JP5678671B2 - クリーニング方法およびクリーニング装置 - Google Patents
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Description
11 EUV光源
12 EUV露光光束
13 照明光学系
14、15、16 照明ミラー
17 折り返しミラー
21 マスク
22 マスクステージ
23 ウエハ
24 ウエハステージ
25 チャンバ
26A、26B、26C、26D ポンプ
31、32、33、34、35、36 投影ミラー
37 投影光学系
40 クリーニング装置
41 多層膜ミラー
42 ステージ
43 処理室
44 炭素コンタミネーション
45 水銀ランプ
46 光照射装置
47 ウインドウ
48 ヒータ
51 酸素供給源
52 不飽和炭化水素供給源
53a、53b 配管
54 排気装置
55a、55b バルブ
61 基板
62 多層膜
63 キャッピング層
64 バッファー層
65 吸収体
66 メタル層
72 基板
73 多層膜
74 キャッピング層
Claims (8)
- 被処理部材の近傍に酸素ガスと不飽和炭化水素ガスとを含む混合ガスを供給し、前記混合ガスに深紫外光および/または真空紫外光を照射することにより、前記被処理部材の表面の炭素コンタミネーションを分解・除去することを特徴とするクリーニング方法。
- 前記不飽和炭化水素ガスは、エチレンガスであることを特徴とする請求項1記載のクリーニング方法。
- 前記混合ガスは、前記酸素ガスと前記不飽和炭化水素ガスのモル比が、酸素ガス:不飽和炭化水素ガス=1:1×10-3〜1の範囲であることを特徴とする請求項1記載のクリーニング方法。
- 被処理部材の表面の炭素コンタミネーションを分解・除去するクリーニング装置であって、
前記被処理部材を収容する処理室と、前記処理室の内部に深紫外光および/または真空紫外光を照射する光照射装置と、前記処理室の内部に酸素ガスと不飽和炭化水素ガスとを含む混合ガスを供給するガス供給源とを備えていることを特徴とするクリーニング装置。 - 前記不飽和炭化水素ガスは、エチレンガスであることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記混合ガスは、前記酸素ガスと前記不飽和炭化水素ガスのモル比が、酸素ガス:不飽和炭化水素ガス=1:1×10-3〜1の範囲であることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記光照射装置は、前記深紫外光を発する水銀ランプ、前記深紫外光を発するKrClエキシマランプ、前記真空紫外光を発するXe2エキシマランプのうち、いずれか1種以上を備えていることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記被処理部材を所定の温度に加熱する加熱装置をさらに備えていることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
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