合の存在を示す場合、RXは存在しない;
XAおよびQは前記と同意義;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ);
(式中、
D環は置換されていてもよい複素環;
XAおよびQは前記と同意義;
R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ);
またZ2は、B1およびB2からなる連結基であってもよく、この時、化合物(QI)は以下の式(QI−B)で示される:
(式中、
破線は結合の存在または非存在を示す;
B1およびB2は、いずれか一方はCR20R21、他方はNR22、この場合は破線は存在しない;
B2がNR22の場合、R4とR22は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
B2がCHR21の場合、R4とR21は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
またはB1およびB2は、それぞれ独立してC、CR23、またはNであり、この場合B1およびB2部分は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい;
R20、R21、R22およびR23は、それぞれ独立して、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル(該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5(R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される)、−N=および=N−からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい)、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換(チオ)ウレア、または置換スルホニル;その他の記号は、前記と同意義))、
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - −XA−Qにおいて、XAが、−CONR1’−、−CONR1’−XA6−、または−CONR1’−XA7−(各記号は前記と同意義)である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R3は水素である、請求項1または2に記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 化合物(QI)が式:(QI−1)、(QI−11)、または(QI−B)である、請求項1〜3のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 化合物(QI)が式:(QI−1)、R3、R14およびRXは水素;破線は結合の非存在を示す、請求項1〜3のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する、医薬組成物。
- 抗HIV薬である、請求項6記載の医薬組成物。
- インテグラーゼ阻害剤である、請求項6記載の医薬組成物。
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