JP5745784B2 - 発光ダイオード - Google Patents

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Description

本発明は、基板上に発光素子を実装し、その上を樹脂体で封止して形成される発光ダイオードに関するものである。
従来、発光ダイオードは、基板上に所定パターンによる電極を形成し、この電極に発光素子をダイボンドあるいはワイヤボンドによって実装した後、透光性を有した樹脂体によって封止して形成される(特許文献1,2)。
特許文献1に記載の発光ダイオードは、一対の電極パターンが形成された基板と、前記電極パターン上にハンダバンプを介してフリップチップ実装される発光素子と、この発光素子を封止する樹脂体とを有して構成されている。前記発光素子は、裏面側に反射層及び一対の素子電極を備え、この一対の素子電極が対応する前記一対の電極パターンにハンダバンプを介して載置された後、リフロー処理によって導通接続されている。
また、特許文献2には、一対の素子電極のうち、一方の素子電極が基板の中央部に設けられ、他方の素子電極が絶縁領域を隔てた基板の外周部に設けられる等、実装する基板の電極パターンに対応するような位置や形状を備えた発光素子が示されている。
前記発光素子は、PN接合層から直接樹脂体を通して外部に発せられる光、あるいは、基板の表面で反射され、樹脂体を通して外部に発せられる光とによって所定の明るさを得ている。
特開平11−168235号公報 実開平4−103666号公報
上記特許文献1に記載の発光ダイオードは、発光素子の裏面に反射層を設け、この反射層を下にして基板上に載置することで、基板上での反射効率のアップを図っている。
しかしながら、前記発光素子は、裏面側に設けられている素子電極と基板の電極パターンとがハンダバンプを介して実装されているため、このハンダバンプの厚み分だけ基板から浮いた状態となっている。このため、発光素子の反射層と基板面との間に隙間が生じることとなり、反射率が低下する場合がある。
また、前記基板上で反射率の高いのは、金や銅などで形成されている電極パターンの表面であるが、この電極パターンは基板上に複数形成されるため、基板が露出した樹脂面を挟んで形成する必要がある。前記樹脂面は電極パターン面に比べて反射率が低いため、全体の反射率の低下や反射ムラが生じるといった問題がある。
さらに、前記電極パターンは、導電性のよい金や銅などが一般に用いられるが、導電性を有し、反射率も高い銀などは高電圧をかけるとマイグレーションが発生するおそれがある。このため、配線密度が高く、微細加工を有する電極パターンには用いることができなかった。
そこで、本発明の目的は、発光素子が実装される基板の上面全体を均一な反射面にすると共に、発光素子から発せられる光の基板面での反射効率を高めることのできる発光ダイオードを提供することである。
上記課題を解決するために、本発明の発光ダイオードは、基板と、該基板の上面を被覆する導電部材で形成された表面反射層と、該表面反射層の一部が取り除かれて前記基板の上面の一部が露出する素子実装面と、一対の素子電極及びこの一対の素子電極を除く下面全体に反射膜が設けられ、前記素子実装面に載置される発光素子と、該発光素子を前記基板上に封止する透光性を有する樹脂体とを備え、前記発光素子の平面形状が素子実装面より大きく形成されており、前記発光素子の下面の外周部が素子実装面外周の前記表面反射層に密着載置され、前記発光素子の下面によって前記素子実装面を覆うと共に、前記一対の素子電極が基板に設けられたスルーホールを介して基板の裏面側に形成された一対の基板電極にそれぞれ電気的に接続されている
ことを特徴とする。
また、前記発光素子の下面には中央部と外周部にそれぞれ素子電極が設けられ、中央部の素子電極が前記素子実装面に形成された基板電極に電気的に接続され、外周部の素子電極が導電性を有する前記表面反射層に電気的に接続されることを特徴とする。
本発明に係る発光ダイオードによれば、実装配置された発光素子を中心とした基板の表面全体が均一な反射面となっていると共に、前記発光素子の裏面に形成されている反射膜が基板の表面に形成されている表面反射層上に密着されるので、発光素子から発せられる光を効率よく反射させて全体の輝度アップを図ることができる。
また、前記表面反射層を一方の基板電極の一部として利用する場合にあっては、この表面反射層に反射率の高い金属部材を用いて形成することができるため、高反射作用を有した高輝度の発光ダイオードを得ることができる。
第1実施形態の発光ダイオードの斜視図である。 第1実施形態の発光ダイオードの断面図である。 第1実施形態の発光素子を裏面側からみた平面図(a)及びA−A断面図(b)である。 反射膜の外周部に厚みを有した発光素子で構成された発光ダイオードの断面図である。 第1実施形態の発光ダイオードの反射作用を示す作用図である。 第2実施形態の発光ダイオードの斜視図である。 第2実施形態の発光ダイオードの断面図である。 第2実施形態の発光ダイオードにおける第1の発光素子を裏面側からみた平面図(a)及びB−B断面図である。 第2実施形態の発光ダイオードにおける第2の発光素子を裏面側からみた平面図である。 第3実施形態の発光ダイオードの斜視図である。 第3実施形態の発光ダイオードの断面図である。
以下、添付図面に基づいて本発明に係る発光ダイオードの実施形態を詳細に説明する。図1及び図2に示すように、本発明の第1実施形態の発光ダイオード11は、表面側に表面反射層13、表面から裏面側にかけて一対の基板電極14a,14bが形成された基板12と、該基板12の表面に実装され、前記一対の基板電極14a,14bと電気的に接続される発光素子15と、該発光素子15を表面反射層13の上に封止する透光性を有した透明又は半透明の樹脂体16とによって構成される。
前記基板12は、一般的なエポキシ樹脂やBTレジン等の絶縁材料で構成され、上面に表面反射層13が被覆形成される。また、前記表面反射層13には、表面の略中央の一部が矩形状あるいは円形状に取り除かれ、基板12の一部が露出する素子実装面17が設けられている。この素子実装面17は、発光素子15の平面形状よりも一回り小さく形成され、基板12の表面から裏面にかけて一対のスルーホール18a,18bが設けられる。このスルーホール18a,18bは、図3(a)に示すように、実装される発光素子15の裏面側に有する一対の素子電極19a,19bの位置に合わせて形成され、上端面が前記素子電極19a,19bとハンダ接合される電極パッド23面となっている。前記スルーホール18a,18bは、基板12の裏面にパターン形成されている一対の基板電極14a,14bにそれぞれ導通接続される。
前記発光素子15は、平面形状が前記素子実装面17より大きく形成されており、図3(b)に示すように、四角形状のベース24上にn層25及びp層26からなるPN接合層21を有している。前記n層25には素子電極19a、p層26には素子電極19bが設けられると共に、前記p層26上にはSiO2等による透明で絶縁性を有した透明絶縁膜27を介して反射膜20が被膜形成される。反射膜20は、前記透明絶縁膜27上に少なくとも素子電極19aと導通しないように離間させてAlやAgの蒸着膜で被覆されている。なお、前記反射膜20は、絶縁性を有した白色系に樹脂材であっても反射効果を得ることができる。前記素子電極19a,19bは、一方がアノード、他方がカソードであり、前述したように、前記素子実装面17上の一対のスルーホール18a,18bと対応している。この発光素子15は、前記PN接合層21から最も強い光を発する。このPN接合層21から発せられる光による照射範囲は、発光素子15を中心とした基板12の表面全面に及ぶ。
図2に示したように、前記発光素子15は、一対のスルーホール18a,18bの電極パッド23面上にハンダバンプ22を介して対応する素子電極19a,19bが載置される。このとき、発光素子15の反射膜20の外周部20aは、素子実装面17の外周部を覆うようにして表面反射層13上に密着配置される。
前記表面反射層13が一定の厚みを有することで、前記素子実装面17との間に段差が生じ、この段差内で素子電極19a,19bとスルーホール18a,18bとをハンダバンプ22によって導通接続されると共に、発光素子15を基板12上に固定させることができる。このため、前記発光素子15の反射膜20と表面反射層13との間に隙間が生じなくなり、光漏れによる反射率の低下を防止することができる。
また、図3(b),図4に示したように、前記反射膜20の外周部20aを中央部よりも厚く形成することによって、ハンダバンプ22を含む接合高さ幅を十分に確保することができる。これによって、表面反射層13からの浮き上がりや剥離等が生じなくなり、より確実に反射膜20を表面反射層13に密着載置させることができる。
図1及び図2に示したように、前記発光素子15が実装されることによって、スルーホール18a,18bが設けられている素子実装面17が完全に隠れ、この発光素子15を中心とした周囲全体が一枚の均一な表面反射層13となる。この表面反射層13は、光反射率の高い板状あるいは膜状の金属部材や鏡面加工した部材が用いられる。本実施形態では、表面反射層が電極となっていないため導電性は必要ないが、金メッキ、銀メッキ、銅メッキ等の金属部材を用いることで、高い反射効果が得られる。特に、銀メッキは反射率の点で最も優れている。
図5に示すように、前記発光素子15のPN接合層21から下方に向けて発せられた光は、素子実装面17上を覆う発光素子15の反射膜20で反射されると共に、反射膜20の外周部と密着された表面反射層13上でさらに上方に向けて反射させることができる。また、前記PN接合層21から水平あるいは上方に向けて発せられる光は、そのまま樹脂体16を通して外部に放射させることができるので、前記表面反射層13で反射された光と合わせて全体の発光輝度を大幅に向上させることができる。
図6及び図7は本発明の第2実施形態の発光ダイオード31を示したものである。この発光ダイオード31は、図8(a)に示すように、素子電極39a,39bが裏面の中央部と外周部に有する構造の発光素子35に適用させて形成されたものである。この発光素子35は、裏面の中央部に第1素子電極39aが設けられ、四隅の角部に共通の第2素子電極39bを有している。
前記発光素子35は、平面形状が前記素子実装面37より大きく形成されており、図8(b)に示すように、四角形状のベース44上にn層45及びp層46からなるPN接合層41を有し、n層45から素子電極39a、p層46から素子電極39bが設けられると共に、前記p層46上にはSiO2等による透明で絶縁性を有した透明絶縁膜47を介して反射膜40が被膜形成される。反射膜40は、前記透明絶縁膜27上に少なくとも素子電極39aと導通しないように離間させてAlやAgの蒸着膜で被覆されている。また、反射膜40に絶縁性を有した白色系の樹脂材を用いてもよい。
上記第1実施形態の発光ダイオード11と同様に、発光素子35が載置される表面反射層33の略中央部に基板32を露出させた矩形状の素子実装面37が設けられ、この素子実装面37に基板32の裏面側に通じる第1スルーホール38aが形成される。この第1スルーホール38aの上端には、電極パッド23が設けられ、この電極パッド23上にハンダバンプ22を介して発光素子15の第1素子電極39aが導通接続され、基板32の裏面に一端に向けて延びる外部電極34aに導通接続される。前記発光素子35は、前記素子実装面37を覆うように、反射膜40が形成されている裏面の平面形状が前記素子実装面37より大きく形成されている。
前記表面反射層33は、金メッキ、銅メッキあるいは銀メッキからなる導電部材によって形成される。この表面反射層33は、前記外部電極34aが延びる方向とは反対側の表面から第2スルーホール38bを介して基板32の裏面側に形成されている第2外部電極34bに電気的に接続される。
図6及び図7に示したように、発光素子35は、素子実装面37を覆うように表面反射層33上に載置され、第1素子電極39aと第1スルーホール38aの上面とをハンダバンプによって導通接続される。一方、第2素子電極39bは、素子実装面37の外周に沿って表面反射層33上に載置することで、第2スルーホール38bを経て第2外部電極34bとの電気的接続が図られる。
第1実施形態と同様に、前記表面反射層33の厚みや発光素子35の反射膜40の外周部に厚みを設けることで、ハンダバンプによって第1素子電極39aと第2スルーホール38aを接続させるための高さスペースを確保することができる。これによって、発光素子35が基板32上に載置された状態で、第1素子電極39bと導電部材で形成されている表面反射層33との電気的接続が図られる。
この第2実施形態の発光ダイオード31では、表面反射層33が基板電極の一部となるため、導電部材で形成される。このような導電部材として、導電性が良好な金メッキや銅メッキの他に、反射率の優れた銀メッキが使用される。この銀メッキについては、高電圧をかけることによってマイグレーションが起きやすいが、他方の第2素子電極39aとは素子実装面37を隔てて分離しているため、ショート等を起こすおそれがない。
上記発光素子35の他に、図9に示すような素子電極構造を有する発光素子35aも使用することができる。この発光素子35aは、裏面の中央部が第1素子電極39aで、外周面に沿って連続する部分が第2素子電極39bとなっている。前記発光素子35,35aは、第1及び第2の素子電極39a,39bを除いた裏面全体に反射膜40が形成される。なお、前記発光素子35aの構造は、上記図8(b)で示した構造と同様であるので説明は省略する。
図10及び図11は、基板52上に表面反射層53と、外部電極54a,54bの一部が形成された第3実施形態の発光ダイオード51を示したものである。前記表面反射層53の中央部には第1及び第2のスルーホール58a,58bが形成され、基板52の両サイドの裏面側から側面を経て上面に回り込む外部電極54a,54bにそれぞれ導通接続されている。発光素子55は第1実施形態と同様に裏面側に反射膜60と、この反射膜60から前記第1及び第2のスルーホール58a,58bにハンダバンプ22を介して導通接続される第1及び第2の素子電極59a,59bを有して形成されている。
前記基板52には、表面反射層53と一対の外部電極54a,54bとを隔てるため、基板52の樹脂面を露出させた隔離溝63が形成される。樹脂体56は、前記隔離溝63を含む表面反射層53の外周部に沿って成形される。このように、隔離溝63を含んだ平面領域上に樹脂体56を成形することで、表面反射層53を外部電極54a,54bから電気的に絶縁分離できるので、表面反射層53を反射率の高い金、銀、銅などの導電性メッキによって形成することが可能となる。また、銀メッキを使用した場合であっても、前記隔離溝63によって、銀特有のマイグレーションが発生した場合でも、外部電極54a,54bとショートするようなおそれがない。さらに、前記隔離溝63によって露出した基板52の表面に樹脂体56の外周部の一部が接合されることで、発光素子55からの発光漏れが生じないように完全に密封封止することができる。
以上、説明したように、本発明に係る発光ダイオードによれば、樹脂体で封止される基板の表面全体が発光素子を中心とした一枚の連続した表面反射層によって形成することができる。これによって、発光素子から発せられる光の反射効率がアップすると共に、発光ムラが生じなくなる。また、発光素子を駆動させるために設けられる一対の基板電極と前記表面反射層とを分離できる他、前記表面反射層を一方の基板電極の一部として利用するなどの形態をとることが可能であり、いずれの場合であっても、表面反射層に反射率の高い金属部材を用いて形成することができるため、高反射作用を有した高輝度の発光ダイオードを得ることができる。
11 発光ダイオード
12 基板
13 表面反射層
14a,14b 基板電極
15 発光素子
16 樹脂体
17 素子実装面
18a,18b スルーホール
19a,19b 素子電極
20 反射膜
20a 外周部
21 PN接合層
22 ハンダバンプ
23 電極パッド
24 ベース
25 n層
26 p層
27 透明絶縁膜
31 発光ダイオード
32 基板
33 表面反射層
34a,34b 基板電極
35 発光素子
36 樹脂体
37 素子実装面
38a,38b スルーホール
39a,39b 素子電極
40 反射膜
41 PN接合層
44 ベース
45 n層
46 p層
47 透明絶縁膜

Claims (4)

  1. 基板と、該基板の上面を被覆する導電部材で形成された表面反射層と、
    該表面反射層の一部が取り除かれて前記基板の上面の一部が露出する素子実装面と、
    一対の素子電極及びこの一対の素子電極を除く下面全体に反射膜が設けられ、前記素子実装面に載置される発光素子と、
    該発光素子を前記基板上に封止する透光性を有する樹脂体とを備え、
    前記発光素子の平面形状が素子実装面より大きく形成されており、前記発光素子の下面の外周部が素子実装面外周の前記表面反射層に密着載置され、前記発光素子の下面によって前記素子実装面を覆うと共に、前記一対の素子電極が基板に設けられたスルーホールを介して基板の裏面側に形成された一対の基板電極にそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする発光ダイオード。
  2. 前記反射膜は、前記表面反射層の上面に載置される外周部分が他の部分より厚く形成されている請求項1に記載の発光ダイオード。
  3. 前記表面反射層は銀メッキによって形成される請求項1に記載の発光ダイオード。
  4. 前記樹脂体は、前記表面反射層で被覆されている領域を囲うようにして前記基板上に形成される請求項1に記載の発光ダイオード。
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