JP5717773B2 - 滅菌庫及び滅菌庫を備えたアイソレータシステム - Google Patents

Description

本発明は、滅菌庫及び滅菌庫を備えたアイソレータシステムに関する。

インキュベータと連結されて、同インキュベータで培養される細胞に対し所定の前処理等を無菌的に施すために外気と隔離されたアイソレータが知られている。また、このアイソレータと連結されて、同アイソレータに細胞や培養に必要な物品等を搬入する前にこれらを滅菌するために外気と隔離された滅菌庫が知られている（例えば特許文献１参照）。

この滅菌庫は、滅菌ガス発生装置等の滅菌手段を備えている。例えば、作業者は、先ず、アイソレータ及び滅菌庫のチャンバーどうしを隔てる扉を閉じた状態で、滅菌庫のチャンバー内に細胞や物品等を搬入し、同チャンバー内でこれらを滅菌する。次に、作業者は、前述した扉を開けて、無菌状態に保持されたアイソレータのチャンバー内に滅菌庫のチャンバー内で滅菌された細胞や物品等を搬入する。

上記の無菌的に施す作業とは無菌環境で行う作業であり、無菌環境とは作業に必要な物質以外の混入を回避するために限りなく無塵、無菌に近い環境をいう。また、上記滅菌とは、無菌環境を実現するための処理を指す。

また、滅菌は、1）前処理工程、2）ガス曝露工程、3）置換工程からなり、それぞれ、
1）前処理工程は、滅菌対象空間のリークテストを含む、滅菌ガスを供給するまでの準備工程、
2）曝露工程は、滅菌ガスを対象空間へ供給する工程
3）置換工程は、滅菌対象空間の滅菌ガスを無害化して排気し、外気と置き換える工程
である。

特開２００２−３０１１３８号公報

例えば、インキュベータで培養された細胞をアイソレータを経て滅菌庫から搬出した後、同アイソレータを再度無菌状態とすることがある。この場合、前述した特許文献１に開示されたアイソレータ及び滅菌庫では、それぞれのチャンバーどうしを隔てる扉を開けた状態で、滅菌庫の外装滅菌用の滅菌ガス発生装置等から発生する滅菌ガスをアイソレータのチャンバーに導くことによって、同チャンバーを滅菌していた。これは滅菌の効率が悪く、滅菌処理にも時間がかかるという問題があった。

一方、アイソレータにも滅菌手段を設ければ、そのチャンバー内の滅菌の効率は向上するが、これではアイソレータ及び滅菌庫の双方とも滅菌手段を個別に備えることになるため、その分だけ設備コストが嵩むという問題があった。

前記課題を解決するための発明は、作業者が内部で作業を行う操作用チャンバーと、
作業者が内部で作業を行う副操作用チャンバーと、前記操作用チャンバーと前記副操作用チャンバーとの間に設けられ、前記操作用チャンバーと接続するための接続部を有する滅菌庫と、を備えたアイソレータシステムであって、前記滅菌庫は、前記接続部を介して前記操作用チャンバーと連通可能である滅菌用チャンバーと、前記滅菌用チャンバーと前記副操作用チャンバーとを連通可能である副接続部と、前記滅菌用チャンバーの上部に設けられる滅菌ガス発生装置と、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記滅菌用チャンバーへ供給するための第１ガス供給回路と、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記操作用チャンバーへ供給するための第２ガス供給回路と、外気を前記滅菌用チャンバーに供給するための第３ガス供給回路と、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記副操作用チャンバーに供給するための第４ガス供給回路と、を備え、前記滅菌ガス発生装置は、前記滅菌用チャンバーの上部に設けられた容器から前記滅菌ガスの原料がポンプによって供給され、前記滅菌用チャンバーは、被滅菌物を外部から出し入れするための第１の扉と、前記操作用チャンバーと連通するための前記接続部に設けた第２の扉と、前記副操作用チャンバーと連通するための前記副接続部に設けた第３の扉と、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを導入するための滅菌ガス導入口と、外気を導入するためのガス導入口と、前記ガス導入口に設けられ微粒子を捕集する第１フィルタと、を有し、前記第１ガス供給回路は、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを、微粒子を捕集するフィルタを通過させずに、前記滅菌ガス導入口から前記滅菌用チャンバーに供給するように構成され、前記第２ガス供給回路は、前記操作用チャンバーに前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを供給するための出口ポートをその一端に有し、前記第３ガス供給回路は、外気を前記第１フィルタを通過させて前記ガス導入口から前記滅菌用チャンバーに供給するように構成され、前記第４ガス供給回路は、前記副操作用チャンバーに前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを供給するための出口ポートをその一端に有し、前記滅菌用チャンバーの上部の位置は、前記操作用チャンバー及び前記副操作用チャンバーの上部の少なくとも一方の上部の位置よりも鉛直方向の位置において低く、前記滅菌ガス発生装置及び前記容器の少なくとも一部は、鉛直方向の位置における前記滅菌用チャンバーの上部の位置から前記操作用チャンバー及び前記副操作用チャンバーの上部の少なくとも一方の上部の位置までの空間に配置されている、アイソレータシステムである。

本発明によれば、アイソレータのチャンバーを効率良く滅菌しつつ、設備コストを低減できる。

滅菌庫を含むアイソレータシステムの構成例を示す回路図である。 滅菌庫の外観構成例を示す斜視図である。 アイソレータシステムの外観構成例を示す図である。 滅菌用チャンバーの滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。 滅菌用チャンバー及び細胞操作用チャンバーの滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。 滅菌用チャンバーの清浄用フィルタの滅菌工程における滅菌ガスの流れと、細胞操作用チャンバーの清浄用フィルタの滅菌工程における滅菌ガスの流れとをともに示す回路図である。 滅菌用チャンバーの置換工程における空気の流れと、細胞操作用チャンバーの置換工程における空気の流れとをともに示す回路図である。 連結装置の滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。 連結装置の置換工程における空気の流れを示す回路図である。 Ｏｐチャンバーの滅菌工程における滅菌ガスの流れと、清浄用フィルタの滅菌工程における滅菌ガスの流れとを示す回路図である。 Ｏｐチャンバーの置換工程における空気の流れを示す回路図である。 もう１つのアイソレータシステムの外観構成例を示す図である。 更にもう１つのアイソレータシステムの外観構成例を示す図である。

===滅菌庫の構成===
図１乃至図３を参照しつつ、本実施の形態の滅菌庫１の構成例について説明する。
図１は、滅菌庫１を含むアイソレータシステム６の構成例を示す回路図である。
図２は、滅菌庫１の外観構成例を示す斜視図である。
図３は、アイソレータシステム６の外観構成例を示す図である。尚、同図において、（ａ）は、（ｂ）の正面外観のＡ−Ａ’における断面を表わす。

<<<滅菌用チャンバーと、Ｏｐチャンバーに対する出口及び入口ポート>>>
図１に例示されるように、滅菌庫１は、滅菌ガス発生装置１０と、被滅菌物を搬入するための第１の扉１１１を備えた滅菌用チャンバー１１と、例えば３つの顕微鏡用チャンバー（外部チャンバー）２４、２５、２６（以後「Ｏｐチャンバー２４、２５、２６」と称する）に滅菌ガスを出力する出力ポート１３ａ、１３ｂ、１３ｃ（「出力ポート１３」と総称する）と、Ｏｐチャンバー２４、２５、２６から滅菌ガスを入力する入力ポート１４と、滅菌用チャンバー１１及びＯｐチャンバー２４、２５、２６のそれぞれに滅菌ガスを循環させるための配管等の手段とを備えている。

滅菌用チャンバー１１に滅菌ガスを循環させるための手段は、配管１６７、１６１、１１７、１０５と、電磁弁１６１ａ、１１７ａと、送風機１２とを備えて構成される。詳しくは、滅菌ガス発生装置１０のガス流出側（図１の紙面上側）は配管１６７により電磁弁１６１ａ、１６２ａ、１６３ａ、１６４ａ、１６５ａ、１６６ａに分岐し、そのうちの電磁弁１６１ａと滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス導入口１１ａとは配管１６１により接続されている。一方、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス排出口１１ｄと送風機１２のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１１７により電磁弁１１７ａを介して接続され、送風機１２のガス流出側（図１の紙面上側）と滅菌ガス発生装置１０のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１０５により流量計１２ａを介して接続されている。以上の構成によって、滅菌ガスは、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス導入口１１ａを通して同チャンバー１１内に供給され、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス排出口１１ｄを通して同チャンバー１１外に排出される。この滅菌用チャンバー１１に滅菌ガスを循環させる構成が、第１ガス供給回路に対応する。尚、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス排出口１１ｄの直下流側には、微粒子を捕集するための例えばＨＥＰＡフィルタ等の清浄用フィルタ１１４が設けられている。また、本実施の形態では、例えば滅菌用チャンバー１１等のチャンバーに「滅菌ガスを循環させる」ことは、滅菌ガス生成装置１０により生成された滅菌ガスを含む空気をチャンバーに供給し、同チャンバー内で滅菌を行なった後の残留滅菌ガスを含む空気を同チャンバー外に排出させ、排出された空気に対し滅菌ガス生成装置１０により生成された滅菌ガスを混合し、滅菌ガスが混合された空気をチャンバーに再度供給する工程を繰り返すことを意味する。

Ｏｐチャンバー２４、２５、２６に滅菌ガスを循環させるための手段は、配管１６７、１８４、１８５、１８６、１６４、１６５、１６６、１４４、１４５、１４６、１４７、１０８、１０６、１０５と、電磁弁１６４ａ、１６５ａ、１６６ａ、１４７ａ、１０８ａ、１０６ａと、送風機１２とを備えて構成される。詳しくは、滅菌ガス発生装置１０のガス流出側（図１の紙面上側）は配管１６７により電磁弁１６１ａ、１６２ａ、１６３ａ、１６４ａ、１６５ａ、１６６ａに分岐し、そのうちの例えば電磁弁１６４ａと出力ポート１３ａとは配管１８４により接続され、出力ポート１３ａとＯｐチャンバー２４のガス導入口２４ａとは配管１６４により接続されている。一方、Ｏｐチャンバー２４のガス排出口２４ｂと入力ポート１４とは配管１４４により接続され、入力ポート１４と送風機１２のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１４７、１０８、１０６により電磁弁１４７ａ、１０８ａ、１０６ａを介して接続され、送風機１２のガス流出側（図１の紙面上側）と滅菌ガス発生装置１０のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１０５により流量計１２ａを介して接続されている。以上の構成によって、滅菌ガスは、例えば、Ｏｐチャンバー２４のガス導入口２４ａを通して同チャンバー２４内に供給され、Ｏｐチャンバー２４のガス排出口２４ｂを通して同チャンバー２４外に排出される。これは、図１に例示されるように、他のＯｐチャンバー２５、２６のガス導入口２５ａ、２６ａ及びガス排出口２５ｂ、２６ｂと、同チャンバー２５、２６にそれぞれ対応する電磁弁１６５ａ、１６６ａ、出力ポート１３ｂ、１３ｃ、配管１８５、１８６、配管１６５、１６６、及び配管１４５、１４６についても同様である。このＯｐチャンバー２４、２５、２６に滅菌ガスを循環させる構成が、第２ガス供給回路に対応する。尚、入力ポート１４の下流側における配管１０８及び配管１０６の境界には、清浄用フィルタ１０７が設けられている。

尚、滅菌ガス発生装置１０には、滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス：Ｈ_２Ｏ_２）の原料（例えば過酸化水素水）を収容する容器１０４と、同容器１０４から原料を汲み上げるポンプ１０３と、汲み上げられた原料を清浄用フィルタ１０１を介して滅菌ガス発生装置１０に供給するための配管１０２とが設けられている。

本実施の形態では、滅菌庫１は、滅菌ガス発生装置１０、各種電磁弁、各種送風機等の電気機器を制御するための制御装置１ｄを更に備えている。

<<<細胞操作用チャンバーに対する第２の扉及び出口ポート>>>
図１に例示されるように、滅菌庫１は、更に、アイソレータ３（図３参照）の細胞操作用チャンバー（外部チャンバー）３０に滅菌ガスを出力する出力ポート１６２ｂと、第２の扉１１２と、細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスを循環させるための配管等の手段とを備えている。

細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスを循環させるための手段は、配管１６７、１６２、３０４、１１７、１０５と、電磁弁１６２ａ、１１７ａと、送風機１２とを備えて構成される。詳しくは、滅菌ガス発生装置１０のガス流出側（図１の紙面上側）は配管１６７により電磁弁１６１ａ、１６２ａ、１６３ａ、１６４ａ、１６５ａ、１６６ａに分岐し、そのうちの電磁弁１６２ａと出力ポート１６２ｂとは配管１６２により接続され、出力ポート１６２ｂと細胞操作用チャンバー３０の滅菌ガス導入口３０ｂとは配管３０４により接続されている。一方、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス排出口１１ｄと滅菌ガス発生装置１０のガス流入側（図１の紙面下側）との接続のし方は、前述した滅菌用チャンバー１１に滅菌ガスを循環させるための手段として前述した通りである。

以上の構成によって、滅菌ガスは、細胞操作用チャンバー３０の滅菌ガス導入口３０ｂを通して同チャンバー３０内に供給され、開放された第２の扉１１２を介し、滅菌用チャンバー１１の滅菌ガス排出口１１ｄを通して同チャンバー１１外に排出される。この細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスを循環させる構成が、第２ガス供給回路に対応する。

尚、細胞操作用チャンバー３０は、細胞培養用チャンバー４０内で培養される細胞に対し所定の前処理等を無菌的に施すために外気と隔離された部屋である。滅菌用チャンバー１１は、細胞操作用チャンバー３０に対し細胞や培養に必要な物品等を搬入する前にこれらを滅菌するために外気と隔離された（細胞操作用チャンバー３０よりも小さな）部屋である。細胞操作用チャンバー３０は、滅菌用チャンバー１１とその第２の扉１１２を介して隙間なく連結されている。

また、細胞操作用チャンバー３０は、滅菌用チャンバー１１の第２の扉１１２と対向する側に、滅菌された物品等を細胞培養用チャンバー４０側に搬出するための扉３０ａを備えている（図３参照）。

更に、細胞操作用チャンバー３０には、同チャンバー３０に残留する滅菌ガスをガス導入口３０ｃ及びガス排出口３０ｄを通して空気で置換するための手段として、滅菌ガス低減用触媒３０１ｂ、３０２ｂと、配管３０１、３０２と、電磁弁３０１ａ、３０２ａと、送風機３３、３４とが設けられている。

また更に、細胞操作用チャンバー３０には、ガス導入口３０ｃの直上流側の清浄用フィルタ３１及びガス排出口３０ｄの直下流側の清浄用フィルタ３２を滅菌するべく同フィルタ３１、３２を通して送風機３３の空気を循環させるための配管等の手段が設けられている。ここで、同手段は、細胞操作用チャンバー３０のガス導入口３０ｃ及びガス排出口３０ｅを送風機３３を介して接続する配管３０３と、同配管３０３上に設けられた電磁弁３０３ａである。

本実施の形態では、前述した配管１６７、電磁弁１６２ａ、配管１６２、及び出口ポート１６２ｂが第２ガス供給回路に対応する。

<<<連結装置に対する出口及び入口ポート>>>
図１に例示されるように、滅菌庫１は、前述した細胞操作用チャンバー３０及びインキュベータ４（図３参照）の細胞培養用チャンバー４０を連結する中空の連結装置（外部チャンバー）３５に滅菌ガスを出力する出力ポート１６３ｂと、同連結装置３５から滅菌ガスを入力する入力ポート１４７ｃと、同連結装置３５に滅菌ガスを循環させるための配管等の手段を備えている。

連結装置３５に滅菌ガスを循環させるための手段は、配管１６７、１６３、３５１、３５２、１４７、１０８、１０６、１０５と、電磁弁１６３ａ、１４７ｂ、１０８ａ、１０６ａと、送風機１２とを備えて構成される。詳しくは、滅菌ガス発生装置１０のガス流出側（図１の紙面上側）は配管１６７により電磁弁１６１ａ、１６２ａ、１６３ａ、１６４ａ、１６５ａ、１６６ａに分岐し、そのうちの電磁弁１６３ａと出力ポート１６３ｂとは配管１６３により接続され、出力ポート１６３ｂと連結装置３５のガス導入口３５ａとは配管３５１により接続されている。一方、連結装置３５のガス排出口３５ｂと入力ポート１４７ｃとは配管３５２により接続され、入力ポート１４７ｃと送風機１２のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１４７、１０８、１０６により電磁弁１４７ｂ、１０８ａ、１０６ａを介して接続され、送風機１２のガス流出側（図１の紙面上側）と滅菌ガス発生装置１０のガス流入側（図１の紙面下側）とは配管１０５により流量計１２ａを介して接続されている。

以上の構成によって、滅菌ガスは、連結装置３５のガス導入口３５ａを通して同装置３５内に供給され、連結装置３５のガス排出口３５ｂを通して同装置３５外に排出される。この連結装置３５に滅菌ガスを循環させる構成が、第２ガス供給回路に対応する。

尚、インキュベータ３の細胞培養用チャンバー４０は、細胞操作用チャンバー３０と中空の連結装置３５を介して隙間なく連結されている。また、細胞培養用チャンバー４０は、細胞操作用チャンバー３０との連結時に同チャンバー３０の扉３０ａと対向する側に、滅菌物を搬入するための扉４０ａを備えている（図３参照）。

本実施の形態では、前述した配管１６７、電磁弁１６３ａ、配管１６３、及び出口ポート１６３ｂが第２ガス供給回路に対応する。

<<<滅菌用及びＯｐチャンバーの滅菌ガスを空気で置換するための構成>>>
図１に例示されるように、滅菌庫１は、送風機１５と、滅菌用チャンバー１１のガス導入口１１ｂの直上流側に設けられた清浄用フィルタ１１３と、滅菌用チャンバー１１に残留する滅菌ガスを空気で置換するための配管等の手段と、Ｏｐチャンバー２４、２５、２６に残留する滅菌ガスを空気で置換するための配管等の手段とを更に備えている。

滅菌用チャンバー１１に残留する滅菌ガスを空気で置換するための手段は、配管１５２、１１５、１１６、１７１と、電磁弁１５２ａ、１１５ａ、１１６ａとを備えて構成される。この滅菌用チャンバー１１に残留する滅菌ガスを空気で置換する構成が、置換回路に対応する。

Ｏｐチャンバー２４、２５、２６に残留する滅菌ガスを空気で置換するための配管等の手段は、配管１５２、１５１、１０６、１０５、１６７、１８４、１８５、１８６、１６４、１６５、１６６、１４４、１４５、１４６、１４７、１０８、１７３、１７１と、電磁弁１５２ａ、１５１ａ、１０６ａ、１６４ａ、１６５ａ、１６６ａ、１４７ａ、１７３ａとを備えて構成される。このＯｐチャンバー２４、２５、２６に残留する滅菌ガスを空気で置換する構成が、置換回路に対応する。

尚、配管１５２の大気側の開口端部には、滅菌ガス低減用触媒１５２ｂが設けられるとともに、配管１７１の大気側の開口端部には、滅菌ガス低減用触媒１７１ａが設けられている。

<<<清浄用フィルタを滅菌するための構成>>>
図１に例示されるように、滅菌庫１は、清浄用フィルタ１１３、１１４を滅菌するべく同フィルタ１１３、１１４を通して送風機１５の空気を循環させるための配管等の手段を備えている。ここで、同手段は、配管１１８、１１５と、電磁弁１１５ａ、１１８ａとを備えて構成される。

<<<外観構成例>>>
図２に例示されるように、滅菌庫１は、滅菌用チャンバー１１が設けられた中央部１ｂと、同中央部１ｂの鉛直方向上側に設けられて滅菌ガス発生装置１０等を収納する上部１ａと、同中央部１ｂの鉛直方向下側に設けられて架台の機能を果たす下部１ｃと、同下部１ｃにより画成される空間内に設置される前述した制御装置１ｄとを備えている。

本実施の形態では、上部１ａ及び下部１ｂが筐体１ｅを構成している。上部１ａ内には、例えば過酸化水素水等の滅菌ガスの原料を収容する容器１４や滅菌ガス発生装置１０等が収納されており、細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスを供給するための前述した出力ポート１６２ｂと、連結装置３５に滅菌ガスを供給するための前述した出力ポート１６３ｂとが設けられている。中央部１ｂにおける第２の扉１１２が設けられた側はアイソレータ３に対する接続部として、第２の扉１１２が開閉する開口の周囲に、所定のシール材１ｇが設けられている。尚、前述した他のポート１３、１４、１４７ｃの図示は省略されている。

図３に例示されるように、滅菌庫１の滅菌用チャンバー１１と、アイソレータ３の細胞操作用チャンバー３０の一方側（図３の紙面右側）とは、同滅菌用チャンバー１１の第２の扉１１２を介して隙間なく連結されている。

また、アイソレータ３の細胞操作用チャンバー３０の他方側（図３の紙面左側）と、インキュベータ４の細胞培養用チャンバー４０とは、中空の連結装置３５、細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａ、及び細胞培養用チャンバー４０の扉４０ａを介して隙間なく接続されている。

尚、細胞操作用チャンバー３０には、例えばグローブ３ａ、３ｂ、３ｃや遠心分離機５等が設けられている。例えばグローブ３ａを用いて、細胞操作用チャンバー３０を無菌に保持したまま、扉３０ａを開閉できる。また、例えばグローブ３ｃを用いて、滅菌用チャンバー１１を無菌に保持したまま、第２の扉１１２を開閉できる。
滅菌庫１の滅菌ガス発生装置１０からは、配管１６２、３０４を介して細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスが供給されるようになっており、配管１６３、３５１を介して連結装置３５に滅菌ガスが供給されるようになっている。
尚、本実施の形態では、アイソレータ３及び滅菌庫１は、アイソレータシステム６を構成する。

===滅菌庫の動作===
図４乃至図１１を参照しつつ、前述した構成を備えた滅菌庫１による滅菌工程及び置換工程の動作について説明する。
図４は、滅菌用チャンバー１１の滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。
図５は、滅菌用チャンバー１１及び細胞操作用チャンバー３０の滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。
図６は、滅菌用チャンバー１１の清浄用フィルタ１１３、１１４の滅菌工程における滅菌ガスの流れと、細胞操作用チャンバー３０の清浄用フィルタ３１、３２の滅菌工程における滅菌ガスの流れとをともに示す回路図である。
図７は、滅菌用チャンバー１１の置換工程における空気の流れと、細胞操作用チャンバー３０の置換工程における空気の流れとをともに示す回路図である。
図８は、連結装置３５の滅菌工程における滅菌ガスの流れを示す回路図である。
図９は、連結装置３５の置換工程における空気の流れを示す回路図である。
図１０は、Ｏｐチャンバー２４の滅菌工程における滅菌ガスの流れと、清浄用フィルタ１０７の滅菌工程における滅菌ガスの流れとを示す回路図である。
図１１は、Ｏｐチャンバー２４の置換工程における空気の流れを示す回路図である。
尚、図４乃至図１１では、便宜上、それぞれ太線で示される滅菌ガス又は空気の流れと直接関係する部材のみに番号を付してある。但し、各部材の番号は、前述した図１で付した番号と同一である。

<<<滅菌用チャンバーの暴露工程>>>
図４の太線の矢印で例示されるように、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び第２の扉１１２が閉じた状態で、先ず、滅菌ガスは、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６１ａ、配管１６１を経て、滅菌ガス導入口１１ａから滅菌用チャンバー１１内に供給される。次に、滅菌用チャンバー１１内で滅菌を行なった後の残留滅菌ガスを含む空気（これも「滅菌ガス」と称する）は、滅菌ガス排出口１１ｄから滅菌用チャンバー１１外に排出され、清浄用フィルタ１１４、配管１１７、同配管１１７上の電磁弁１１７ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａを経て、滅菌ガス生成装置１０内に入り、同装置１０により新たに生成された滅菌ガスが混合される。尚、図４では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。

以上の滅菌ガスの流れは、送風機１２により形成される。また、滅菌工程において、滅菌ガス発生装置１０は、ポンプ１０３により容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）から滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）を生成する動作を実行する。

<<<細胞操作用チャンバーの滅菌工程>>>
図５の太線の矢印で例示されるように、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａが閉じ且つ滅菌用チャンバー１１の第２の扉１１２が開いた状態で、先ず、滅菌ガスは、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６２ａ、配管１６２、出口ポート１６２ｂ、配管３０４を経て、滅菌ガス導入口３０ｂから細胞操作用チャンバー３０内に供給される。次に、細胞操作用チャンバー３０内で滅菌を行なった後の残留滅菌ガスを含む空気（これも「滅菌ガス」と称する）は、第２の扉１１２が開いた状態の滅菌用チャンバー１１に供給された後、滅菌ガス排出口１１ｄから同チャンバー１１外に排出され、配管１１７、同配管１１７上の電磁弁１１７ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａを経て、滅菌ガス生成装置１０内に入り、同装置１０により新たに生成された滅菌ガスが混合される。尚、図５では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。また、細胞操作用チャンバー３０内で滅菌を行なった後の滅菌ガスは、滅菌用チャンバー１１内でも滅菌を行なうことができる。つまり、滅菌ガス導入口３０ｂを通して細胞操作用チャンバー３０に供給された滅菌ガスは、同チャンバー３０内を滅菌するだけでなく、開放された第２の扉１１２から滅菌用チャンバー１１に供給されて、同チャンバー１１内を滅菌し、その滅菌ガス排出口１１ｄから排出される。これにより、細胞操作用チャンバー３０内を滅菌したとき、滅菌用チャンバー１１内も共に滅菌されることになる。

以上の滅菌ガスの流れは、送風機１２により形成される。また、滅菌工程において、滅菌ガス発生装置１０は、ポンプ１０３により容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）から滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）を生成する動作を実行する。

これにより、アイソレータ３は、滅菌庫１からの滅菌ガスを出口ポート１６２ｂを通して細胞操作用チャンバー３０内に直接取り込むことができるため、同チャンバー３０内を効率良く滅菌できる。これにより、滅菌処理にかかる時間も短縮できる。また、アイソレータ３は、個別に滅菌手段を備える必要がないため、その分だけ設備コストを低減できる。

<<<滅菌用チャンバー及び細胞操作用チャンバーの清浄用フィルタの滅菌工程>>>
図６の右側の太線の矢印で例示されるように、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び第２の扉１１２が閉じた状態で、先ず、空気は、送風機１５、配管１１５、同配管１１５上の電磁弁１１５ａ、清浄用フィルタ１１３を経て、ガス導入口１１ｂから滅菌用チャンバー１１内に供給される。次に、空気は、ガス排出口１１ｅから滅菌用チャンバー１１外に排出され、清浄用フィルタ１１４、配管１１８、同配管１１８上の電磁弁１１８ａを経て、送風機１５に戻る。尚、図６では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機１５により形成される。また、このような空気の循環の際、前述した図４に例示される滅菌用チャンバー１１内を滅菌するための滅菌ガスの流れが並行して形成されている。或いは、このような空気の循環の際、滅菌用チャンバー１１内は、前述した図４に例示される滅菌工程が終了した後に、滅菌ガスが滞留した状態にあってもよい。

図６の左側の太線の矢印で例示されるように、細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａと、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び第２の扉１１２とが全て閉じた状態で、先ず、空気は、送風機３３、配管３０３、清浄用フィルタ３１を経て、ガス導入口３０ｃから細胞操作用チャンバー３０内に供給される。次に、空気はガス排出口３０ｅから細胞操作用チャンバー３０外に排出され、清浄用フィルタ３２、配管３０３、同配管３０３上の電磁弁３０３ａを経て、送風機３３に戻る。尚、図６では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機３３により形成される。また、このような空気の循環の際、前述した図５に例示される滅菌用チャンバー１１及び細胞操作用チャンバー３０内を滅菌するための滅菌ガスの流れが並行して形成されている。或いは、このような空気の循環の際、滅菌用チャンバー１１及び細胞操作用チャンバー３０内は、前述した図５に例示される滅菌工程が終了した後、滅菌ガスが滞留した状態であってもよい。

尚、滅菌工程において、滅菌ガス発生装置１０は、ポンプ１０３により容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）から滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）を生成する動作を実行する。

また、前述した例では、滅菌用チャンバー１１の清浄用フィルタ１１３、１１４の滅菌工程と、細胞操作用チャンバー３０の清浄用フィルタ３１、３２の滅菌工程とは個別に行なわれるものであったが、これに限定されるものではない。例えば第２の扉１１２が開いた状態で、双方の工程が同時に行なわれてもよい。滅菌用チャンバー１１の清浄用フィルタ１１３、１１４と、細胞操作用チャンバー３０の清浄用フィルタ３１、３２とを同時に滅菌することによって、例えば、双方のチャンバー１１、３０のフィルタ１１３、１１４、３１、３２の滅菌処理が相乗的となり、よって滅菌効果も向上する。

以上により、滅菌用チャンバー１１及び細胞操作用チャンバー３０のそれぞれの内部をより確実に滅菌できる。

<<<滅菌用チャンバー及び細胞操作用チャンバーの置換工程>>>
前述した図４乃至図６に例示される滅菌用チャンバー１１、細胞操作用チャンバー３０、清浄用フィルタ１１３、１１４、３１、３２等の滅菌工程の後、残留する滅菌ガスを大気中の空気によって置換する工程が実行される。

図７の右側の太線の矢印で例示されるように、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び第２の扉１１２が閉じた状態で、先ず、大気中の空気は、滅菌ガス低減用触媒１５２ｂ、配管１５２、同配管１５２上の電磁弁１５２ａ、送風機１５、配管１１５、同配管１１５上の電磁弁１１５ａ、清浄用フィルタ１１３を経て、ガス導入口１１ｂから滅菌用チャンバー１１内に供給される。次に、空気は、ガス排出口１１ｃから滅菌用チャンバー１１外に排出され、清浄用フィルタ１１４、配管１１６、同配管１１６上の電磁弁１１６ａ、配管１７１、滅菌ガス低減用触媒１７１ａを経て、大気中に放出される。尚、図７では、空気が同図の右側の太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機１５により形成される。

図７の左側の太線の矢印で例示されるように、細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａと、滅菌用チャンバー１１の第１の扉１１１及び第２の扉１１２とが全て閉じた状態で、先ず、大気中の空気は、滅菌ガス低減用触媒３０１ｂ、配管３０１、同配管３０１上の電磁弁３０１ａ、送風機３３、清浄用フィルタ３１を経て、ガス導入口３０ｃから細胞操作用チャンバー３０内に供給される。次に、空気は、ガス排出口３０ｄから細胞操作用チャンバー３０外に排出され、清浄用フィルタ３２、配管３０２、同配管３０２上の電磁弁３０２ａ、滅菌ガス低減用触媒３０２ｂ、送風機３４を経て、大気中に放出される。尚、図７では、空気が同図の左側の太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機３３、３４により形成される。

前述した例では、滅菌用チャンバー１１の置換工程と、細胞操作用チャンバー３０の置換工程とは個別に行なわれるものであったが、これに限定されるものではない。例えば第２の扉１１２が開いた状態で、双方の工程が同時に行なわれてもよい。滅菌用チャンバー３０及び細胞操作用チャンバー１１の双方の置換工程を同時に行なうことによって、例えば、双方のチャンバー１１、３０内からの滅菌ガスの除去が相乗的となり、よって滅菌ガスの除去効果も向上する。

以上により、滅菌工程の後、滅菌用チャンバー１１及び細胞操作用チャンバー３０のそれぞれの内部から、細胞等に影響を与える滅菌ガスを確実に除去できる。

<<<連結装置の滅菌工程>>>
図８の太線の矢印で例示されるように、中空の連結装置３５を挟む細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａ及び細胞培養用チャンバー４０の扉４０ａの双方が閉じた状態で、滅菌ガスは、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６３ａ、配管１６３、出口ポート１６３ｂ、配管３５１を経て、ガス導入口３５ａから連結装置３５内に供給される。次に、連結装置３５内で滅菌を行なった後の残留滅菌ガスを含む空気（これも「滅菌ガス」と称する）は、ガス排出口３５ｂから連結装置３５外に排出され、配管３５２、入口ポート１４７ｃ、配管１４７、同配管１４７上の電磁弁１４７ｂ、配管１０８、同配管１０８上の電磁弁１０８ａ、清浄用フィルタ１０７、配管１０６、同配管１０６上の電磁弁１０６ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａを経て、滅菌ガス生成装置１０内に入り、同装置１０により新たに生成された滅菌ガスが混合される。尚、図８では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。

以上の滅菌ガスの流れは、送風機１２により形成される。また、滅菌工程において、滅菌ガス発生装置１０は、ポンプ１０３により容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）から滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）を生成する動作を実行する。

これにより、例えば、アイソレータ３とインキュベータ４とを、それぞれのチャンバー３０、４０内を無菌状態に保持したままで連結できる。

<<<連結装置の置換工程>>>
前述した図８に例示される連結装置３５の滅菌工程の後、残留する滅菌ガスを大気中の空気によって置換する工程が実行される。

図９の太線の矢印で例示されるように、中空の連結装置３５を挟む細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａ及び細胞培養用チャンバー４０の扉４０ａの双方が閉じた状態で、大気中の空気は、滅菌ガス低減用触媒１５２ｂ、配管１５２、同配管１５２上の電磁弁１５２ａ、送風機１５、配管１５１、同配管１５１上の電磁弁１５１ａ、清浄用フィルタ１０７、配管１０６、同配管１０６上の電磁弁１０６ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａ、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６３ａ、配管１６３、出口ポート１６３ｂ、配管３５１を経て、ガス導入口３５ａから連結装置３５内に供給される。次に、空気は、ガス排出口３５ｂから連結装置３５外に排出され、配管３５２、入口ポート１４７ｃ、配管１４７、同配管１４７上の電磁弁１４７ｂ、配管１０８、配管１７３、同配管１７３上の電磁弁１７３ａ、清浄用フィルタ１７２、配管１７１、滅菌ガス低減用触媒１７１ａを経て、大気中に放出される。尚、図９では、空気が太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機１５により形成される。

尚、前述した置換工程において、滅菌ガス発生装置１０の内部には、容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）及び滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）の双方とも残留していない状態であり、また、滅菌ガス発生装置１０における滅菌ガスの原料から滅菌ガスを生成する動作及びポンプ１０３の動作は双方とも停止しているものとする。

以上により、滅菌工程の後、連結装置３５の内部から、細胞等に影響を与える滅菌ガスを確実に除去できる。

<<<Ｏｐチャンバーの滅菌工程及び清浄用フィルタの滅菌工程>>>
例えばＯｐチャンバー２４を、滅菌庫１を用いて滅菌する工程について説明する。
図１０の太線の矢印で例示されるように、先ず、滅菌ガスは、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６４ａ、配管１８４、出口ポート１３ａ、配管１６４を経て、ガス導入口２４ａからＯｐチャンバー２４内に供給される。次に、Ｏｐチャンバー２４内で滅菌を行なった後の残留滅菌ガスを含む空気（これも「滅菌ガス」と称する）は、ガス排出口２４ｂからＯｐチャンバー２４外に排出され、配管１４４、入口ポート１４、配管１４７、同配管１４７上の電磁弁１４７ａ、配管１０８、同配管１０８上の電磁弁、清浄用フィルタ１０７、配管１０６、同配管１０６上の電磁弁１０６ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａを経て、滅菌ガス生成装置１０内に入り、同装置１０により新たに生成された滅菌ガスが混合される。尚、図１０では、滅菌ガスが太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の滅菌ガスの流れは、送風機１２により形成される。
尚、他のＯｐチャンバー２５、２６についても、以上と同様である。

また、清浄用フィルタ１０７を滅菌する工程の場合も、空気の流れは、図１０の滅菌ガスの流れと同じである。但し、この場合、前述したように、滅菌ガスの流れが並行して形成されているか、或いは、滅菌ガスによる滅菌工程が終了した後にＯｐチャンバー２４、２５、２６に滅菌ガスが滞留しているものとする。

以上により、インキュベータ４で培養される細胞や培養に必要な物品等を滅菌庫１で滅菌できるとともに、同滅菌庫１とは扉を介して連結されていないＯｐチャンバー２４、２５、２６でも物品の外装滅菌やチャンバー内の滅菌等が行なえる。また、Ｏｐチャンバー２４、２５、２６は、個別に滅菌手段を備える必要がないため、その分だけコストを低減できる。

<<<Ｏｐチャンバーの置換工程>>>
前述した図１０に例示されるＯｐチャンバー２４の滅菌工程の後、残留する滅菌ガスを大気中の空気によって置換する工程が実行される。

図１１の太線の矢印で例示されるように、大気中の空気は、滅菌ガス低減用触媒１５２ｂ、配管１５２、同配管１５２上の電磁弁１５２ａ、送風機１５、配管１５１、同配管１５１上の電磁弁１５１ａ、清浄用フィルタ１０７、配管１０６、同配管１０６上の電磁弁１０６ａ、送風機１２、配管１０５、同配管１０５上の流量計１２ａ、滅菌ガス発生装置１０、配管１６７、電磁弁１６４ａ、配管１８４、出口ポート１３ａ、配管１６４を経て、ガス導入口２４ａからＯｐチャンバー２４内に供給される。次に、空気は、ガス排出口２４ｂからＯｐチャンバー２４外に排出され、配管１４４、入口ポート１４、配管１４７、配管１０８、配管１７３、同配管１７３上の電磁弁１７３ａ、清浄用フィルタ１７２、配管１７１、滅菌ガス低減触媒１７１ａを経て、大気中に放出される。尚、図１１では、空気が太線の矢印で示された流れを形成するべく、制御装置１ｄによって、各種電磁弁の開閉状態が設定されている。以上の空気の流れは、送風機１５により形成される。

尚、前述した置換工程において、滅菌ガス発生装置１０の内部には、容器１０４から汲み上げられた滅菌ガスの原料（例えば過酸化水素水）及び滅菌ガス（例えば過酸化水素ガス）の双方とも残留していない状態であり、また、滅菌ガス発生装置１０における滅菌ガスの原料から滅菌ガスを生成する動作及びポンプ１０３の動作は双方とも停止しているものとする。

以上により、滅菌工程の後、Ｏｐチャンバー２４、２５、２６の内部から、細胞等に影響を与える滅菌ガスを確実に除去できる。

===アイソレータシステム６’、６”===
本実施の形態のアイソレータシステムは、前述した図３に例示されるアイソレータシステム６に限定されるものではなく、例えば以下の図１２及び図１３にそれぞれ例示されるアイソレータシステム６’、６”であってもよい。
図１２は、アイソレータシステム６’の外観構成例を示す図である。尚、同図において、（ａ）は、（ｂ）の正面外観のＢ−Ｂ’における断面を表わす。
図１３は、アイソレータシステム６”の外観構成例を示す図である。尚、同図において、（ａ）は、（ｂ）の正面外観のＣ−Ｃ’における断面を表わす。
ここで、図３、図１２、及び図１３に例示される部材において、同一の部材については、同一の番号を付し、詳しい説明を省略する。

<<<アイソレータシステム６’>>>
図１２に例示されるアイソレータシステム６’は、２つのアイソレータ３、３’及び１つの滅菌庫１’を備えて構成される。ここで、滅菌庫１’は、滅菌用チャンバー１１’における第１の扉１１１に隣接する両側に第２の扉１１２、１１２’を備えている。
滅菌庫１’の滅菌用チャンバー１１’と、アイソレータ３の細胞操作用チャンバー３０の一方側（図１２の紙面右側）とは、同滅菌用チャンバー１１’の第２の扉１１２を介して隙間なく連結されている。アイソレータ３の操作用チャンバー３の他方側（図１２の紙面左側）と、インキュベータ４の培養用チャンバー４０とは、中空の連結装置３５、細胞操作用チャンバー３０の扉３０ａ、及び細胞培養用チャンバー４０の扉４０ａを介して隙間なく接続されている。滅菌庫１’の滅菌ガス発生装置１０からは、配管１６２、３０４を介して細胞操作用チャンバー３０に滅菌ガスが供給されるようになっており、配管１６３、３５１を介して連結装置３５に滅菌ガスが供給されるようになっている。尚、細胞操作用チャンバー３０には、例えばグローブ３ａ、３ｂ、３ｃや遠心分離機５等が設けられている。

滅菌庫１’の滅菌用チャンバー１１’と、アイソレータ３’の細胞操作用チャンバー３０’の一方側（図１２の紙面左側）とは、同滅菌用チャンバー１１’の第２の扉１１２’を介して隙間なく連結されている。アイソレータ３’の操作用チャンバー３’の他方側（図１２の紙面右側）と、インキュベータ４’の培養用チャンバー４０’とは、中空の連結装置３５’、細胞操作用チャンバー３０’の扉３０ａ’、及び細胞培養用チャンバー４０’の扉４０ａ’を介して隙間なく接続されている。滅菌庫１’の滅菌ガス発生装置１０からは、配管１６２’、３０４’を介して細胞操作用チャンバー３０’に滅菌ガスが供給されるようになっており、配管１６３’、３５１’を介して連結装置３５’に滅菌ガスが供給されるようになっている。尚、細胞操作用チャンバー３０’には、例えばグローブ３ａ’、３ｂ’、３ｃ’や遠心分離機５’等が設けられている。

以上の構成を備えたアイソレータシステム６’によって、例えば、２つのインキュベータ４、４’でそれぞれ培養される細胞や培養に必要な物品等を１つの共通の滅菌庫１’で滅菌できる。

<<<アイソレータシステム６”>>>
図１３に例示されるアイソレータシステム６”は、２つのアイソレータ３、３”及び１つの滅菌庫１’を備えて構成される。ここで、滅菌庫１’は、前述した図１２の場合と同様である。

滅菌庫１’の滅菌用チャンバー１１’と、アイソレータ３の細胞操作用チャンバー３０と、インキュベータ４の細胞培養用チャンバー４０との関係は、前述した図１２の場合と同様である。
滅菌庫１’の滅菌用チャンバー１１’と、アイソレータ３”の細胞操作用チャンバー３０”と、インキュベータ４’の細胞培養用チャンバー４０’との関係は、細胞操作用チャンバー３０”の形状以外は、前述した図１２の場合と同様である。

また、図１３に例示されるように、滅菌庫１’の滅菌ガス発生装置１０からは、配管１８４、１６４を介してＯｐチャンバー２４に滅菌ガスが供給されるようになっている。
以上の構成を備えたアイソレータシステム６”によって、例えば、２つのインキュベータ４、４’でそれぞれ培養される細胞や培養に必要な物品等を１つの共通の滅菌庫１’で滅菌できるとともに、同アイソレータシステム６”と扉を介して連結されていないＯｐチャンバー２４でも物品の滅菌やチャンバー内の滅菌等が行なえる。

前述した実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明はその趣旨を逸脱することなく変更や改良等が可能であり、また本発明はその等価物も含むものである。

前述した実施の形態では、滅菌ガスとして、過酸化水素ガスを用いたが、これに限定されるものではなく、例えばオゾン等であってもよい。

１ 滅菌庫 １ａ 上部 １ｂ 中央部 １ｃ 下部
１ｄ 制御装置 １ｅ 筐体 １ｆ 接続部 １ｇ シール材
３ アイソレータ ３ａ、３ｂ、３ｃ グローブ ４ インキュベータ
５ 遠心分離機 ６ アイソレータシステム １０ 滅菌ガス発生装置
１１ 滅菌用チャンバー １１ａ 滅菌ガス導入口 １１ｄ 滅菌ガス排出口
１１ｂ、２４ａ、２５ａ、２６ａ、３０ｃ、３５ａ ガス導入口
１１ｃ、１１ｅ、２４ｂ、２５ｂ、２６ｂ、３０ｄ、３０ｅ、３５ｂ ガス排出口
１２、１５、３３、３４ 送風機 １２ａ 流量計
１３、１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１６２ｂ、１６３ｂ 出口ポート
１４、１４７ｃ 入口ポート ２４、２５、２６ Ｏｐチャンバー
３０ 細胞操作用チャンバー ３０ａ、４０ａ 扉 ３０ｂ 滅菌ガス導入口
３１、３２、１０１、１０７、１１３、１１４、１７２ 清浄用フィルタ
３５ 連結装置 ４０ 細胞培養用チャンバー
１０３ ポンプ １０４ 容器 １１１ 第１の扉 １１２ 第２の扉
１５２ｂ、１７１ａ、３０１ｂ、３０２ｂ 滅菌ガス低減用触媒

Claims (10)

1. 作業者が内部で作業を行う操作用チャンバーと、
   作業者が内部で作業を行う副操作用チャンバーと、
   前記操作用チャンバーと前記副操作用チャンバーとの間に設けられ、前記操作用チャンバーと接続するための接続部を有する滅菌庫と、を備えたアイソレータシステムであって、
   前記滅菌庫は、
   前記接続部を介して前記操作用チャンバーと連通可能である滅菌用チャンバーと、
   前記滅菌用チャンバーと前記副操作用チャンバーとを連通可能である副接続部と、
   前記滅菌用チャンバーの上部に設けられる滅菌ガス発生装置と、
   前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記滅菌用チャンバーへ供給するための第１ガス供給回路と、
   前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記操作用チャンバーへ供給するための第２ガス供給回路と、
   外気を前記滅菌用チャンバーに供給するための第３ガス供給回路と、
   前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記副操作用チャンバーに供給するための第４ガス供給回路と、を備え、
   前記滅菌ガス発生装置は、前記滅菌用チャンバーの上部に設けられた容器から前記滅菌ガスの原料がポンプによって供給され、
   前記滅菌用チャンバーは、被滅菌物を外部から出し入れするための第１の扉と、前記操作用チャンバーと連通するための前記接続部に設けた第２の扉と、前記副操作用チャンバーと連通するための前記副接続部に設けた第３の扉と、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを導入するための滅菌ガス導入口と、外気を導入するためのガス導入口と、前記ガス導入口に設けられ微粒子を捕集する第１フィルタと、を有し、
   前記第１ガス供給回路は、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを、微粒子を捕集するフィルタを通過させずに、前記滅菌ガス導入口から前記滅菌用チャンバーに供給するように構成され、
   前記第２ガス供給回路は、前記操作用チャンバーに前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを供給するための出口ポートをその一端に有し、
   前記第３ガス供給回路は、外気を前記第１フィルタを通過させて前記ガス導入口から前記滅菌用チャンバーに供給するように構成され、
   前記第４ガス供給回路は、前記副操作用チャンバーに前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを供給するための出口ポートをその一端に有し、
   前記滅菌用チャンバーの上部の位置は、前記操作用チャンバー及び前記副操作用チャンバーの上部の少なくとも一方の上部の位置よりも鉛直方向の位置において低く、
   前記滅菌ガス発生装置及び前記容器の少なくとも一部は、鉛直方向の位置における前記滅菌用チャンバーの上部の位置から前記操作用チャンバー及び前記副操作用チャンバーの上部の少なくとも一方の上部の位置までの空間に配置されている、
   アイソレータシステム。
2. 前記滅菌庫は、
   前記滅菌用チャンバー内の気体を外気中に排出するための第１ガス排出回路と、
   前記滅菌用チャンバーに供給された滅菌ガスを前記ガス発生装置に戻すための第２ガス排出回路と、をさらに備え、
   前記滅菌用チャンバーは、前記滅菌用チャンバー内の気体を排出するためのガス排出口と、前記ガス排出口に設けられた微粒子を捕集する第２フィルタと、を有し、
   前記第１及び第２ガス排出回路は、前記ガス排出口に接続され、前記滅菌用チャンバー内の気体を前記第２フィルタを通過させて前記ガス排出口から排出するように構成されている、
   請求項１に記載のアイソレータシステム。
3. 前記滅菌庫は、前記ガス排出口から前記第２フィルタを通過させて排出した前記滅菌用チャンバー内の気体を、前記ガス発生装置を通過させずに、前記ガス導入口から前記第１フィルタを通過させて前記滅菌用チャンバー内に戻すための循環回路をさらに備える、
   請求項１に記載のアイソレータシステム。
4. 前記滅菌庫は、前記第1ガス供給回路を介して、前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを前記滅菌用チャンバーへ供給する第１送風機をさらに備える、
   請求項３に記載のアイソレータシステム。
5. 前記第１送風機は、前記第２ガス排出回路を介して、前記滅菌用チャンバーに供給された滅菌ガスを、前記滅菌ガス発生装置へ戻すように構成されている、
   請求項４に記載のアイソレータシステム。
6. 前記滅菌庫は、前記第３ガス供給回路を介して、外気を前記滅菌用チャンバーに供給する第２送風機をさらに備える、
   請求項３〜５のいずれか一項に記載のアイソレータシステム。
7. 前記第２送風機は、前記循環回路を介して、前記ガス排出口から排出した気体を前記ガス導入口から前記滅菌用チャンバーへ戻すように構成されている、
   請求項６に記載のアイソレータシステム。
8. 前記滅菌庫は、前記操作用チャンバーに供給された滅菌ガスを、前記接続部から前記滅菌用チャンバーに導入し、前記ガス排気口から排出し、前記滅菌ガス発生装置に戻すように構成されている、
   請求項１に記載のアイソレータシステム。
9. 前記滅菌庫は、
   前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを外部チャンバーへ供給するための第４ガス供給回路と、
   前記外部チャンバー内に供給された滅菌ガスを前記ガス発生装置に戻すための第１ガス排出回路と、をさらに備える、
   請求項１に記載のアイソレータシステム。
10. 前記滅菌庫は、
    前記滅菌ガス発生装置で発生させた滅菌ガスを外部チャンバーへ供給するための第５ガス供給回路と、
    前記外部チャンバー内に供給された滅菌ガスを前記ガス発生装置に戻すための第１ガス排出回路と、をさらに備える、
    請求項１に記載のアイソレータシステム。

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