JP7417027B2 - 反射型ｘ線光学素子、該反射型ｘ線光学素子を用いたｘ線集光システム、および該反射型ｘ線光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、例えばKirkpatrick-Baezミラー（以下、単に「ＫＢミラー」と称す。）光学系に用いるのに好適な、反射型Ｘ線光学素子、これを用いたＸ線集光システム、および前記反射型Ｘ線光学素子の製造方法に関するものである。
Ｘ線発生源として放射光利用が進んだことにより、Ｘ線を利用した計測技術が大きく発展した。現在ではXAFSや散乱Ｘ線等で物質の構造的、化学的、元素的な解析に用いるのみならず、イメージングや新物質の創生等、応用先も多岐に渡る。Ｘ線の中でも１ｎｍから１０ｎｍの波長域に属する光を軟Ｘ線と呼び、軽元素を対象として前述の用途で用いられている。これらの観測で空間分解能と取得情報量を向上するためには、可能な限り照明光を集光することが必要である。
集光径の下限は回折限界によって規定され、開口度（Numerical Aperture,ＮＡ）の大きい光学素子や短波長の光線を使用することで理論的な回折限界値は小さくできる。例えば大開口を実現するための回転楕円ミラーも提案・作製されている。しかし、現実にはミラーの表面粗さやアラインメント誤差が存在し、理論上の回折限界値まで絞り込めないといった課題がある。
本発明者らは、軟Ｘ線を回折限界値へと集光する光学素子に関して、既に、ＫＢミラー光学系で用いる楕円形ミラーを小型化したものを提案している（非特許文献１）。ＫＢミラー光学系は、一般的に、楕円形の一部をメリジオナル方向に持つ鏡二枚で構成され、全反射現象を利用した反射型Ｘ線光学素子であるため理論上色収差が存在しない（たとえば、特許文献１参照。）。しかし、従来からのＫＢミラー光学系では、アラインメント誤差によって理想的な楕円形がずれることでデフォーカスや波面収差が生じたり、表面性状由来の散漫散乱光が生じるため、集光性能の向上に限界があった。
本発明者らの上記非特許文献１では、ＫＢミラー光学系の楕円ミラーを、ミラーの光軸に沿った長さを小さく（従来１００ｍｍのものを２ｍｍに）設定した小型楕円ミラーとすることで、アライメント誤差が生じてもミラー端点の理想形状からのずれを抑えるとともに、当該小型楕円ミラーの焦点距離を小さく設定することで、散漫散乱光の幅の広がりを抑え、これにより集光性能を向上させることを提案しており、シミュレーションの結果、このような小型楕円ミラーがアライメント誤差に強く、散漫散乱光の影響を低減できることが確認されている。
しかし、このような小型の反射型光学素子は、精度よく安定した姿勢に保持（設置）することが物理的に、また作業的にも難しく、取り付け方によってはアライメント誤差（特に高精度なアライメントが求められるＸ線入射角など）自体が大きく成り兼ねないという課題があった。また、このような小型の反射型光学素子のミラー面をいかに効率よく高精度に作製するかも課題であった。
島村勇徳,本山央人,西岡勇人,三村秀和，"Ｘ線集光用超小型ＫＢミラーの提案と作製プロセスの開発"，公益社団法人精密工学会，2017年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 p819-820,2017.9.5発行
そこで、本発明が前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、小型であっても精度よく安定した姿勢に保持（設置）することができる反射型光学素子、および当該反射型光学素子を効率よく高精度に作製する方法を提供する点にある。
本発明は、以下の発明を包含する。
（１） Ｘ線の反射面が形成された反射部と、前記反射部の前記反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して設けられ、前記子午線方向に延びる把持部とよりなる、反射型Ｘ線光学素子。
（１） Ｘ線の反射面が形成された反射部と、前記反射部の前記反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して設けられ、前記子午線方向に延びる把持部とよりなる、反射型Ｘ線光学素子。
（２） 前記把持部が、前記反射部の端部から前記子午線方向に沿った一方向にのみ延設され、略Ｌ字状に構成された（１）記載の反射型Ｘ線光学素子。
（３） 前記反射面の子午線方向に沿ったミラー長が１０ｍｍ以下である（１）又は（２）記載の反射型Ｘ線光学素子。
（４） 前記反射面が、前記子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の反射面である、（１）～（３）のいずれかに記載の反射型Ｘ線光学素子。
（５） 上記（４）記載のＸ線光学素子を２つ設け、第１のＸ線光学素子を、把持部から反射部が縦方向に延び、反射面がＸ線の入射する前後方向に対して横方向を向くように設置し、第２のＸ線光学素子を、把持部を第１のＸ線光学素子の把持部と側方に並べ、反射部は第１のＸ線光学素子がある側の横方向に延び、反射面が縦方向を向くように設置し、第１のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を水平方向に集光し、且つ第２のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を鉛直方向に集光し、これによりＫＢミラー光学系を成す、反射型Ｘ線光学素子を用いたＸ線集光システム。
（６） Ｘ線の反射面が形成された反射部と、前記反射部の前記反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して設けられ、前記子午線方向に延びる把持部とよりなる、反射型Ｘ線光学素子の製造方法であって、前記反射部および前記把持部を、一つの平凹シリンドリカルレンズから切り出して形成し、前記平凹シリンドリカルレンズの凹レンズ面より前記反射面を形成してなる、反射型Ｘ線光学素子の製造方法。
（７） 前記切り出し後の前記凹レンズ面に薄膜を成長させて、前記子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の前記反射面を形成してなる、（６）記載の反射型Ｘ線光学素子の製造方法。
以上にしてなる本願発明に係る反射型Ｘ線光学素子は、反射部の反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して設けられ、子午線方向に延びる把持部を備えるので、当該把持部を支持することにより、反射部（反射面）を精度よく安定した姿勢に、容易かつ確実に保持することができる。したがって、集光素子の場合には集光性能を向上させることができる。また、アライメント自体も当該把持部を動かすことで高精度に行うことが可能となる。
特に、前記把持部が、反射部の端部から子午線方向に沿った一方向にのみ延設され、略Ｌ字状に構成されたものでは、効率的な構造となり、たとえばＫＢミラー光学系のように複数の素子を組み合わせた光学系を構築する場合にも、素子の設置に関する自由度が向上し、光学系全体の設計の自由度も向上して装置の小型化も容易となる。
本発明は、前記反射面の子午線方向に沿ったミラー長が１０ｍｍ以下の小型のＸ線光学素子に特に効果的である。すなわち、本発明はこのような小型の光学素子であっても上記把持部を備えることで反射部（反射面）を精度よく安定した姿勢に、容易かつ確実に保持可能としたものである。
具体的には、前記反射面が子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の反射面である、いわゆる楕円形集光ミラーに好適である。
また、この部分楕円形状をもつＸ線光学素子を２つ設け、第１のＸ線光学素子を、把持部から反射部が縦方向に延び、反射面がＸ線の入射する前後方向（光軸方向）に対して横方向を向くように設置し、第２のＸ線光学素子を、把持部を第１のＸ線光学素子の把持部と側方に並べ、反射部は第１のＸ線光学素子がある側の横方向に延び、反射面が縦方向を向くように設置し、第１のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を水平方向に集光し、且つ第２のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を鉛直方向に集光し、これによりＫＢミラー光学系を成す、反射型Ｘ線光学素子を用いたＸ線集光システムでは、互いに並んだ双方のＸ線光学素子の把持部を支持することで各光学素子の反射部（反射面）を精度よく安定した姿勢に容易かつ確実に保持でき、優れた集光性能を有するＫＢミラー光学系を提供することができる。
また、本発明の反射型Ｘ線光学素子の製造方法として、前記反射部および前記把持部を、一つの平凹シリンドリカルレンズから切り出して形成し、前記平凹シリンドリカルレンズの凹レンズ面より前記反射面を形成することとしたので、凹凸レンズ面形状を利用して部分楕円形状の反射面を効率よく作製できるとともに、当該反射部と把持部とを同一素材で連続した一体品として提供することができるので、環境変化によるアライメント誤差も生じにくく、かつ把持部を支持することで反射部の反射面をより安定的に精度よく保持することができる。
特に、前記切り出し後の凹レンズ面に薄膜を成長させて子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の前記反射面を形成する方法では、前記凹レンズ面を利用して効率よく成膜することができるが、当該成膜の際、上記把持部を支持することで成膜する反射部を安定保持し、より精度良く反射面を形成することができる。
次に、本発明の実施形態を添付図面に基づき詳細に説明する。
図１～図３は、本発明の反射型Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂを用いて、ＳＰｒｉｎｇ－８や自由電子レーザ等の放射光発生装置で作り出されたＸ線を集光するＸ線集光システムＳを成すＸ線集光装置９を示している。以下の実施形態では、反射型Ｘ線光学素子を２つ設け、第１のＸ線光学素子１Ａを水平集光用の楕円形ミラー、第２のＸ線光学素子１Ｂを鉛直集光用の楕円形ミラーとして、これを組み合わせることによりＫＢミラー光学系の集光システムＳを構築した例について説明するが、本発明はこれに何ら限定されるものではない。
また、本発明の反射型Ｘ線光学素子としては、本実施形態のようなＫＢミラー光学系をなす水平集光用／鉛直集光用の楕円形ミラーに限定されない。反射面としては一方向の楕円面以外に、多方向の回転楕円面、一方向／多方向の放物面、双曲面、凹面以外に凸面形や、円筒／円錐面形、平面形、異なる面を組み合わせた複合面など、種々の形態の反射面形状を有するＸ線光学素子に広く適用できる。また、用途についても集光用以外に、コリメーション用、高次光カット用など種々の用途のＸ線光学素子に適用できる。
本実施形態の集光システムＳでは、各楕円形ミラー（Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂ）は、ミラー（反射面２０）の光軸に沿った長さを１０ｍｍ以下に小さく設定した小型楕円ミラーとし、アライメント誤差の影響を抑えるとともに、焦点距離を小さく設定して散漫散乱光の幅の広がりを抑え、集光性能の向上が図られている。
図１～図３は、Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂを高精度にアライメント可能なミラーマニピュレータのみ示しているが、このミラーマニピュレータを図示省略したチャンバー内に設置してＸ線集光装置が構成される。
図１～図３は、Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂを高精度にアライメント可能なミラーマニピュレータのみ示しているが、このミラーマニピュレータを図示省略したチャンバー内に設置してＸ線集光装置が構成される。
符号９３は、入射Ｘ線の開口制限スリットを示しており、２枚のＬ字板９３０、９３１とその位置調整を行うアクチュエータ９３２、９３３とより構成されている。また、符号９４は集光位置に設けられるサンプルステージであり、アクチュエータ９４０、９４１、９４２により保持したサンプルの位置調節がなされる。
各Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂは、図５（ａ），（ｂ）に示すように、Ｘ線の反射面２０が形成された反射部２と、反射部２の反射面２０に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部２ａに連続して設けられ、前記子午線方向（光軸方向）に延びる把持部３とより構成されている。本例の把持部３は、反射部の端部２ａから前記子午線方向に沿った一方向にのみ延設され、素子全体として略Ｌ字状に構成されている。
ただし、把持部を前記子午線方向に沿った両方向に延設し、素子全体として略Ｔ字状に構成したものでもよい。また、反射部２および把持部３を軸方向に略均一断面の角柱状に構成しているが、部分角錐状その他の形状としてもよく、全体としての形状もＬ字、Ｔ字以外の形状になっても勿論よい。
反射面２０の子午線方向に沿ったミラー長は、上記のとおり１０ｍｍ以下に設定されている。具体的には、Ｘ線光学素子１Ａのミラー長が８ｍｍ、Ｘ線光学素子１Ｂのミラー長が２ｍｍにそれぞれ設定されている。本発明に係る集光システムＳでは、このようなミラー長の短い反射部２を把持部３で支持することにより安定した姿勢に維持できるメリットがある。ただし、本発明はこのようなミラー長の短いものに限定されるものではない。
そして、図４および図５（ｃ）に示すように、第１のＸ線光学素子１Ａは、把持部３から反射部２が縦方向に延び、反射面２０が水平集光用として光軸方向に対して横方向（Ｘ軸方向手前側）を向くように設置され、第２のＸ線光学素子１Ｂは、把持部３を第１のＸ線光学素子１Ａの把持部３と側方（本例では斜め上方向）に平行に並べ、反射部２は鉛直集光用として第１のＸ線光学素子１Ａがある側（Ｘ軸方向手前側）の横方向に延び、反射面２０が縦方向（本例ではＺ軸方向上側）を向くように設置されている。
より詳しくは、Ｘ線光学素子１Ａ、１Ｂは、水平基台部９００とその端部から上方に延設される垂直基台部９０１とからなるＬ字型の基台９０の前記水平基台部９００、垂直基台部９０１に、それぞれ水平側調節ステージ９１Ａ、垂直側調節ステージ９１Ｂを介して取り付けられている。
水平側調節ステージ９１Ａは、Ｘ線光学素子１Ａの反射面２０を光軸（Ｙ軸）に直交する横方向の軸（Ｘ軸）を中心にヨーイング可能とする調節機構４１０と、同じくＸ線光学素子１Ａの反射面２０を光軸（Ｙ軸）を中心にローリング可能とする調節機構４１１とを備えた水平側第１調節ステージ４１と、該水平側第１調節ステージ４１に取り付けられ、Ｘ線光学素子１Ａを固定するとともに、該Ｘ線光学素子１Ａを光軸（Ｙ軸）に直交する縦方向の軸（Ｚ軸）を中心にピッチング可能とする水平側第２調節ステージ４２とより構成されている。水平側調節ステージ９１Ａは、折り畳み式のスライドステージ９２上に固定されている。
垂直側調節ステージ９１Ｂは、Ｘ線光学素子１Ｂの反射面２０を光軸（Ｙ軸）に直交する縦方向の軸（Ｚ軸）を中心にヨーイング可能とする調節機構５１０を備えた垂直側第１調節ステージ５１と、該垂直側第１調節ステージ５１に取り付けられ、Ｘ線光学素子１Ｂを固定するとともに、該Ｘ線光学素子１Ｂを光軸（Ｙ軸）に直交する横方向の軸（Ｘ軸）を中心にピッチング可能とする垂直側第２調節ステージ５２とより構成されている。
Ｘ線光学素子１Ａ，１Ｂの各反射面２０のピッチング角（Ｘ線の斜入射角）にはとくに高い分解能が求められるため、これを調節する水平側第２調節ステージ４２および垂直側第２調節ステージ５２は、いずれも弾性ヒンジ４２０、５２０と高分解能のリニアアクチュエータ４２１、５２１とより構成されている。
本実施形態では、各調節ステージのアクチュエータにピエゾステージを用いているが、これに限定されず、その他の公知のアクチュエータを適宜用いることができる。
本実施形態では、各調節ステージのアクチュエータにピエゾステージを用いているが、これに限定されず、その他の公知のアクチュエータを適宜用いることができる。
本実施形態の装置構成から分かるように、Ｘ線光学素子１Ａ，１Ｂがそれぞれ略Ｌ字状に構成されることで、互いに並んだ双方の把持部３で精度よく安定した姿勢に保持されるとともに、Ｌ字型の基台９０の水平基台部９００及び垂直基台部９０１にそれぞれＸ線光学素子１Ａ，１Ｂ取り付けて、極めてコンパクトに効率良くＸ線集光システムＳを構築することができるのである。
入射したＸ線は、図６のＫＢミラー光学系の模式図に示すように、第１のＸ線光学素子１Ａの反射面２０により水平方向に集光され、且つ第２のＸ線光学素子１Ｂの反射面２０により鉛直方向に集光され、試料位置に短焦点で集光するＫＢミラー光学系の集光システムＳが構成されている。
本装置を用いたＸ線集光実験の結果、図９及び図１０に示すように、３００ｅＶの軟Ｘ線でＨ４００ｎｍ×Ｖ２００ｎｍが達成された。
本装置を用いたＸ線集光実験の結果、図９及び図１０に示すように、３００ｅＶの軟Ｘ線でＨ４００ｎｍ×Ｖ２００ｎｍが達成された。
以下、Ｘ線光学素子１Ａ，１Ｂの製造手順について、図７及び図８に基づき説明する。
まず、図７（ａ）に示すように、作製するＸ線光学素子１Ａ，１Ｂの反射面２０と曲率半径の近い平凹シリンドリカルレンズ８を用意し、該シリンドリカルレンズ８の凹面８０のうち目的とする反射面２０の形状に近い所定の領域８１を決めて、当該領域８１が反射面２０の形成領域となるように、反射部２および把持部３からなるＬ字状の素子基材８２をレーザカット等により切り出す。これにより、図７（ｂ）にも示すように、素子基材８２の反射部２の反射面２０を形成する位置に、前記領域８１からなる反射基面２００が設けられる。
次に、図７（ｃ）に示すように、素子基材８２の前記反射基面２００に、薄膜２１１を成膜することにより楕円ミラー形状に修正加工する。薄膜は本例ではＡｌ層としたがＮｉ層やその他の素材を用いることもできる。この成膜による修正加工には、非特許文献１と同様のＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることが好ましい。
ＤＣマグネトロンスパッタリング法では、成膜時にピンホールマスクを組み合わせる
ことで高い空間分解能での形状修正が可能であり、具体的には、走査基盤上に素子基材８２を固定し、あらかじめ実験状況で得られた成膜レートを基に、ピンホールマスクを用いてシリンドリカルレンズの上記反射基面２００の形状と目的とする反射面２０の楕円ミラー形状の差分を上記Ａｌ層２１１で成膜する（差分成膜法）。
ことで高い空間分解能での形状修正が可能であり、具体的には、走査基盤上に素子基材８２を固定し、あらかじめ実験状況で得られた成膜レートを基に、ピンホールマスクを用いてシリンドリカルレンズの上記反射基面２００の形状と目的とする反射面２０の楕円ミラー形状の差分を上記Ａｌ層２１１で成膜する（差分成膜法）。
Ａｌ層の成膜後、図８（ａ），（ｂ）に示すように、さらにＰｔ層２１２層を均一厚で成膜することで反射面２０を得る。このような方法によれば、Ｐ－Ｖ値で３ｎｍ以下の形状精度で、ＲＭＳ０．２ｎｍほどの表面粗さの反射面２０を有する本発明に係るＸ線光学素子１Ａ，１Ｂを、効率良くかつ容易に形成することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる形態で実施し得ることは勿論である。
１Ａ、１Ｂ 反射型Ｘ線光学素子
２ 反射部
２ａ 端部
２０ 反射面
２００ 反射基面
２１ 薄膜
２１１ Ａｌ層
２１２ Ｐｔ層
３ 把持部
４１ 水平側第１調節ステージ
４１０ 調節機構
４１１ 調節機構
４２ 水平側第２調節ステージ
４２０ 弾性ヒンジ
４２１ リニアアクチュエータ
５１ 垂直側第１調節ステージ
５１０ 調節機
５２ 垂直側第２調節ステージ
５２０ 弾性ヒンジ
５２１ リニアアクチュエータ
８ シリンドリカルレンズ
８０ 凹面
８１ 領域
８２ 素子基材
９ Ｘ線集光装置
９０ 基台
９００ 水平基台部
９０１ 垂直基台部
９１Ａ 水平側調節ステージ
９１Ｂ 垂直側調節ステージ
９２ スライドステージ
９３ 開口制限スリット
９３０、９３１ Ｌ字板
９３２、９３３ アクチュエータ
９４ サンプルステージ
９４０、９４１、９４２ アクチュエータ
Ｓ Ｘ線集光システム
２ 反射部
２ａ 端部
２０ 反射面
２００ 反射基面
２１ 薄膜
２１１ Ａｌ層
２１２ Ｐｔ層
３ 把持部
４１ 水平側第１調節ステージ
４１０ 調節機構
４１１ 調節機構
４２ 水平側第２調節ステージ
４２０ 弾性ヒンジ
４２１ リニアアクチュエータ
５１ 垂直側第１調節ステージ
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５２ 垂直側第２調節ステージ
５２０ 弾性ヒンジ
５２１ リニアアクチュエータ
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８０ 凹面
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８２ 素子基材
９ Ｘ線集光装置
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９００ 水平基台部
９０１ 垂直基台部
９１Ａ 水平側調節ステージ
９１Ｂ 垂直側調節ステージ
９２ スライドステージ
９３ 開口制限スリット
９３０、９３１ Ｌ字板
９３２、９３３ アクチュエータ
９４ サンプルステージ
９４０、９４１、９４２ アクチュエータ
Ｓ Ｘ線集光システム
Claims (5)
- Ｘ線の反射面が形成された反射部と、
前記反射部の前記反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して一体的に設けられ、前記子午線方向に延びる把持部とよりなり、
前記反射面の子午線方向に沿ったミラー長が１０ｍｍ以下であり、
把持部が、前記反射部の端部から前記子午線方向に沿った一方向にのみ、または両方向に延設され、前記反射部よりも前記一方向、または前記両方向に延び出ており、
素子全体として略Ｌ字状、または略Ｔ字状に構成された一体品である、
反射型Ｘ線光学素子。 - 前記反射面が、前記子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の反射面である、請求項１記載の反射型Ｘ線光学素子。
- 請求項２に記載のＸ線光学素子を２つ設け、
第１のＸ線光学素子を、把持部から反射部が縦方向に延び、反射面がＸ線の入射する前後方向に対して横方向を向くように設置し、
第２のＸ線光学素子を、把持部を第１のＸ線光学素子の把持部と側方に並べ、反射部は第１のＸ線光学素子がある側の横方向に延び、反射面が縦方向を向くように設置し、
第１のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を水平方向に集光し、且つ第２のＸ線光学素子の前記反射面によりＸ線を鉛直方向に集光し、これによりＫＢミラー光学系を成す、反射型Ｘ線光学素子を用いたＸ線集光システム。 - Ｘ線の反射面が形成された反射部と、
前記反射部の前記反射面に沿った光軸方向である子午線方向に直交する方向の端部に連続して設けられ、前記子午線方向に延びる把持部とよりなる、
反射型Ｘ線光学素子の製造方法であって、
前記反射部および前記把持部を、一つの平凹シリンドリカルレンズから切り出して形成し、
前記平凹シリンドリカルレンズの凹レンズ面より前記反射面を形成してなる、
反射型Ｘ線光学素子の製造方法。 - 前記切り出し後の前記凹レンズ面に薄膜を成長させて、前記子午線方向に部分楕円形状をもつＸ線集光用の前記反射面を形成してなる、請求項４記載の反射型Ｘ線光学素子の製造方法。
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|---|---|---|---|---|
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| JP2006170911A (ja) | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Nikon Corp | 光学素子及びこれを用いた投影露光装置 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2001188098A (ja) | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Rigaku Corp | Ｘ線ビーム調整装置及びｘ線装置 |
| US20020064253A1 (en) | 2000-10-16 | 2002-05-30 | Advanced X-Ray Technology, Inc. | Apparatus and method for generating a high intensity X-ray beam with a selectable shape and wavelength |
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