JP2891737B2 - 反射装置及び転写装置 - Google Patents
反射装置及び転写装置Info
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- JP2891737B2 JP2891737B2 JP2037214A JP3721490A JP2891737B2 JP 2891737 B2 JP2891737 B2 JP 2891737B2 JP 2037214 A JP2037214 A JP 2037214A JP 3721490 A JP3721490 A JP 3721490A JP 2891737 B2 JP2891737 B2 JP 2891737B2
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- reflecting
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Lenses (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、半導体露光装置等で用いる指向性の高い光
を反射させるための反射装置およびこれを用いた転写装
置に関するものである。尚、ここでは、光、光束、ビー
ムとは可視光の他、赤外線、紫外線、Ｘ線等の電磁波を
含むものとする。
を反射させるための反射装置およびこれを用いた転写装
置に関するものである。尚、ここでは、光、光束、ビー
ムとは可視光の他、赤外線、紫外線、Ｘ線等の電磁波を
含むものとする。
［従来技術］ Ｘ線を用いた露光装置として、シンクロトロン放射光
を照明光源とした照明光学系が提案されている。このよ
うな照明光学系においては、露光に有害な影響をもたら
す短波長成分を小さくするためおよび露光領域の拡大の
ために反射ミラーが使用される。
を照明光源とした照明光学系が提案されている。このよ
うな照明光学系においては、露光に有害な影響をもたら
す短波長成分を小さくするためおよび露光領域の拡大の
ために反射ミラーが使用される。
指向性の高いシンクロトロン放射光をミラーに反射さ
せてからマスクに照射する露光装置では、一般に、マス
ク上の一点に照射される光は、ミラー上のわずかな領域
から反射された光である。従ってミラー上にきず等の欠
陥や塵埃、汚れ等が付着しているとこれらにより露光ビ
ームが反射されずに吸収されたり散乱し、このミラー反
射点に対応するマスク上の点では露光ビームが照射され
ずあるいは照射力が低下して露光不良を起す。すなわち
マスク上ではミラー上の正常部からの反射光と欠陥部か
らの反射光との間で照度差を生じ露光むらの原因とな
る。
せてからマスクに照射する露光装置では、一般に、マス
ク上の一点に照射される光は、ミラー上のわずかな領域
から反射された光である。従ってミラー上にきず等の欠
陥や塵埃、汚れ等が付着しているとこれらにより露光ビ
ームが反射されずに吸収されたり散乱し、このミラー反
射点に対応するマスク上の点では露光ビームが照射され
ずあるいは照射力が低下して露光不良を起す。すなわち
マスク上ではミラー上の正常部からの反射光と欠陥部か
らの反射光との間で照度差を生じ露光むらの原因とな
る。
従来の露光装置の構成を第１図に示す。１はSOR（シ
ンクロトロン放射）等のＸ線源、２は凸面ミラー、３は
マスク（フォトマスクまたはレチクル）、８はウエハで
ある。凸面ミラー２は反射装置フレーム15に固定されて
いる。Ｘ線源１からの露光ビームは凸面ミラー２上の点
4,5で反射し、マスク３上の点6,7を各々照射する。図示
したように、Ｘ線源１からの露光ビームは凸面ミラー２
によりビーム断面を拡大されてマスク３を照射する。光
源サイズが小さい場合は、ミラー上の反射点とマスク上
の照射点とは略１対１に対応する（ミラー上の点４とマ
スク上の点６およびミラー上の点５とマスク上の点７
等）。
ンクロトロン放射）等のＸ線源、２は凸面ミラー、３は
マスク（フォトマスクまたはレチクル）、８はウエハで
ある。凸面ミラー２は反射装置フレーム15に固定されて
いる。Ｘ線源１からの露光ビームは凸面ミラー２上の点
4,5で反射し、マスク３上の点6,7を各々照射する。図示
したように、Ｘ線源１からの露光ビームは凸面ミラー２
によりビーム断面を拡大されてマスク３を照射する。光
源サイズが小さい場合は、ミラー上の反射点とマスク上
の照射点とは略１対１に対応する（ミラー上の点４とマ
スク上の点６およびミラー上の点５とマスク上の点７
等）。
［発明が解決しようとしている課題］ 前記従来の露光装置構造においては、ミラー２上の点
４にきず等の欠陥があると、ビームはその部分で吸収さ
れたり散乱されて対応するマスク３上の点６にはビーム
が照射されずまたは照射力が弱いものとなる。また、ミ
ラー２上の点５が欠陥のない正常状態であれば対応する
マスク３上の点７には所定の正常照度の露光ビームが照
射される。従って、マスク３上の点６および７では照度
差を生じ露光むらが生じる。
４にきず等の欠陥があると、ビームはその部分で吸収さ
れたり散乱されて対応するマスク３上の点６にはビーム
が照射されずまたは照射力が弱いものとなる。また、ミ
ラー２上の点５が欠陥のない正常状態であれば対応する
マスク３上の点７には所定の正常照度の露光ビームが照
射される。従って、マスク３上の点６および７では照度
差を生じ露光むらが生じる。
第２図は、他の従来例であるミラースキャン方式によ
る照明光の拡大方法の例を示した図であるが、この方法
はＸ線ミラーとして平面ミラー17を用い、軸18を回転中
心として回転させることによって、照明光の反射角を変
化させることにより、必要な露光領域をスキャンしてい
くものである。
る照明光の拡大方法の例を示した図であるが、この方法
はＸ線ミラーとして平面ミラー17を用い、軸18を回転中
心として回転させることによって、照明光の反射角を変
化させることにより、必要な露光領域をスキャンしてい
くものである。
この例においても、ミラー２面上にきず等の欠陥があ
ればその部分の正反射率が低下する為に、マスク３上の
対応部に、ビームのスキャン方向に長いスリット状の暗
部ができることになり、同様に露光むらを生じる。
ればその部分の正反射率が低下する為に、マスク３上の
対応部に、ビームのスキャン方向に長いスリット状の暗
部ができることになり、同様に露光むらを生じる。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであ
って、反射ミラー上のきず、塵埃付着等の欠点に起因す
る露光むらを防止した反射装置及びそれを用いた露光装
置の提供を１つの目的とする。
って、反射ミラー上のきず、塵埃付着等の欠点に起因す
る露光むらを防止した反射装置及びそれを用いた露光装
置の提供を１つの目的とする。
本発明の他の目的は、後述する本発明の詳細な実施例
の説明の中で明らかになるであろう。
の説明の中で明らかになるであろう。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため本発明の反射装置は、所定の
方向から入射する光束を反射する反射面と、反射面を入
射光束の反射方向と反射位置が変化しないように移動さ
せる駆動手段とを備える。
方向から入射する光束を反射する反射面と、反射面を入
射光束の反射方向と反射位置が変化しないように移動さ
せる駆動手段とを備える。
また、本発明の転写装置は、転写すべきパターンを有
する基板を保持する第一保持手段と、基板のパターンが
転写されるべき感光体を保持する第二保持手段と、所定
の方向から入射する光束を反射して第一保持手段に保持
された基板上を照射し、そのパターンを第二保持手段に
保持された感光体上に転写する反射面と、入射光束に対
する反射方向と反射位置が変化しないように反射面を移
動させる駆動手段とを備える。
する基板を保持する第一保持手段と、基板のパターンが
転写されるべき感光体を保持する第二保持手段と、所定
の方向から入射する光束を反射して第一保持手段に保持
された基板上を照射し、そのパターンを第二保持手段に
保持された感光体上に転写する反射面と、入射光束に対
する反射方向と反射位置が変化しないように反射面を移
動させる駆動手段とを備える。
反射面は、例えば、シリンドリカル形状であり、駆動
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の軸を回転軸と
してシリンドリカル形状の円周方向に回転駆動し、ある
いはそのシリンドリカル形状の母線方向に直線駆動す
る。
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の軸を回転軸と
してシリンドリカル形状の円周方向に回転駆動し、ある
いはそのシリンドリカル形状の母線方向に直線駆動す
る。
入射光束としては、例えば、シンクロトロン放射光源
からのＸ線光束が用いられる。
からのＸ線光束が用いられる。
また、転写装置は通常、更に光束を閉ざして第一保持
手段に保持された基板上への露光を停止するためのシャ
ッタ手段と、駆動手段による反射面の移動の停止時には
シャッタ手段によって露光を行なわないようにさせるた
めの制御手段とを備える。
手段に保持された基板上への露光を停止するためのシャ
ッタ手段と、駆動手段による反射面の移動の停止時には
シャッタ手段によって露光を行なわないようにさせるた
めの制御手段とを備える。
［作用］ この構成において、反射面は、入射光束の反射方向と
反射位置が変化しないように移動されるので、反射面の
Ｘ線入射部の形状及び向きは一定していることになる。
したがって、反射面で反射した照明光は、反射方向及び
（空間的な）反射位置を変えることなく被照射領域を照
射する。この為、反射光の広がりおよび照明位置は変化
しない。そして、反射面の一部に傷、汚れなどの反射率
を低下させる部分があった場合は、この部分を反射した
光によって照明される被照明部分は他の正常な部分より
も強度が低下するが、この弱い被照明部分は、反射面が
移動していることにより被照明部分の一ヶ所に留まるこ
とはない。したがって、転写装置においては、反射面上
の傷、汚れ等の反射率低下部、あるいは反射率のむらを
一回の転写中において反射面の移動範囲内で分散させる
ことが可能であり、転写パターンに対する照明強度の均
一性を向上させることができる。
反射位置が変化しないように移動されるので、反射面の
Ｘ線入射部の形状及び向きは一定していることになる。
したがって、反射面で反射した照明光は、反射方向及び
（空間的な）反射位置を変えることなく被照射領域を照
射する。この為、反射光の広がりおよび照明位置は変化
しない。そして、反射面の一部に傷、汚れなどの反射率
を低下させる部分があった場合は、この部分を反射した
光によって照明される被照明部分は他の正常な部分より
も強度が低下するが、この弱い被照明部分は、反射面が
移動していることにより被照明部分の一ヶ所に留まるこ
とはない。したがって、転写装置においては、反射面上
の傷、汚れ等の反射率低下部、あるいは反射率のむらを
一回の転写中において反射面の移動範囲内で分散させる
ことが可能であり、転写パターンに対する照明強度の均
一性を向上させることができる。
［実施例］ 第３図を参照して本発明の一実施例を説明する。１は
SOR（シンクロトロン放射）等のＸ線源、1aはシャッタ
機構、２は凸面ミラー、３はマスク（フォトマスクまた
はレチクル）、3aはマスク３を保持するマスクチャッ
ク、８はウエハ、8aはウエハを保持するウエハチャック
である。凸面ミラー２は例えば矢印Ａで示すように反射
面内で回転可能、すなわち反射方向及び（空間的）反射
位置を変えることなく移動可能に構成されている。Ｘ線
源１からの露光ビームは凸面ミラー２上の点4,5で反射
し、マスク３上の点6,7を各々照射する。このときミラ
ー２上の点４の位置にきず等の欠陥があってもこのきず
の大きさよりも大きな移動量で移動させることによっ
て、きずによる照射不足がマスク３上の点６に集中する
のを防止し、照射むらを小さくすることが可能になる。
SOR（シンクロトロン放射）等のＸ線源、1aはシャッタ
機構、２は凸面ミラー、３はマスク（フォトマスクまた
はレチクル）、3aはマスク３を保持するマスクチャッ
ク、８はウエハ、8aはウエハを保持するウエハチャック
である。凸面ミラー２は例えば矢印Ａで示すように反射
面内で回転可能、すなわち反射方向及び（空間的）反射
位置を変えることなく移動可能に構成されている。Ｘ線
源１からの露光ビームは凸面ミラー２上の点4,5で反射
し、マスク３上の点6,7を各々照射する。このときミラ
ー２上の点４の位置にきず等の欠陥があってもこのきず
の大きさよりも大きな移動量で移動させることによっ
て、きずによる照射不足がマスク３上の点６に集中する
のを防止し、照射むらを小さくすることが可能になる。
第４図は、凸面ミラー２を含む反射装置部の具体的構
成を示す。
成を示す。
ミラー２は凸面を有するシリンドリカルミラーであ
り、露光に必要な照明領域を確保する為に、上述のよう
にシンクロトロンからのＸ線を拡大するものである。ミ
ラー２は、ホルダー10によって保持され、さらにホルダ
ー10は案内手段12を介してミラー駆動機構９に装着され
ている。
り、露光に必要な照明領域を確保する為に、上述のよう
にシンクロトロンからのＸ線を拡大するものである。ミ
ラー２は、ホルダー10によって保持され、さらにホルダ
ー10は案内手段12を介してミラー駆動機構９に装着され
ている。
11はミラー２のシリンドリカル面の中心軸を示してお
り、ミラー駆動機構９は軸11を中心に矢印Ａで示す方向
に、ミラー２をホルダー10と共にミラー２のシリンドリ
カル面の円周方向に回転揺動させることができる。この
とき案内手段12は、この回転方向の揺動をガイドする。
り、ミラー駆動機構９は軸11を中心に矢印Ａで示す方向
に、ミラー２をホルダー10と共にミラー２のシリンドリ
カル面の円周方向に回転揺動させることができる。この
とき案内手段12は、この回転方向の揺動をガイドする。
15は駆動機構９のアクチュエータ、16はアクチュエー
タ15を駆動するためのドライバ、17はドライバ16に指令
信号を送ってアクチュエータ15を駆動させるCPUであ
る。CPU17はまた、第３図のシャッタ機構1aに指令信号
を送って、シャッタ機構1aの開閉制御即ち露光制御も行
なう。
タ15を駆動するためのドライバ、17はドライバ16に指令
信号を送ってアクチュエータ15を駆動させるCPUであ
る。CPU17はまた、第３図のシャッタ機構1aに指令信号
を送って、シャッタ機構1aの開閉制御即ち露光制御も行
なう。
駆動機構９によるミラー２の揺動は、シンクロトロン
を利用したＸ線露光装置の照明系として従来提案されて
いるいわゆる「ミラースキャン方式による照明光の拡
大」方法における動作とは異なる。すなわち、ミラー駆
動機構９では、シリンドリカルミラー２の曲率中心軸
と、駆動機構９の回転駆動の回転中心軸が一致している
ために、駆動機構９がミラー２を駆動しても反射面のＸ
線入射部の形状及び向きは一定していることになる。し
たがって、ミラー２で反射した照明光は、反射方向及び
（空間的な）反射位置を変えることなくマスク３上の露
光領域を照射する。この為、反射光の広がりおよび照明
位置は変化しない。そして、ミラー２の反射面の一部に
傷、汚れなどの反射率を低下させる部分があった場合
は、この部分を反射した光によって照明される被照明部
分は他の正常な部分よりも強度が低下するが、この弱い
被照明部分は、反射面が移動していることにより露光領
域の一ヶ所に留まることはない。すなわち、一回の露光
中に、ミラー駆動機構９によってミラー２の反射面を、
Ｘ線入射部の形状及び向きが変化しない様に移動させる
ようにしているため、反射面上の傷、汚れ等の反射率低
下部、あるいは反射率のむらを移動範囲内で分散させる
ことが可能であり、露光領域内での照明強度の均一性を
向上させることができる。
を利用したＸ線露光装置の照明系として従来提案されて
いるいわゆる「ミラースキャン方式による照明光の拡
大」方法における動作とは異なる。すなわち、ミラー駆
動機構９では、シリンドリカルミラー２の曲率中心軸
と、駆動機構９の回転駆動の回転中心軸が一致している
ために、駆動機構９がミラー２を駆動しても反射面のＸ
線入射部の形状及び向きは一定していることになる。し
たがって、ミラー２で反射した照明光は、反射方向及び
（空間的な）反射位置を変えることなくマスク３上の露
光領域を照射する。この為、反射光の広がりおよび照明
位置は変化しない。そして、ミラー２の反射面の一部に
傷、汚れなどの反射率を低下させる部分があった場合
は、この部分を反射した光によって照明される被照明部
分は他の正常な部分よりも強度が低下するが、この弱い
被照明部分は、反射面が移動していることにより露光領
域の一ヶ所に留まることはない。すなわち、一回の露光
中に、ミラー駆動機構９によってミラー２の反射面を、
Ｘ線入射部の形状及び向きが変化しない様に移動させる
ようにしているため、反射面上の傷、汚れ等の反射率低
下部、あるいは反射率のむらを移動範囲内で分散させる
ことが可能であり、露光領域内での照明強度の均一性を
向上させることができる。
第５図は反射装置部の他の例を示す。この場合、凸面
ミラー２はホルダー14を介してミラー駆動機構13に装着
される。この実施例では、ミラー駆動機構13はシリンド
リカルミラー２の軸（あるいは母線）方向に沿って矢印
Ｃ方向にミラーを直線的に往復移動させる。このように
ミラーを直進駆動させても反射方向を変えることなく反
射面を移動させることができる。その他の構成、作用効
果は第3,4図に示したものと同様である。
ミラー２はホルダー14を介してミラー駆動機構13に装着
される。この実施例では、ミラー駆動機構13はシリンド
リカルミラー２の軸（あるいは母線）方向に沿って矢印
Ｃ方向にミラーを直線的に往復移動させる。このように
ミラーを直進駆動させても反射方向を変えることなく反
射面を移動させることができる。その他の構成、作用効
果は第3,4図に示したものと同様である。
また、図示しないが、第４図の実施例と、第５図の実
施例とを複合させて構成し、矢印A,C両方向に同時に移
動させるようにしても同様の効果を得ることができる。
施例とを複合させて構成し、矢印A,C両方向に同時に移
動させるようにしても同様の効果を得ることができる。
ミラーの反射面の傷等による反射率むらの形状によっ
ては、反射面の移動方向に最適な方向が存在する場合が
ある。第６図はミラー２の反射面を第３図の矢印Ｂ方向
から見た図であり、斜線部19は、反射率が低下している
部位を示す。この部位の矢印Ｃ方向の幅はｌである。こ
のように反射率低下部の形状がわかっている場合、矢印
Ｃの方向に移動距離がｌ以上となるように移動させれば
よい。これにより、ミラー上の反射率低下部から反射さ
れる弱い照明光によって常に照明される部分が無くな
り、露光むらをより小さくすることが可能である。この
場合、発生した反射率低下部は矢印Ｃ方向に短かいの
で、こちら方向に移動させた方が同一移動量での露光む
らの分散効果が高いのである。
ては、反射面の移動方向に最適な方向が存在する場合が
ある。第６図はミラー２の反射面を第３図の矢印Ｂ方向
から見た図であり、斜線部19は、反射率が低下している
部位を示す。この部位の矢印Ｃ方向の幅はｌである。こ
のように反射率低下部の形状がわかっている場合、矢印
Ｃの方向に移動距離がｌ以上となるように移動させれば
よい。これにより、ミラー上の反射率低下部から反射さ
れる弱い照明光によって常に照明される部分が無くな
り、露光むらをより小さくすることが可能である。この
場合、発生した反射率低下部は矢印Ｃ方向に短かいの
で、こちら方向に移動させた方が同一移動量での露光む
らの分散効果が高いのである。
したがって、発生した傷等の形状に応じて、矢印A,C
両方向のうち分散効果の高い方向に移動させるように駆
動方向を選択可能にしても良い。また、発生した傷等の
大きさに応じて移動距離が傷等の大きさを越えるように
駆動機構の駆動量を調整可能にしても良い。
両方向のうち分散効果の高い方向に移動させるように駆
動方向を選択可能にしても良い。また、発生した傷等の
大きさに応じて移動距離が傷等の大きさを越えるように
駆動機構の駆動量を調整可能にしても良い。
また次に示すように、ミラー駆動機構の動作と露光の
タイミングを合わせることにより、さらに効果を高める
ことができる。
タイミングを合わせることにより、さらに効果を高める
ことができる。
第７図は第４図のミラー駆動機構９あるいは、第５図
のミラー駆動機構13の動作の様子と露光のタイミングを
図示したものである。ミラー駆動機構は、照明光の強度
低下部が露光領域内の一個所に留まらないように、露光
中は常にミラーを動かしていることが望ましい。このよ
うな露光は、CPU17によって露光装置のシャッタ機構1a
と、ミラー駆動機構とのタイミングをとることによって
可能である。すなわち、第７図に示すようにミラーを振
動させる際の起動時にはシャッタ機構1aを閉じて露光を
行なわず、一方向にミラー２が移動中にシャッタ機構1a
を開いて露光を行ない、ミラー２の動きが反転する前に
シャッタ機構1aを閉じて露光を中止し、ミラー２が先程
と逆方向に移動中に再びシャッタ機構1aを開いて露光を
行ない、ミラー２の動きが再度逆転する前にシャッタ機
構1aを閉じて露光を中止し、以下これを繰り返して連続
露光を行なう。
のミラー駆動機構13の動作の様子と露光のタイミングを
図示したものである。ミラー駆動機構は、照明光の強度
低下部が露光領域内の一個所に留まらないように、露光
中は常にミラーを動かしていることが望ましい。このよ
うな露光は、CPU17によって露光装置のシャッタ機構1a
と、ミラー駆動機構とのタイミングをとることによって
可能である。すなわち、第７図に示すようにミラーを振
動させる際の起動時にはシャッタ機構1aを閉じて露光を
行なわず、一方向にミラー２が移動中にシャッタ機構1a
を開いて露光を行ない、ミラー２の動きが反転する前に
シャッタ機構1aを閉じて露光を中止し、ミラー２が先程
と逆方向に移動中に再びシャッタ機構1aを開いて露光を
行ない、ミラー２の動きが再度逆転する前にシャッタ機
構1aを閉じて露光を中止し、以下これを繰り返して連続
露光を行なう。
なお、以上の実施例において、反射ミラー２がシリン
ドリカルミラーの場合について説明したが、例えば第８
図のような、非シリンドリカルミラーを用いることも可
能である。第８図の非シリンドリカルミラーの反射面20
は、矢印Ｄ方向に垂直な面内での断面の形状及び高さが
矢印Ｄ方向に垂直なすべての面で同一となっている。し
たがって、矢印Ｄ方向に移動させることによって、同様
の効果を得ることができる。また、トロイダルミラー、
平面ミラー、球面ミラー等の場合においても、その反射
面のＸ線入射部の形状及び向きを変えない方向に移動さ
せることによって、シリンドリカルミラーの場合と同様
の効果を得ることができる。
ドリカルミラーの場合について説明したが、例えば第８
図のような、非シリンドリカルミラーを用いることも可
能である。第８図の非シリンドリカルミラーの反射面20
は、矢印Ｄ方向に垂直な面内での断面の形状及び高さが
矢印Ｄ方向に垂直なすべての面で同一となっている。し
たがって、矢印Ｄ方向に移動させることによって、同様
の効果を得ることができる。また、トロイダルミラー、
平面ミラー、球面ミラー等の場合においても、その反射
面のＸ線入射部の形状及び向きを変えない方向に移動さ
せることによって、シリンドリカルミラーの場合と同様
の効果を得ることができる。
また、上述においてはＸ線用の反射装置及び転写装置
について述べたが、本発明は可視光、紫外光等の他の電
磁波用のものとしても実施できることは言うまでもな
い。
について述べたが、本発明は可視光、紫外光等の他の電
磁波用のものとしても実施できることは言うまでもな
い。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、反射方向及び反
射位置を変えることなく反射面を移動可能に構成するよ
うにしたため、反射面上の欠陥等に基づく反射光の照度
むらを軽減することが可能である。
射位置を変えることなく反射面を移動可能に構成するよ
うにしたため、反射面上の欠陥等に基づく反射光の照度
むらを軽減することが可能である。
第１図および第２図は、それぞれ従来例の説明図、 第３図は、本発明の一実施例に係る転写装置の構成概略
図、 第４図は、第３図の装置の反射ミラー部の構成概略図、 第５図は、本発明の別の実施例に係る転写装置の反射ミ
ラー部の構成概略図、 第６図は、第４図または第５図の装置における反射ミラ
ーの反射面の説明図、 第７図は、第４図または第５図の装置におけるミラー駆
動動作と露光タイミングの関係図、そして 第８図は、本発明のさらに他の実施例に係る非シリンド
リカルミラーの構成図である。 1:X線源、1a:シャッタ機構、2:ミラー、3:マスク、8:ウ
エハ、9,13:ミラー駆動機構。
図、 第４図は、第３図の装置の反射ミラー部の構成概略図、 第５図は、本発明の別の実施例に係る転写装置の反射ミ
ラー部の構成概略図、 第６図は、第４図または第５図の装置における反射ミラ
ーの反射面の説明図、 第７図は、第４図または第５図の装置におけるミラー駆
動動作と露光タイミングの関係図、そして 第８図は、本発明のさらに他の実施例に係る非シリンド
リカルミラーの構成図である。 1:X線源、1a:シャッタ機構、2:ミラー、3:マスク、8:ウ
エハ、9,13:ミラー駆動機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G21K 1/00 - 7/00 G03B 27/32 - 27/70 G03F 7/20 - 7/24 H01L 21/30
Claims (9)
- 【請求項１】所定の方向から入射する光束を反射する反
射面と、反射面を入射光束の反射方向と反射位置が変化
しないように移動させる駆動手段とを具備することを特
徴とする反射装置。 - 【請求項２】反射面はシリンドリカル形状であり、駆動
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の軸を回転軸と
してシリンドリカル形状の円周方向に回転駆動する、請
求項１記載の反射装置。 - 【請求項３】反射面はシリンドリカル形状であり、駆動
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の母線方向に直
線駆動する、請求項１記載の反射装置。 - 【請求項４】反射面はＸ線光束を反射する、請求項１記
載の反射装置。 - 【請求項５】転写すべきパターンを有する基板を保持す
る第一保持手段と、基板のパターンが転写されるべき感
光体を保持する第二保持手段と、所定の方向から入射す
る光束を反射して第一保持手段に保持された基板上を照
射し、そのパターンを第二保持手段に保持された感光体
上に転写する反射面と、入射光束に対する反射方向と反
射位置が変化しないように反射面を移動させる駆動手段
とを具備することを特徴とする転写装置。 - 【請求項６】反射面はシリンドリカル形状であり、駆動
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の軸を回転軸と
してシリンドリカル形状の円周方向に回転駆動する、請
求項５記載の転射装置。 - 【請求項７】反射面はシリンドリカル形状であり、駆動
手段は反射面をそのシリンドリカル形状の母線方向に直
線駆動する、請求項５記載の転射装置。 - 【請求項８】反射面はシンクロトロン放射光源からのＸ
線光束を反射する、請求項５記載の転写装置。 - 【請求項９】更に光束を閉ざして第一保持手段に保持さ
れた基板上への露光を停止するためのシャッタ手段と、
駆動手段による反射面の移動の停止時にはシャッタ手段
によって露光を行なわないようにさせるための制御手段
とを有する、請求項５記載の転写装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2037214A JP2891737B2 (ja) | 1989-03-09 | 1990-02-20 | 反射装置及び転写装置 |
| US07/489,194 US5150151A (en) | 1989-03-09 | 1990-03-06 | Reflecting device and pattern transfer apparatus using the same |
| EP90302441A EP0387038B1 (en) | 1989-03-09 | 1990-03-07 | Reflecting device and pattern transfer apparatus using the same |
| DE69032861T DE69032861T2 (de) | 1989-03-09 | 1990-03-07 | Reflektoreinrichtung und diese Einrichtung verwendendes Musterübertragungsgerät |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5518289 | 1989-03-09 | ||
| JP1-55182 | 1989-03-09 | ||
| JP2037214A JP2891737B2 (ja) | 1989-03-09 | 1990-02-20 | 反射装置及び転写装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341400A JPH0341400A (ja) | 1991-02-21 |
| JP2891737B2 true JP2891737B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=26376331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2037214A Expired - Fee Related JP2891737B2 (ja) | 1989-03-09 | 1990-02-20 | 反射装置及び転写装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2891737B2 (ja) |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP2037214A patent/JP2891737B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0341400A (ja) | 1991-02-21 |
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