CN113463047A - 一种靶材制备电动辅助装置 - Google Patents
一种靶材制备电动辅助装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113463047A CN113463047A CN202110950186.7A CN202110950186A CN113463047A CN 113463047 A CN113463047 A CN 113463047A CN 202110950186 A CN202110950186 A CN 202110950186A CN 113463047 A CN113463047 A CN 113463047A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- auxiliary device
- base
- electric auxiliary
- target
- preparing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 21
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 21
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 13
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 13
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 7
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 abstract description 12
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000012797 qualification Methods 0.000 abstract description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 35
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Transmission Devices (AREA)
Abstract
本发明涉及旋转靶材制备技术领域，公开了一种靶材制备电动辅助装置，其包括机架以及设于机架上的直线导轨和安装座，直线导轨竖直设置，直线导轨上设有可沿其滑动的滑块，安装座包括顶座和底座，其中顶座与滑块固定连接，顶座上设有插拔气缸，底座上则设有与插拔气缸的输出轴相连接的推拉杆，底座上还设有旋转电机和旋转盘，旋转电机与旋转盘传动连接，旋转盘上设有四根竖直设置的插杆。与现有技术相比，该靶材制备电动辅助装置能够代替人工实现插杆的转动和上下运动，结构简单可靠、易于操作；插杆的转动与上下运动均受到控制，与人工操作相比施工精度更高，避免了插杆剐蹭模具内壁，提升了产品的合格率。
Description
技术领域
本发明涉及旋转靶材制备技术领域，特别是涉及一种靶材制备电动辅助装置。
背景技术
在旋转靶材制备领域，部分旋转靶材的制作模具为圆柱形石墨模，其包括同轴设置的内模和外模，制备时需要操作人员向外模与内模之间的模腔中装入原料粉末，粉末装填完毕后采用液压机将粉末压实。为了保证制备质量，实现原料粉末的分布均匀，现有技术中采用分段装填的方式装入原料粉末。由于每段粉末装填后都会采用液压机将粉末压实，这就使得不同段的粉末之间会存在结合不牢固的情况。为了避免这种情况的发生，操作人员会在新的粉末装填之前手持圆棒插入模腔对上一段压实的粉末表面凿松，但是在操作过程中极易因操作不当而将石墨模具刮破，刮破掉落的石墨与原料粉末产生混合，导致烧结出的产品质量无法满足要求。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种靶材制备电动辅助装置，其具有易于操作、使用体验好等优点。
基于此，本发明提供了一种靶材制备电动辅助装置，其包括：
机架，所述机架设有竖直设置的直线导轨，所述直线导轨上设有可沿其滑动的滑块：
安装座，所述安装座包括顶座和底座，所述顶座与所述滑块固定连接，所述顶座设有插拔气缸，所述底座设有与所述插拔气缸的输出轴相连接的推拉杆，所述底座设有旋转电机和旋转盘，所述旋转电机通过传动组件与所述旋转盘传动连接，所述旋转盘上设有竖直设置的插杆。
本申请的一些实施例中，所述传动组件包括设于所述旋转盘主轴上的第一齿轮和设于所述旋转电机输出轴上的第二齿轮，所述第一齿轮和所述第二齿轮相啮合。
本申请的一些实施例中，所述插杆设有两根以上，各所述插杆沿所述旋转盘的周向均匀设置。
本申请的一些实施例中，所述旋转盘呈十字形设置，所述插杆设有四根，四根所述插杆沿所述旋转盘的周向均匀设置。
本申请的一些实施例中，所述旋转盘上设有第一直线轴承，所述插杆通过所述第一直线轴承与所述旋转盘相连接。
本申请的一些实施例中，所述插杆上套设有压缩弹簧和固定环，所述固定环位于所述压缩弹簧的下方并与所述插杆固定连接。
本申请的一些实施例中，所述底座上设有第二直线轴承，所述推拉杆通过所述第二直线轴承与所述底座相连接。
本申请的一些实施例中，所述机架的底板上设有用于固定模具的定位块。
本申请的一些实施例中，所述定位块设有两个以上。
本发明实施例提供了一种靶材制备电动辅助装置，与现有技术相比，其有益效果在于：
本发明提供了一种靶材制备电动辅助装置，其包括机架以及设于机架上的直线导轨和安装座，直线导轨竖直设置，直线导轨上设有可沿其滑动的滑块，安装座包括顶座和底座，其中顶座与滑块固定连接，顶座上设有若干个插拔气缸，底座上则设有与插拔气缸的输出轴相连接的推拉杆，底座上还设有旋转电机和旋转盘，旋转电机通过传动组件与旋转盘传动连接，旋转盘上还设有竖直设置的插杆。
基于上述结构，安装座与滑块固定连接，滑块在直线导轨上的滑动同样会带动安装座上的各结构上下滑动，因此使用时向上滑动滑块，底座上的插杆向上升起，机架的底部空间被空出，在机架的底板上设置模具，调整模具的位置使插杆与模具的模腔对齐，向模腔内填充原料粉末，向下滑动滑块，随着滑块的滑动插杆向下运动并最终插入模具的模腔中。当插杆接触原料粉末时停止滑块的滑动，启动旋转电机，旋转盘在旋转电机的驱动下发生转动，固定在旋转盘上的插杆也随着旋转盘的转动发生转动，进而对模腔内的原料粉末进行搅动；进一步的，当模腔内的粉末被插杆搅拌均匀时需要对粉末进行进一步的压实处理，此时启动插拔气缸，插拔气缸推动推拉杆上下运动，推拉杆的运动带动底座上下运动，旋转盘上的插杆也在底座的带动下上下运动实现对原料粉末的压实。如此，该靶材制备电动辅助装置使得插杆既可在模腔内转动又可以上下运动，插杆在机械结构的驱动下进行转动和插拔动作即可使模腔里的粉末分布均匀并压实，与人工操作相比更为可靠，操作起来更加方便；插杆的转动与上下运动均受到机械控制，与人工操作相比施工精度更高，避免了插杆接触到模具内壁，能够有效提升产品的合格率。
附图说明
图1为本发明实施例的靶材制备电动辅助装置的结构示意图；
图2为图1中的A处详图；
图3为本发明实施例的靶材制备电动辅助装置的应用示意图。
图中，1、机架；2、直线导轨；3、滑块；4、顶座；5、底座；6、插拔气缸；7、推拉杆；8、第二直线轴承；9、旋转电机；10、第一齿轮；11、第二齿轮；12、深沟球轴承座；13、旋转盘；14、第一直线轴承；15、插杆；16、压缩弹簧；17、固定环；18、定位块；19、模具。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
应当理解的是，本发明中采用术语“前”、“后”等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语，这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区别开。例如，在不脱离本发明范围的情况下“前”信息也可以被称为“后”信息，“后”信息也可以被称为“前”信息。
如图1至图3所示，本发明实施例提供了一种靶材制备电动辅助装置，其包括机架1以及设于机架1上的直线导轨2和安装座，具体而言，直线导轨2竖直设置，直线导轨2上设有可沿其滑动的滑块3，安装座包括顶座4和底座5，其中顶座4与滑块3固定连接，顶座4上设有若干个插拔气缸6，底座5上则设有与插拔气缸6的输出轴相连接的推拉杆7，底座5上还设有旋转电机9和旋转盘13，旋转电机9通过传动组件与旋转盘13传动连接，旋转盘13上还设有竖直设置的插杆15。
基于上述结构，由于安装座与滑块3固定连接，滑块3在直线导轨2上的滑动同样会带动安装座上的各结构上下滑动，因此使用时向上滑动滑块3，底座5上的插杆15向上升起，机架1的底部空间被空出，在机架1的底板上设置模具19，调整模具19的位置使插杆15与模具19的模腔对齐，向模腔内填充原料粉末，向下滑动滑块3，随着滑块3的滑动插杆15向下运动并最终插入模具19的模腔中。当插杆15接触原料粉末时停止滑块3的滑动，启动旋转电机9，旋转盘13在旋转电机9的驱动下发生转动，固定在旋转盘13上的插杆15也随着旋转盘13的转动发生转动，进而对模腔内的原料粉末进行搅动；进一步的，当模腔内的粉末被插杆15搅拌均匀时需要对粉末进行进一步的压实处理，此时启动插拔气缸6，插拔气缸6推动推拉杆7上下运动，推拉杆7的运动带动底座5上下运动，旋转盘13上的插杆15也在底座5的带动下上下运动实现对原料粉末的压实。如此，该靶材制备电动辅助装置使得插杆15既可在模腔内转动又可以上下运动，插杆15在机械结构的驱动下进行转动和插拔动作即可使模腔里的粉末分布均匀并压实，与人工操作相比更为可靠，操作起来更加方便；插杆15的转动与上下运动均受到机械控制，与人工操作相比施工精度更高，避免了插杆15接触到模具19内壁，能够有效提升产品的合格率。
需要注意的是，在本发明实施例中，直线导轨2的顶部还设有驱动电机，驱动电机通过丝杆等结构与滑块3相连接，滑块3可在驱动电机的驱动下实现沿直线导轨2的上下滑动。当然对于本申请的滑块3而言，实现其在直线导轨2上滑动的动力装置并不仅限于驱动电机，本申请中优选驱动电机是因为驱动电机可以与直线导轨2和滑块3等组合形成较为常见的电动滑台结构，有利于控制制作成本。
具体而言，在本发明实施例中，旋转盘13通过深沟球轴承座12设于底座5上，传动组件包括设于旋转盘13主轴上的第一齿轮10和设于旋转电机9输出轴上的第二齿轮11，第一齿轮10和第二齿轮11相啮合。
进一步的，为了提升该装置对模腔内原料粉末的处理效率，对于本申请中的插杆15而言，其可以设有两个以上，此时各插杆15沿旋转盘13的周向均匀设置，通过旋转盘13的运动带动各插杆15同时运动，以保证各插杆15之间的行动协调性。具体而言，在本发明实施例中，插杆15设有四根，四根插杆15沿旋转盘13的周向均匀设置。而为了进一步减少旋转盘13的结构自重，旋转盘13设为十字形结构，四根插杆15则一一设置于十字形旋转盘13的各条边上。
进一步的，为了提升插杆15在旋转盘13上的稳定性，旋转盘13上设有第一直线轴承14，插杆15通过第一直线轴承14与旋转盘13相连接。显然，模腔内的原料粉末在倒入时经常产生高度不齐的情况，这就导致多根插杆15同时插入时会出现部分插杆15已经与原料粉末接触而其他插杆15还未与粉末接触的情况，第一直线轴承14的设置使得插杆15可在第一直线轴承14内进行有限的上下滑动，先与粉末接触的插杆15可在第一直线轴承14内向上滑动一段距离，也就有效避免了先行与粉末接触的插杆15对整个运动行程的阻挡，保证各插杆15均能与粉末得到良好的接触。进一步的，与粉末接触的插杆15在具有向第一直线轴承14收缩的前提下还应当具有从第一直线轴承14内伸出的能力，因此，为了实现这一效果，插杆15上套设有压缩弹簧16和固定环17，固定环17位于所述压缩弹簧16的下方并与插杆15固定连接。压缩弹簧16的两端分别是固定环17和旋转盘13，插杆15的收缩带动固定环17向上运动，固定环17的向上运动则会进一步挤压压缩弹簧16，此时压缩弹簧16具有扩张的趋势，当与插杆15相接触的粉末消失时，固定环17在压缩弹簧16的挤压下再次向下回落，使得插杆15重新从第一直线轴承14内伸出。弹簧的设置有效保证了插杆15对粉末的压实效果，操作人员可以通过调节固定环17的位置来调整压缩弹簧16的强度，进而调节插杆15压实粉末的力度。
与上述结构相似的，顶座4和底座5之间设有第二直线轴承8，推拉杆7穿设于第二直线轴承8内并与插拔气缸6的输出轴相连接。启动插拔气缸6推动推拉杆7即可实现插杆15在上下方向的运动，第二直线轴承8的设置进一步提升了顶座4与底座5之间的连接稳定性，通过第二直线轴承8控制推拉杆7的行程，推拉杆7的运动更加稳定可靠。
另外，为了保证模具19在机架1上的稳定，避免其在使用时发生偏移影响成本质量，在本申请的一些实施例中，机架1的底板上设有长方体定位块18，定位块18设有两个以上，各定位块18均与模具19的外侧壁相抵接，能够稳定的将模具19固定在机架1的底板上，避免其发生偏移，防止插杆15在运动时剐蹭模具19内腔。
综上所述，本发明提供了一种靶材制备电动辅助装置，其包括机架以及设于机架上的直线导轨和安装座，直线导轨竖直设置，直线导轨上设有可沿其滑动的滑块，安装座包括顶座和底座，其中顶座与滑块固定连接，顶座上设有若干个插拔气缸，底座上则设有与插拔气缸的输出轴相连接的推拉杆，底座上还设有旋转电机和旋转盘，旋转电机通过第一齿轮和第二齿轮与旋转盘传动连接，旋转盘上设有四根竖直设置的插杆，插杆通过第一直线轴承与旋转盘相连接。与现有技术相比，该靶材制备电动辅助装置能够代替人工实现插杆的转动和上下运动，结构稳定可靠、易于操作；插杆的转动与上下运动均受到机械控制，与人工操作相比施工精度更高，避免了插杆接触到模具内壁，能够有效提升产品的合格率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种靶材制备电动辅助装置，其特征在于，包括：
机架，所述机架设有竖直设置的直线导轨，所述直线导轨上设有可沿其滑动的滑块：
安装座，所述安装座包括顶座和底座，所述顶座与所述滑块固定连接，所述顶座设有插拔气缸，所述底座设有与所述插拔气缸的输出轴相连接的推拉杆，所述底座设有旋转电机和旋转盘，所述旋转电机通过传动组件与所述旋转盘传动连接，所述旋转盘上设有竖直设置的插杆。
2.根据权利要求1所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述传动组件包括设于所述旋转盘主轴上的第一齿轮和设于所述旋转电机输出轴上的第二齿轮，所述第一齿轮和所述第二齿轮相啮合。
3.根据权利要求1所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述插杆设有两根以上，各所述插杆沿所述旋转盘的周向均匀设置。
4.根据权利要求3所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述旋转盘呈十字形设置，所述插杆设有四根，四根所述插杆沿所述旋转盘的周向均匀设置。
5.根据权利要求1所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述旋转盘上设有第一直线轴承，所述插杆通过所述第一直线轴承与所述旋转盘相连接。
6.根据权利要求5所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述插杆上套设有压缩弹簧和固定环，所述固定环位于所述压缩弹簧的下方并与所述插杆固定连接。
7.根据权利要求1所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述底座上设有第二直线轴承，所述推拉杆通过所述第二直线轴承与所述底座相连接。
8.根据权利要求1所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述机架的底板上设有用于固定模具的定位块。
9.根据权利要求8所述的靶材制备电动辅助装置，其特征在于，所述定位块设有两个以上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110950186.7A CN113463047B (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110950186.7A CN113463047B (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113463047A true CN113463047A (zh) | 2021-10-01 |
| CN113463047B CN113463047B (zh) | 2024-09-24 |
Family
ID=77866791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110950186.7A Active CN113463047B (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113463047B (zh) |
Citations (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726372A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Asahi Glass Co Ltd | 回転カソードターゲットとその製法及び該ターゲットにより成膜される膜 |
| JPH0726374A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Asahi Glass Co Ltd | 回転カソードターゲット、その製法、および該ターゲットを用いて形成される膜 |
| US5993734A (en) * | 1998-03-25 | 1999-11-30 | Sony Corporation | Method for making W/Ti sputtering targets and products in an inert atmosphere |
| WO2003057136A2 (en) * | 2001-12-24 | 2003-07-17 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Dosage form with a core tablet of active ingredient sheathed in a compressed annular body of powder or granular material, and process and tooling for producing it |
| JP2005226108A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Mitsubishi Electric Corp | リング型焼結磁石の製造方法及び製造装置 |
| WO2006082760A1 (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-10 | Tosoh Corporation | 焼結体、スパッタリングターゲット及び成形型並びにそれを用いた焼結体の製造方法 |
| JP2007039775A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Miyagi Prefecture | 粉末積層体の製造方法、およびこれを用いた焼結体の製造方法ならびに、これらを用いた焼結体の製造システム |
| DE102005043874A1 (de) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Mitsubishi Denki K.K. | Gesinterter Ringmagnet und Verfahren zum Herstellen von gesinterten Ringmagneten |
| CN101698934A (zh) * | 2009-10-23 | 2010-04-28 | 武汉大学 | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统 |
| JP2011127138A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Mitsubishi Materials Corp | 円筒型スパッタリングターゲット製造方法 |
| JP2011225985A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Hitachi Metals Ltd | 円筒型Ｍｏ合金ターゲットの製造方法 |
| WO2012146302A1 (en) * | 2011-04-29 | 2012-11-01 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Method of forming a cylindrical sputter target assembly |
| US20130186745A1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | Leonard Nanis | Amalgam method for forming a sputter target useful in the manufacture of thin-film solar photovoltaic cells |
| CN103814151A (zh) * | 2011-06-27 | 2014-05-21 | 梭莱有限公司 | 溅射靶 |
| WO2014131458A1 (en) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Applied Materials, Inc. | Gapless rotary target and method of manufacturing thereof |
| JP2015036448A (ja) * | 2013-08-14 | 2015-02-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 円筒形セラミックス体の加工方法および円筒形スパッタリングターゲット |
| CN104480437A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-01 | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 | 一体成型管靶的生产方法 |
| KR20150061185A (ko) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 한순석 | 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리 접합방법 및 이의 접합방법에 의해 제조된 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리 |
| CN205019993U (zh) * | 2015-08-19 | 2016-02-10 | 宁波凌珂新材料科技有限公司 | 磁环成形模具用粉末搅拌装置 |
| JP2017057493A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 円筒形ターゲットの製造方法及びその製造方法に用いる粉末焼結用モールド |
| CN107532285A (zh) * | 2015-02-13 | 2018-01-02 | Ｊｘ金属株式会社 | 溅射靶及其制造方法 |
| CN109231997A (zh) * | 2018-09-04 | 2019-01-18 | 房孝兰 | 一种复合陶瓷靶的制造设备 |
| CN110842193A (zh) * | 2019-11-11 | 2020-02-28 | 昆明理工大学 | 一种高效粉末装填装置及其控制方法 |
| CN111390163A (zh) * | 2020-04-26 | 2020-07-10 | 浙江凯文磁业有限公司 | 一种用于制备高性能径向环钕磁体的成型模具及方法 |
| KR20200114161A (ko) * | 2019-03-27 | 2020-10-07 | 주식회사 동남케이티씨 | 엑스선관용 회전양극타겟 제작방법 및 회전양극타겟 |
| CN212763990U (zh) * | 2020-07-22 | 2021-03-23 | 兴城凤鸣科技有限公司 | 一种新型粉末成型机 |
| CN112871057A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-01 | 杨凌剑 | 一种新型墙体材料加工设备 |
| CN112899628A (zh) * | 2021-01-18 | 2021-06-04 | 福建阿石创新材料股份有限公司 | 一种可均匀溅射旋转硅靶材及其制备方法 |
| CN215887209U (zh) * | 2021-08-18 | 2022-02-22 | 广东先导稀材股份有限公司 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
-
2021
- 2021-08-18 CN CN202110950186.7A patent/CN113463047B/zh active Active
Patent Citations (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726372A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Asahi Glass Co Ltd | 回転カソードターゲットとその製法及び該ターゲットにより成膜される膜 |
| JPH0726374A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Asahi Glass Co Ltd | 回転カソードターゲット、その製法、および該ターゲットを用いて形成される膜 |
| US5993734A (en) * | 1998-03-25 | 1999-11-30 | Sony Corporation | Method for making W/Ti sputtering targets and products in an inert atmosphere |
| WO2003057136A2 (en) * | 2001-12-24 | 2003-07-17 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Dosage form with a core tablet of active ingredient sheathed in a compressed annular body of powder or granular material, and process and tooling for producing it |
| JP2005226108A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Mitsubishi Electric Corp | リング型焼結磁石の製造方法及び製造装置 |
| WO2006082760A1 (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-10 | Tosoh Corporation | 焼結体、スパッタリングターゲット及び成形型並びにそれを用いた焼結体の製造方法 |
| JP2007039775A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Miyagi Prefecture | 粉末積層体の製造方法、およびこれを用いた焼結体の製造方法ならびに、これらを用いた焼結体の製造システム |
| DE102005043874A1 (de) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Mitsubishi Denki K.K. | Gesinterter Ringmagnet und Verfahren zum Herstellen von gesinterten Ringmagneten |
| CN101698934A (zh) * | 2009-10-23 | 2010-04-28 | 武汉大学 | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统 |
| JP2011127138A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Mitsubishi Materials Corp | 円筒型スパッタリングターゲット製造方法 |
| JP2011225985A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Hitachi Metals Ltd | 円筒型Ｍｏ合金ターゲットの製造方法 |
| WO2012146302A1 (en) * | 2011-04-29 | 2012-11-01 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Method of forming a cylindrical sputter target assembly |
| CN103814151A (zh) * | 2011-06-27 | 2014-05-21 | 梭莱有限公司 | 溅射靶 |
| US20130186745A1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | Leonard Nanis | Amalgam method for forming a sputter target useful in the manufacture of thin-film solar photovoltaic cells |
| WO2014131458A1 (en) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Applied Materials, Inc. | Gapless rotary target and method of manufacturing thereof |
| JP2015036448A (ja) * | 2013-08-14 | 2015-02-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 円筒形セラミックス体の加工方法および円筒形スパッタリングターゲット |
| KR20150061185A (ko) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 한순석 | 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리 접합방법 및 이의 접합방법에 의해 제조된 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리 |
| CN104480437A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-01 | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 | 一体成型管靶的生产方法 |
| CN107532285A (zh) * | 2015-02-13 | 2018-01-02 | Ｊｘ金属株式会社 | 溅射靶及其制造方法 |
| CN205019993U (zh) * | 2015-08-19 | 2016-02-10 | 宁波凌珂新材料科技有限公司 | 磁环成形模具用粉末搅拌装置 |
| JP2017057493A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 円筒形ターゲットの製造方法及びその製造方法に用いる粉末焼結用モールド |
| CN109231997A (zh) * | 2018-09-04 | 2019-01-18 | 房孝兰 | 一种复合陶瓷靶的制造设备 |
| KR20200114161A (ko) * | 2019-03-27 | 2020-10-07 | 주식회사 동남케이티씨 | 엑스선관용 회전양극타겟 제작방법 및 회전양극타겟 |
| CN110842193A (zh) * | 2019-11-11 | 2020-02-28 | 昆明理工大学 | 一种高效粉末装填装置及其控制方法 |
| CN111390163A (zh) * | 2020-04-26 | 2020-07-10 | 浙江凯文磁业有限公司 | 一种用于制备高性能径向环钕磁体的成型模具及方法 |
| CN212763990U (zh) * | 2020-07-22 | 2021-03-23 | 兴城凤鸣科技有限公司 | 一种新型粉末成型机 |
| CN112899628A (zh) * | 2021-01-18 | 2021-06-04 | 福建阿石创新材料股份有限公司 | 一种可均匀溅射旋转硅靶材及其制备方法 |
| CN112871057A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-01 | 杨凌剑 | 一种新型墙体材料加工设备 |
| CN215887209U (zh) * | 2021-08-18 | 2022-02-22 | 广东先导稀材股份有限公司 | 一种靶材制备电动辅助装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 王松;谢明;王塞北;杨云峰;付作鑫;: "高密度氧化铟锡(ITO)靶材制备工艺的研究进展", 材料导报, no. 1, 25 May 2013 (2013-05-25) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113463047B (zh) | 2024-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN215887209U (zh) | 一种靶材制备电动辅助装置 | |
| US7901200B2 (en) | Molding apparatus | |
| CN105346090A (zh) | 一种带有密封装置的成型平台 | |
| CN115223788B (zh) | 一种磁体压制固化联动的生产装置 | |
| CN114619029B (zh) | 一种粉末冶金生产用压制模具 | |
| CN113463047A (zh) | 一种靶材制备电动辅助装置 | |
| CN214078820U (zh) | 一种自动下料成型装置 | |
| CN112387965A (zh) | 一种强磁粉末成型装置及方法 | |
| CN204707907U (zh) | 一种迷你茶砖压茶机供料抹料机构 | |
| CN215749802U (zh) | 一种多元共振式制坯机 | |
| CN116117967A (zh) | 一种陶瓷浮雕滚压装置 | |
| CN214927384U (zh) | 一种压粉装置 | |
| CN219121827U (zh) | 一种水泥胶砂试体振实台 | |
| CN219836424U (zh) | 一种药品生产用搅拌设备 | |
| CN115284665B (zh) | 一种锰锌铁氧体磁芯的成型模具 | |
| CN114628141B (zh) | 空心圆柱烧结钕铁硼磁铁直接成型装置及成型方法 | |
| CN219944635U (zh) | 一种直线式平面压实机构 | |
| CN217990934U (zh) | 一种粘结钕铁硼磁体生产用压制装置 | |
| CN217169035U (zh) | 混凝土快速密实装置 | |
| KR101415581B1 (ko) | 시멘트몰탈 재질의 스페이서 제조기의 몰탈공급장치 | |
| KR100509265B1 (ko) | 분말성형 방법 및 이에 이용되는 로터리프레스 장치 | |
| CN115138840B (zh) | 一种粉末成型方法 | |
| CN118184113A (zh) | 一种石英坩埚制备用成型装置 | |
| CN219469094U (zh) | 摊粉设备中刮板总成 | |
| CN219900248U (zh) | 一种全电驱动的四柱导向式磁场压力成型压机 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20231116 Address after: 221000 North Fifth Ring Road, West Tongchuang Road, No.1 Qianfeng South Road, High tech Industrial Development Zone, Xuzhou City, Jiangsu Province Applicant after: Pioneer Electronic Technology Co.,Ltd. Address before: Industrial Zone, Heyun Town, Qingxin District, Qingyuan City, Guangdong Province Applicant before: FIRST RARE MATERIALS Co.,Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |