JP5756982B2 - X線集光方法、反射面形状制御ミラー装置及び反射面形状制御ミラーの製造方法 - Google Patents
X線集光方法、反射面形状制御ミラー装置及び反射面形状制御ミラーの製造方法 Download PDFInfo
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Description
フィードバックを行い任意形状の変形実験を行った結果、目標形状に対し,再生形状だけでは目標形状との誤差が大きくなっていることが分かる。しかし、フィードバックをかけることによってサブナノメートルの精度でミラー形状を制御することに成功した。このように、フィードバックシステムを用いることにより、目標形状により近づけることができるのである。
B コントロールシステム
1 基板
2 X線反射面
3 基準平面
4 圧電素子
5 形状計測手段
6 制御ボックス
7 コンピュータ
8 コンピュータ
9 X線集光ミラー
Claims (5)
- 軟X線から硬X線領域のX線ビームを反射させて理想波面に変更するための反射面形状制御ミラー装置であって、基板の表面中央部に形成した帯状のX線反射面と、該X線反射面の両側に沿って形成した基準平面とを所望精度で加工し、該X線反射面と基準平面の形状を測定し、それらの形状及び相対形状差を算出して初期形状データを取得した後、前記基板の両側部で、前記基準平面の外側に沿った表裏一面に、複数の圧電素子を前記X線反射面の長手方向に並べ該X線反射面を中心として左右対称に配置して基板に接合するとともに、前記基板の反対面に、前記X線反射面を中心として左右対称に圧電素子を配置して基板に接合した反射面形状制御ミラーと、前記各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる反射面形状制御ミラー装置。
- 前記反射面形状制御ミラーが、前記基板の表裏両面に同じ配置パターンで前記圧電素子を列設したものである請求項1記載の反射面形状制御ミラー装置。
- 請求項1又は2記載の反射面形状制御ミラー装置を用い、予めX線反射面と基準平面の初期形状データを取得して相対形状差を算出しておいた前記反射面形状制御ミラーをX線集光光学系に組み込み、その状態のまま該反射面形状制御ミラーの基準平面の形状をモニターするとともに、X線集光エリアで計測したX線プロファイルの強度分布に基づき、位相回復法によりX線集光光学系の位相誤差を算出し、該位相誤差を打ち消すように前記反射面形状制御ミラーの各圧電素子に前記コントロールシステムから電圧を印加し、前記X線反射面の形状を変化させることを特徴とするX線集光方法。
- 軟X線から硬X線領域のX線ビームを反射させて理想波面に変更するための反射面形状制御ミラーの製造方法であって、基板の表面中央部に形成した帯状のX線反射面と、該X線反射面の両側に沿って形成した基準平面とを所望精度で加工する工程と、前記X線反射面と基準平面の形状を測定し、それらの形状及び相対形状差を算出して初期形状データを取得する工程と、その後、前記基板の両側部で、前記基準平面の外側に沿った表裏一面に、複数の圧電素子を前記X線反射面の長手方向に並べ該X線反射面を中心として左右対称に配置して基板に接合するとともに、前記基板の反対面に、前記X線反射面を中心として左右対称に圧電素子を配置して基板に接合する工程とよりなることを特徴とする反射面形状制御ミラーの製造方法。
- 前記基板の表裏両面に同じ配置パターンで前記圧電素子を列設した請求項4記載の反射面形状制御ミラーの製造方法。
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