JP4359598B2 - 光学要素上の付着物の除去方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びこれによって製造されたデバイス - Google Patents
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- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Description
・ジュウテリウムは一般にボトルで入手可能である。
・取扱いは水素と同様である。
・ジュウテリウムの使用の費用はそれほど高くない。ジュウテリウムは、200bar、50リットルのボトル入りで、約1000ユーロで購入できる。含量はしたがって10000標準リットルである。クリーニングを実行するための一般的な流束は1000mbar l/秒である(圧力10mbarで100l/秒ポンピングする)。1本のボトルは10000秒で空になる。1回のクリーニング・サイクルに一般に300秒かかるとき、これは、30クリーニング・サイクルを1本のボトルで実行することができることを意味する。ツールは約100回クリーニングしなければならず、したがってツールの寿命が尽きるまでのジュウテリウム消費の総費用は3000ユーロである。水素を使用する場合の同様の計算では1000ユーロになる。
・原子ジュウテリウムの反応性は水素よりも高いと予想される。
IL 照明系(照明器)
B 放射ビーム
MA パターン形成手段(マスク)
M1 マスク・アライメント・マーク
M2 マスク・アライメント・マーク
IF1 位置センサ
MT 支持体(マスク・テーブル)
PM 第1の位置決め装置
PS 投影系(反射投影レンズ)
W 基板(ウェーハ)
P1 基板アライメント・マーク
P2 基板アライメント・マーク
IF2 位置センサ
WT 基板テーブル(ウェーハ・テーブル)
PW 第2の位置決め装置
C 標的部分
O 光軸
1 リソグラフィ装置
2(1) 排出口/注入口
2(2) 排出口/注入口
6(1) ガス供給源(ポンプ)
6(2) ガス供給源(ポンプ)
29 ポンプ
31 コネクタ
35 EUV放射
38 熱源
40 コントローラ
42 放射系
44 照明光学部品ユニット
47 放射源室
48 コレクタ室
49 薄層汚染物バリヤ
49a 薄層プレート
50 放射コレクタ
50a 放射コレクタの端
50b 放射コレクタの端
51 格子スペクトル・フィルタ
52 虚放射源点
53 直入射反射器
54 直入射反射器
56 放射ビーム
57 パターンが付与されたビーム
58 反射要素
59 反射要素
110(1) フィラメント
110(2) フィラメント
120 シャッタ(バルブ、ドア、ダイアフラム)
120(1) ハーフ・ドア
120(2) ハーフ・ドア
121 ホルダ
130 シャッタ(バルブ、ドア、ダイアフラム)
130(1) ハーフ・ドア
130(2) ハーフ・ドア
131 ホルダ
142 内側反射器
143 内側反射器
146 外側反射器
149 薄層汚染物バリヤ
170 支持要素
171 ガイド
172 支持要素
180 ミラー間の空間
200 覆い
201 軸
202 冷却装置
Claims (30)
- リソグラフィ装置の放射コレクタ上の付着物の除去方法であって、
前記放射コレクタの端にガス・バリヤを配置し、それによって放射コレクタ・エンクロージャ容積を与える段階と、
ハロゲンを含むガスと、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスとからなるグループのうちの1種又は数種のガスから選択されたガスを、前記放射コレクタ・エンクロージャ容積に供給する段階と、
前記付着物の少なくとも一部分を前記放射コレクタから除去する段階と
を含み、
前記リソグラフィ装置がさらに、放射源と、前記放射源と前記放射コレクタの間の薄層汚染物バリヤとを含み、
前記薄層汚染物バリヤと前記放射コレクタの間の距離が増大するように前記放射コレクタを輸送する段階と、
前記薄層汚染物バリヤと前記放射コレクタの間の前記エンクロージャ容積にシャッタを配置する段階とをさらに含む、方法。 - 前記ガス・バリヤが薄層汚染物バリヤ又はシャッタである、請求項1に記載の方法。
- 前記ガスが、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスを含み、
前記水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスから、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウム・ラジカルを生じさせる段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記ガスがI2を含むガスを含む、請求項1に記載の方法。
- 水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスを供給する段階と、
水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスから、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウム・ラジカルを生じさせる段階と、
続いてハロゲンを含むガスを供給する段階とをさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記ガスが、複数の注入点を通して前記エンクロージャ容積に供給される、請求項1に記載の方法。
- 前記付着物が、B、C、Si、Ge及びSn並びにこれらの組合せからなるグループから選択された1種又は数種の元素を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積を加熱する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積内に加熱フィラメントを配置する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積及び/又は前記ガスの少なくとも一部分を加熱する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積及び/又は前記放射コレクタ・エンクロージャ容積からの排出ガスの少なくとも一部分を冷却する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積内にゲッタ材料を配置する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積の外側の圧力を、前記エンクロージャ容積の内側よりも0.1〜2000mbar高くする段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記放射コレクタを取り囲む円周覆いを配置する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記放射コレクタがコレクタ・ミラーを含む、請求項1に記載の方法。
- 放射コレクタを備えたリソグラフィ装置を用意する段階と、
基板の標的部分にパターン形成された放射ビームを投影する段階と、
前記リソグラフィ装置の使用中又は使用後に、除去プロセスにおいて、前記放射コレクタから付着物の少なくとも一部分を除去する段階と
を含み、前記除去プロセスが、
前記放射コレクタの一端又は両端に1つ又は複数のガス・バリヤを配置し、それによって放射コレクタ・エンクロージャ容積を与える段階と、
ハロゲンを含むガスと、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスとからなるグループのうちの1種又は数種のガスから選択されたガスを、前記放射コレクタ・エンクロージャ容積に供給する段階と、
前記付着物の少なくとも一部分を前記放射コレクタから除去する段階と
を含み、
前記リソグラフィ装置がさらに、放射源と、前記放射源と前記放射コレクタの間の薄層汚染物バリヤとを備え、
前記薄層汚染物バリヤと前記放射コレクタの間の距離が増大するように前記放射コレクタを輸送する段階と、
前記薄層汚染物バリヤと前記放射コレクタの間の前記エンクロージャ容積にシャッタを配置する段階とをさらに含む、デバイス製造方法。 - 前記ガス・バリヤが薄層汚染物バリヤ又はシャッタである、請求項16に記載の方法。
- 前記ガスが、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスを含み、
前記水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスから、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウム・ラジカルを生じさせる段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。 - 前記ガスがI2を含むガスを含む、請求項16に記載の方法。
- 水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスを供給する段階と、
前記水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスから、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウム・ラジカルを生じさせる段階と、
続いてハロゲンを含むガスを供給する段階とをさらに含む、請求項16に記載の方法。 - 前記ガスが、複数の注入点を通して前記エンクロージャ容積に供給される、請求項16に記載の方法。
- 前記付着物が、B、C、Si、Ge及びSn並びにこれらの組合せからなるグループから選択された1種又は数種の元素を含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積を加熱する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積内に加熱フィラメントを配置する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積及び/又は前記ガスの少なくとも一部分を加熱する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積及び/又は前記エンクロージャ容積からの排出ガスの少なくとも一部分を冷却する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積内にゲッタ材料を配置する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記エンクロージャ容積の外側の圧力を、前記エンクロージャ容積の内側よりも0.1〜2000mbar高くする段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記放射コレクタを取り囲む円周覆いを配置する段階をさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記放射コレクタがコレクタ・ミラーを含む、請求項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/051,477 US7868304B2 (en) | 2005-02-07 | 2005-02-07 | Method for removal of deposition on an optical element, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006222426A JP2006222426A (ja) | 2006-08-24 |
JP4359598B2 true JP4359598B2 (ja) | 2009-11-04 |
Family
ID=36779048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006028417A Expired - Fee Related JP4359598B2 (ja) | 2005-02-07 | 2006-02-06 | 光学要素上の付着物の除去方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びこれによって製造されたデバイス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7868304B2 (ja) |
JP (1) | JP4359598B2 (ja) |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2005
- 2005-02-07 US US11/051,477 patent/US7868304B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-02-06 JP JP2006028417A patent/JP4359598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7868304B2 (en) | 2011-01-11 |
JP2006222426A (ja) | 2006-08-24 |
US20060175558A1 (en) | 2006-08-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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