JP5679315B2 - 円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 - Google Patents
円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5679315B2 JP5679315B2 JP2011074126A JP2011074126A JP5679315B2 JP 5679315 B2 JP5679315 B2 JP 5679315B2 JP 2011074126 A JP2011074126 A JP 2011074126A JP 2011074126 A JP2011074126 A JP 2011074126A JP 5679315 B2 JP5679315 B2 JP 5679315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical
- molded body
- powder
- hot isostatic
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
そして、このようなMo系の円筒型ターゲット材の製造方法としては、例えば、Mo粉末を圧縮成形後に焼結したビレットを加熱しながら押出し成形した長尺の円筒体とすることが提案されている(例えば、特許文献1および特許文献2)。
一方で、配線・電極膜にMo系の薄膜を使用するにあたっては、耐食性の向上やエッチング性の観点からMoに対してTa、Nb、Cr、W、V等の高融点金属元素を添加したMo合金とすることが要求されている。そして、このようなMo合金の場合には、Moと高融点金属元素との合金相の形成により、塑性加工性が低下するため、押出し処理による加工が困難な合金組成が存在する。
また、平板形状の焼結体ターゲットとは異なり、円筒形状の焼結体ターゲットを作製する場合には、軸方向に長尺の円筒型ターゲットを原料粉末から一度の焼結で形状精度よく作製することが困難であるという問題もある。
すなわち本発明は、Mo粉末とMo以外の高融点金属粉末とからなる複数の円筒型成形体を端面で接合する円筒型Mo合金ターゲットの製造方法であって、一方の円筒型成形体の接合端面を5〜85度のテーパー状に形成し、他方の円筒型成形体の接合端面を前記テーパー状の端面に対して補角となるすり鉢状に形成し、前記円筒型成形体を、前記接合端面同士が当接するように中空の円筒型充填空間を有する金属カプセルに挿入した後、減圧封止し、その後、熱間静水圧プレスを施し、一体型の焼結体を得る円筒型Mo合金ターゲットの製造方法である。
また、円筒型成形体は、中空の円筒型の金属カプセルに、Mo粉末とMo以外の高融点金属粉末との混合粉末を充填し、熱間静水圧プレスを施して得られる仮焼結体であることが好ましい。
また、一体型の焼結体を得る熱間静水圧プレスは、温度450〜1300℃、圧力30〜150MPaの条件で行うことが好ましい。
尚、図1では、テーパー状に加工した円筒型成形体を上にして、すり鉢状に加工した円筒型成形体を下にそれぞれ配置しているが、この位置関係は逆になっても構わない。
MoとMo以外の高融点金属で形成されるMo合金ターゲットについては、高融点ゆえに既存の溶解設備での溶解や円筒形状への鋳造が困難である。また、粉末焼結法により作製したインゴット素材を押出し等の塑性加工によって円筒形状に加工することは、合金組成によっては拡散相や化合物相の形成により延性が低下する場合があるため困難である。さらに、ターゲット中で成分の不均一分布が発生する可能性もある。
そこで、MoとMo以外の高融点金属で形成されるMo合金ターゲットにおいては、特に一体型の円筒型ターゲットを実現する方法として本発明が有効である。
具体的には、円筒型成形体としては、Mo粉末とMo以外の高融点金属粉末とを混合した混合粉末を金型中で機械的にプレスして圧縮成形した成形体、あるいはこの成形体を減圧雰囲気中または水素含有雰囲気中で焼結した焼結体や、混合粉末を成形用モールド中や金属カプセルに充填してホットプレスや熱間静水圧プレスを施して得られる焼結体等が利用可能である。
図1のように、金属カプセル自体を円筒状とすれば、外周面と内周面から等方的に圧力が付加され、またカプセルの外周面と内周面とにおける変形抵抗に大きな差が生じないため、割れの発生を防止する上で好ましいものとなる。
本発明で適用できる金属カプセルは、内径が50〜300mm、外径が70〜500mm、長さが100〜4300mmの範囲のものが好ましく、金属カプセルの肉厚は3.0〜30.0mmの範囲のものが好ましい。
まず、Mo原料粉末(純度99.95%、平均粒径(d50)6μm)とTi原料粉末(純度99.9%、平均粒径(d50)30μm)とを原子比で50:50となるように秤量して混合した混合粉末を準備した。続いて、図4に示すような形状(内寸Φ220×Φ110×770mm)の軟鋼製の中空の金属カプセルに混合粉末を充填し、800℃、120MPa、5時間の条件で、金属カプセルの軸方向を重力方向として熱間静水圧プレス処理を施し、焼結体を2本作製した。この2本の焼結体をそれぞれ機械加工して、外径Φ170×内径Φ120×685mmの中空の円筒型成形体を得た。このとき、得られた2本の円筒型成形体の相対密度は、それぞれ100.8%であった。
次に、上記で得られた一方の円筒型成形体の接合端面には、図2(a)に示すようなテーパー状の加工を旋盤で行なった。また、他方の円筒型成形体の接合端面には、図2(b)に示すようなすり鉢状の加工を旋盤で行なった。なお、テーパー状の加工は円筒型成形体の軸方向に対して80度となるように形成し、すり鉢状の加工はテーパー状の端面に対して補角となるように100度に形成した。
2 金属カプセル
3 上蓋体
4 下蓋体
5a 接合端面(テーパー状)
5b 接合端面(すり鉢状)
6 混合粉末
Claims (4)
- Mo粉末とMo以外のFeよりも融点の高い金属粉末とからなる複数の円筒型成形体を端面で接合する円筒型Mo合金ターゲットの製造方法であって、
一方の円筒型成形体の接合端面を5〜85度のテーパー状に形成し、他方の円筒型成形体の接合端面を前記テーパー状の端面に対して補角となるすり鉢状に形成し、前記円筒型成形体を、前記接合端面同士が当接するように中空の円筒型充填空間を有する金属カプセルに挿入した後、減圧封止し、その後、熱間静水圧プレスを施し、一体型の焼結体を得ることを特徴とする円筒型Mo合金ターゲットの製造方法。 - 円筒型成形体の軸方向を重力方向として熱間静水圧プレスを行うことを特徴とする請求項1に記載の円筒型Mo合金ターゲットの製造方法。
- 前記円筒型成形体は、中空の円筒型の金属カプセルに、Mo粉末とMo以外のFeよりも融点の高い金属粉末との混合粉末を充填し、熱間静水圧プレスを施して得られる焼結体であることを特徴とする請求項1または2に記載の円筒型Mo合金ターゲットの製造方法。
- 一体型の焼結体を得る前記熱間静水圧プレスは、温度450〜1300℃、圧力30〜150MPaの条件で行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の円筒型Mo合金ターゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074126A JP5679315B2 (ja) | 2010-03-31 | 2011-03-30 | 円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010081457 | 2010-03-31 | ||
JP2010081457 | 2010-03-31 | ||
JP2011074126A JP5679315B2 (ja) | 2010-03-31 | 2011-03-30 | 円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011225985A JP2011225985A (ja) | 2011-11-10 |
JP5679315B2 true JP5679315B2 (ja) | 2015-03-04 |
Family
ID=45041680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011074126A Active JP5679315B2 (ja) | 2010-03-31 | 2011-03-30 | 円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5679315B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106312071A (zh) * | 2015-06-19 | 2017-01-11 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 钨钛管靶的制造方法 |
CN110282177A (zh) * | 2018-03-19 | 2019-09-27 | Jx金属株式会社 | 溅射靶及其包装方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102806353B (zh) * | 2012-08-17 | 2015-03-11 | 苏州晶纯新材料有限公司 | 一种钼合金管靶的生产方法 |
BE1021021B1 (nl) * | 2013-02-05 | 2014-12-19 | Soleras Advanced Coatings Bvba | SPUTTERTARGET UIT (Ga) Zn Sn-OXIDE |
CN107075664A (zh) * | 2014-11-07 | 2017-08-18 | 应用材料公司 | 高性价比的整体式旋转靶材 |
JP5887625B1 (ja) | 2015-03-27 | 2016-03-16 | Jx金属株式会社 | 円筒型スパッタリングターゲット、円筒型焼結体、円筒型成形体及びそれらの製造方法 |
CN106319457A (zh) * | 2015-06-19 | 2017-01-11 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 钨钛管靶的制造方法 |
CN105397092B (zh) * | 2015-11-13 | 2018-01-12 | 北京有色金属研究总院 | 一种高体积分数铝基复合材料的表面防腐处理方法 |
JP6888294B2 (ja) * | 2016-02-03 | 2021-06-16 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法、及び、Cu−Ga合金スパッタリングターゲット |
CN108213440B (zh) * | 2017-12-25 | 2019-12-31 | 安泰天龙钨钼科技有限公司 | 一种钼铼合金管材的制备方法 |
CN109909506B (zh) * | 2019-03-15 | 2021-09-07 | 航天材料及工艺研究所 | 钛合金进气道构件热等静压成形模具及热等静压成形方法 |
CN112659631B (zh) * | 2020-11-26 | 2022-08-23 | 深圳市众诚达应用材料科技有限公司 | 冷等静压的成型方法 |
CN114990499B (zh) * | 2021-07-19 | 2023-06-20 | 江苏钢研昊普科技有限公司 | 一种钼合金靶材的制备方法 |
CN113463047A (zh) * | 2021-08-18 | 2021-10-01 | 广东先导稀材股份有限公司 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
CN114769599B (zh) * | 2022-03-31 | 2023-07-18 | 西北有色金属研究院 | 一种钼合金电子束熔炼用电极的制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05230644A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-09-07 | Asahi Glass Co Ltd | セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造法 |
JPH06122974A (ja) * | 1992-10-12 | 1994-05-06 | Daido Steel Co Ltd | 筒形ターゲット体の製造方法 |
JPH07228967A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Mitsubishi Materials Corp | 長尺円筒状スパッタリングターゲット |
JP4312431B2 (ja) * | 2001-11-30 | 2009-08-12 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | ターゲット材 |
JP4721090B2 (ja) * | 2004-04-16 | 2011-07-13 | 日立金属株式会社 | Mo系ターゲット材の製造方法 |
DE102004060423B4 (de) * | 2004-12-14 | 2016-10-27 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Rohrtarget und dessen Verwendung |
-
2011
- 2011-03-30 JP JP2011074126A patent/JP5679315B2/ja active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106312071A (zh) * | 2015-06-19 | 2017-01-11 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 钨钛管靶的制造方法 |
CN106312071B (zh) * | 2015-06-19 | 2019-05-10 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 钨钛管靶的制造方法 |
CN110282177A (zh) * | 2018-03-19 | 2019-09-27 | Jx金属株式会社 | 溅射靶及其包装方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011225985A (ja) | 2011-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5679315B2 (ja) | 円筒型Mo合金ターゲットの製造方法 | |
JP4896032B2 (ja) | 管状ターゲット | |
CN101579741B (zh) | 一种大尺寸薄壁钛合金筒形件制造方法及筒形模具 | |
KR102359630B1 (ko) | W-Ni 스퍼터링 타깃 | |
CN107354339B (zh) | 弥散强化铂铑与铂复合材料及其制备方法 | |
CN111519049A (zh) | 低成本铌钛合金电极制备方法及铌钛合金电极 | |
CN109014230B (zh) | 一种钼金属格栅的制备方法 | |
CN113463053B (zh) | 一种钼镍基多元合金旋转靶材及其制备方法 | |
CN108213440A (zh) | 一种钼铼合金管材的制备方法 | |
CN106319457A (zh) | 钨钛管靶的制造方法 | |
CN106312071A (zh) | 钨钛管靶的制造方法 | |
CN108796304A (zh) | 一种γ-TiAl预合金气雾化制粉电极棒及其制备方法 | |
JP2010150610A (ja) | 円筒形スパッタリングターゲット | |
US20230024291A1 (en) | Method for producing molybdenum alloy targets | |
JP2013204051A (ja) | 円筒型スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
KR102449774B1 (ko) | 티탄 봉재, 티탄판 및 그 제조 방법 | |
CN112111719B (zh) | 一种钨钛硅合金溅射靶材及其制备方法 | |
JP2020111837A (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
CN111850485A (zh) | 一种钼合金靶材制备方法 | |
JP2015175035A (ja) | 円筒型スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
US20100178525A1 (en) | Method for making composite sputtering targets and the tartets made in accordance with the method | |
JP2015175034A (ja) | スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP2019019026A (ja) | 焼結用金型及びその作製方法 | |
JP6690288B2 (ja) | チタン内包構造体およびチタン複層材の製造方法 | |
CN114570926B (zh) | 粉末冶金板材的一体化包套方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5679315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |